一种水基环保中性清洗液制造技术

一种水基环保中性清洗液，属于微电子材料用清洗液的技术领域，按重量百分比计，包括式I结构的烷基醇聚醚0.1‑25％、醇醚类溶剂0.1‑50％、醇类溶剂0.1‑25％，去离子水30‑99.7％，

【技术实现步骤摘要】
一种水基环保中性清洗液
本专利技术涉及微电子材料用清洗液的
，具体涉及一种水基环保中性清洗液，该清洗液适用于TFT-LCD、LED、OLED、先进封装和半导体晶圆等制造过程中基材设备表面的清洗。
技术介绍
TFT-LCD、LED、OLED、先进封装和半导体晶圆等制造工艺主要是通过光刻工艺来实现的。在整个光刻工艺中，会大量使用到光刻胶及其配套的电子化学品，在整个工艺流程中会在设备基材表面产生大量的残留杂质，需要定期对设备基材的表面进行清洗。这些残留物如不能有效去除，就会对后续工序或产品的生产造成影响。有些设备特别是需要人工来清洗。市场上的一些强碱强酸类清洗液可以去除上述残留的杂质，此类型清洗液不但对设备基材存在严重腐蚀，对人体也会造成非常大的危害，影响人体健康。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种水基环保中性清洗液，该清洗液能有效去除TFT-LCD、LED、OLED、先进封装和半导体晶圆等制造过程中基材设备表面残余物。该产品清洗效果好、润湿渗透性强、无毒无污染，可以直接人工手动擦洗。本专利技术的中的水基环保本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种水基环保中性清洗液，其特征在于，按重量百分比计，包括式I结构的烷基醇聚醚0.1-25％、醇醚类溶剂0.1-50％、醇类溶剂0.1-25％，去离子水30-99.7％，/n

【技术特征摘要】
20190809 CN 20191072479491.一种水基环保中性清洗液，其特征在于，按重量百分比计，包括式I结构的烷基醇聚醚0.1-25％、醇醚类溶剂0.1-50％、醇类溶剂0.1-25％，去离子水30-99.7％，

其中m，n均为1-50的整数。


2.根据权利要求1所述的一种水基环保中性清洗液，其特征在于，所述的醇醚类溶剂为乙二醇醚类和/或丙二醇醚类。


3.根据权利要求1所述的一种水基环保中性清洗液，其特征在于，所述的去离子水为电阻值大于2MΩ/cm的去离子水。


4...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘江华，付元涛，章小琴，
申请(专利权)人：华璞微电子科技宁波有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33