光强的调整方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种光强的调整方法及装置。其中，该方法应用于作业设备中，作业设备包括遮光结构，该遮光结构上设置有光源阵列，方法包括：获取作业设备在移动过程中遮光结构所覆盖目标区域的环境光强信息；基于环境光强信息生成目标区域的光强分布信息；基于光强分布信息确定目标区域的全局补光参数，其中，全局补光参数用于对目标区域内的全部光强分布点区域进行补光；依据全局补光参数调整光源阵列的光照强度。本发明专利技术解决了相关技术中进行图像采集方案无法适应移动作业情况的技术问题。

Adjustment method and device of light intensity

【技术实现步骤摘要】
光强的调整方法及装置
本专利技术涉及补光领域，具体而言，涉及一种光强的调整方法及装置。
技术介绍
摄像机的出现让记录光学信息成为可能，但其应用一直受到一个限制，就是在不确定性高的环境光中，出现曝光不均匀的情况。这种情况严重损害了成像质量，不仅在美观上无法满足人们的要求，在工业自动化应用上也无法满足需求。在移动作业领域，往往需要实时地采集图像，以调整作业策略，例如，调整作业的路径、作业的药物喷洒量等，但是，由于其作业环境是动态变化的，会对图像的识别造成影响，因此，目前的方案无法适应移动作业情况。针对上述的问题，目前尚未提出有效的解决方案。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种光强的调整方法及装置，以至少解决相关技术中进行图像采集方案无法适应移动作业情况的技术问题。根据本专利技术实施例的一个方面，提供了一种光强的调整方法，该方法应用于作业设备中，作业设备包括遮光结构，该遮光结构上设置有光源阵列，方法包括：获取作业设备在移动过程中遮光结构所覆盖目标区域的环境光强信息；基于环境光强信息生成目标区域的光强分布信息；基于光强分布信息确定目标区域的全局补光参数，其中，全局补光参数用于对目标区域内的全部光强分布点区域进行补光；依据全局补光参数调整光源阵列的光照强度。可选地，基于环境光强信息生成目标区域的光强分布信息，包括：基于环境光强信息生成目标区域的光强分布图，其中，光强分布图中每个像素点对应光源阵列中一个光源单元所在位置下的环境光强信息。可选地，基于光强分布信息确定目标区域的全局补光参数，包括：确定目标区域中各个采样点的光强值；从各个采样点的光强值中选择一个光强值，作为基准光强值；确定基准光强值与其他光强值的差值，得到多个差值；基于多个差值确定全局补光参数。可选地，从各个采样点的光强值中选择一个光强值，作为基准光强值，包括：比较各个采样点的光强值之间的大小，得到最大光强值，将最大光强值作为基准光强值。可选地，依据全局补光参数调整光源阵列的光照强度，包括：依据全局补光参数确定光源阵列中需要调整的光源单元；控制光源单元开启或关闭。可选地，基于光强分布信息确定目标区域的全局补光参数之前，方法还包括：确定作业设备在目标区域的上一个相邻区域中的光强分布信息；确定上一个相邻区域中的光强分布信息和目标区域的光强部分信息的差异；在差异满足预设条件时，触发确定全局补光参数。根据本专利技术实施例的一个方面，提供了一种作业设备，该作业设备包括：遮光结构，该遮光结构上设置有光源阵列；光强采集设备，用于获取作业设备在移动过程中遮光结构所覆盖目标区域的环境光强信息；处理器，用于基于环境光强信息生成目标区域的光强分布信息；基于光强分布信息确定目标区域的全局补光参数，其中，全局补光参数用于对目标区域内的全部光强分布点区域进行补光；依据全局补光参数调整光源阵列的光照强度。根据本专利技术实施例的一个方面，提供了一种光强的调整装置，应用于作业设备中，作业设备包括遮光结构，该遮光结构上设置有光源阵列，调整装置包括：获取模块，用于获取作业设备在移动过程中遮光结构所覆盖目标区域的环境光强信息；生成模块，用于基于环境光强信息生成目标区域的光强分布信息；确定模块，用于基于光强分布信息确定目标区域的全局补光参数，其中，全局补光参数用于对目标区域内的全部光强分布点区域进行补光；调整模块，用于依据全局补光参数调整光源阵列的光照强度。根据本专利技术实施例的一个方面，提供了一种非易失性存储介质，非易失性存储介质包括存储的程序，其中，在程序运行时控制非易失性存储介质所在设备执行以上所述的光强的调整方法。根据本专利技术实施例的一个方面，提供了一种处理器，处理器用于运行存储介质中的程序，其中，程序运行时执行以上所述的光强的调整方法。在本专利技术实施例中，采用根据光强分布情况以及使用的补光策略，自动生成补光控制方案，解决了相关技术中进行图像采集方案无法适应移动作业情况的技术问题。附图说明此处所说明的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，构成本申请的一部分，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1是根据本专利技术实施例的一种光强的调整方法的流程示意图；图2是根据本专利技术实施例的一种作业设备的结构示意图。图3是根据本专利技术实施例的一种作业设备的传感器、光源与相机分布样图。图4是根据本专利技术实施例的一种光强的调整装置的结构示意图。具体实施方式为了使本
的人员更好地理解本专利技术方案，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本专利技术保护的范围。需要说明的是，本专利技术的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本专利技术的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。本专利技术实施例提出一种基于主动式环境光自动控制的图像采集方式，其通过搭建一个遮光棚隔绝阳光直射，构建一个光强相对稳定均匀的棚下空间，再辅以棚下的传感器监控棚下环境的光强分布，计算获得对应的补光方案，控制棚下阵列光源进行精细补光，以最大限度实现棚下空间的光强分布均匀而稳定，从而保证图像采集质量以及对其后续智能化处理的稳定性和可靠性。因此，这个遮光棚也可以是一个可移动设备，在外界环境变化、地面环境变化导致的光强分布变化时，其依旧可以对棚下空间的光强分布进行实时自适应的稳定控制。以下结合具体实施例详细说明。根据本专利技术实施例，提供了一种光强的调整的方法实施例，需要说明的是，在附图的流程图示出的步骤可以在诸如一组计算机可执行指令的计算机系统中执行，并且，虽然在流程图中示出了逻辑顺序，但是在某些情况下，可以以不同于此处的顺序执行所示出或描述的步骤。相关技术中，摄像机在不确定性高的环境光中进行曝光时，通常会出现曝光不均匀的情况。这种情况严重损害了成像质量，不仅在美观上无法满足人们的要求，在工业自动化应用上也无法满足需求。在移动作业领域，往往需要实时地采集图像，以调整作业策略，例如，调整作业的路径、作业的药物喷洒量等，但是，由于其作业环境是动态变化的，会对图像的识别造成影响。基于上述问题，本申请实施例采用提出一种补光的光强调整方法，结合以下具体实施例进行详细说明。实施例1图1是根据本专利技术实施例的光强的调整方法，如图1所示，该方法应用于作业设备中，作业设备本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光强的调整方法，其特征在于，该方法应用于作业设备中，所述作业设备包括遮光结构，该遮光结构上设置有光源阵列，所述方法包括：/n获取所述作业设备在移动过程中所述遮光结构所覆盖目标区域的环境光强信息；/n基于所述环境光强信息生成所述目标区域的光强分布信息；/n基于所述光强分布信息确定所述目标区域的全局补光参数，其中，所述全局补光参数用于对所述目标区域内的全部光强分布点区域进行补光；/n依据所述全局补光参数调整所述光源阵列的光照强度。/n

