一种升级半导体化学品纯度的有机相电磁场渗析工艺制造技术

一种升级半导体化学品纯度的有机相电磁场渗析工艺，包括如下步骤：前期准备、原料准备、制备，所述前期准备为组建电磁场渗析装置；所述电磁场渗析装置，包括膜堆、阳极板、阴极板；所述阳极板、阴极板分别位于所述膜堆两侧，所述阳极板与所述膜堆之间设置有阳极池，所述膜堆、阴极板之间设置有阴极池；所述膜堆内设置有两个单元电渗析池；所述单元电渗析池的结构相同；本发明专利技术所述的升级半导体化学品纯度的有机相电磁场渗析工艺，在生产成本上，电耗远低于传统生产工艺电膜反应器法，在过程平均电流效率方面，高于电膜反应器法30%，在纯度方面，该工艺提高了纯度，应用前景广泛。

An organic phase electrodialysis process for upgrading the purity of semiconductor chemicals

【技术实现步骤摘要】
一种升级半导体化学品纯度的有机相电磁场渗析工艺
本专利技术属于化学品制备工艺
，具体涉及一种升级半导体化学品纯度的有机相电磁场渗析工艺。
技术介绍
半导体，指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体在收音机、电视机以及测温上有着广泛的应用。如二极管就是采用半导体制作的器件。半导体是指一种导电性可受控制，范围可从绝缘体至导体之间的材料。无论从科技或是经济发展的角度来看，半导体的重要性都是非常巨大的。今日大部分的电子产品，如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关连。常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等，而硅更是各种半导体材料中，在商业应用上最具有影响力的一种。如今，半导体集成度已提高到亚微领域，以致半导体制造过程中,配线和氧化膜上附着的污染物(灰尘、金属离子等)会引起断路、短路、或绝缘耐压不足等故障。因此，需采用化学品洗涤及光致抗蚀剂剥离等工序，半导休制造工艺中化学品主要用在洗涤(含干燥)、光印刷和蚀刻等工序，集成度(位/芯片)、图形尺寸（μm）对化学品纯度(金属杂质和粒子)提出一定的要求,要求各本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电磁场渗析装置，其特征在于：包括膜堆（1）、阳极板（2）以及阴极板（3）；所述阳极板（2）、阴极板（3）分别位于膜堆（1）两侧，所述阳极板（2）、膜堆（1）之间设置有阳极池（21），所述膜堆（1）、阴极板（3）之间设置有阴极池（31）；所述膜堆（1）内设有两个单元电渗析池（11）；所述单元电渗析池（11）从左到右包括液室（111）、酸室（112）、料室（113）以及碱室（114）。/n

【技术特征摘要】
1.一种电磁场渗析装置，其特征在于：包括膜堆（1）、阳极板（2）以及阴极板（3）；所述阳极板（2）、阴极板（3）分别位于膜堆（1）两侧，所述阳极板（2）、膜堆（1）之间设置有阳极池（21），所述膜堆（1）、阴极板（3）之间设置有阴极池（31）；所述膜堆（1）内设有两个单元电渗析池（11）；所述单元电渗析池（11）从左到右包括液室（111）、酸室（112）、料室（113）以及碱室（114）。


2.根据权利要求1所述的一种电磁场渗析装置，其特征在于：所述单元电渗析池（11）还包括膜组（115），所述膜组（115）包括双极膜一（1151）、阳离子交换膜一（1152）、阴离子交换膜（1153）、阳离子交换膜二（1154）以及双极膜二（1155）；所述双极膜一（1151）设置在液室（111）内；所述阳离子交换膜一（1152）设置在酸室（112）内；所述阴离子交换膜（1153）设置在料室（113）内；所述阳离子交换膜二（1154）设置在碱室（114）内；所述双极膜二（1155）设置在阴极池（31）内。


3.根据权利要求1所述的一种电磁场渗析装置，其特征在于：所述液室（111）与酸室（112）之间设有隔板（116）；所述酸室（112）与料室（113）之间设有隔板（116）；所述料室（113）与碱室（114）之间设有隔板（116）；所述碱室（114）与阴极池（31）之间设有隔板（116）。


4.根据权利要求3所述的一种电磁场渗析装置，其特征在于：所述隔板（116）的厚度为0.7mm。


5.根据权利要求1所述的一种电磁场渗析装置，其特征在于：所述阳极板（2）、阴极板（3）均为钛锻钌材料。


6.根据权利要求2所述的一种电磁...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋太沧，唐斌，樊振寿，
申请(专利权)人：雅邦绿色过程与新材料研究院南京有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32