【技术特征摘要】
1.一种光强的调整方法，其特征在于，该方法应用于作业设备中，所述作业设备包括遮光结构，该遮光结构上设置有光源阵列，所述方法包括：
获取所述作业设备在移动过程中所述遮光结构所覆盖目标区域的环境光强信息；
基于所述环境光强信息生成所述目标区域的光强分布信息；
基于所述光强分布信息确定所述目标区域的全局补光参数，其中，所述全局补光参数用于对所述目标区域内的全部光强分布点区域进行补光；
依据所述全局补光参数调整所述光源阵列的光照强度。


2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于所述环境光强信息生成所述目标区域的光强分布信息，包括：
基于所述环境光强信息生成所述目标区域的光强分布图，其中，所述光强分布图中每个像素点对应所述光源阵列中一个光源单元所在位置下的环境光强信息。


3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于所述光强分布信息确定所述目标区域的全局补光参数，包括：
确定所述目标区域中各个采样点的光强值；
从所述各个采样点的光强值中选择一个光强值，作为基准光强值；
确定所述基准光强值与其他光强值的差值，得到多个差值；
基于所述多个差值确定所述全局补光参数。


4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，从所述各个采样点的光强值中选择一个光强值，作为基准光强值，包括：
比较所述各个采样点的光强值之间的大小，得到最大光强值，将所述最大光强值作为所述基准光强值。


5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，依据所述全局补光参数调整所述光源阵列的光照强度，包括：
依据所述全局补光参数确定所述光源阵列中需要调整的光源单元；
控制所述光源单元开启或关闭。


6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于所述光强分布信息确定所...

【专利技术属性】
技术研发人员：翁立宇，刘鹏，
申请(专利权)人：广州极飞科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44