一种水基环保中性清洗液制造技术

技术编号:23187812 阅读:40 留言:0更新日期:2020-01-24 15:09
一种水基环保中性清洗液,属于微电子材料用清洗液的技术领域,按重量百分比计,包括式I结构的烷基醇聚醚0.1‑25%、醇醚类溶剂0.1‑50%、醇类溶剂0.1‑25%,去离子水30‑99.7%,

【技术实现步骤摘要】
一种水基环保中性清洗液
本专利技术涉及微电子材料用清洗液的
,具体涉及一种水基环保中性清洗液,该清洗液适用于TFT-LCD、LED、OLED、先进封装和半导体晶圆等制造过程中基材设备表面的清洗。
技术介绍
TFT-LCD、LED、OLED、先进封装和半导体晶圆等制造工艺主要是通过光刻工艺来实现的。在整个光刻工艺中,会大量使用到光刻胶及其配套的电子化学品,在整个工艺流程中会在设备基材表面产生大量的残留杂质,需要定期对设备基材的表面进行清洗。这些残留物如不能有效去除,就会对后续工序或产品的生产造成影响。有些设备特别是需要人工来清洗。市场上的一些强碱强酸类清洗液可以去除上述残留的杂质,此类型清洗液不但对设备基材存在严重腐蚀,对人体也会造成非常大的危害,影响人体健康。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种水基环保中性清洗液,该清洗液能有效去除TFT-LCD、LED、OLED、先进封装和半导体晶圆等制造过程中基材设备表面残余物。该产品清洗效果好、润湿渗透性强、无毒无污染,可以直接人工手动擦洗。本专利技术的中的水基环保中性清洗液组合物组成:a)烷基醇聚醚,b)醇醚类溶剂,c)醇类溶剂,d)高纯水。本专利技术为实现其目的采用的技术方案是:一种水基环保中性清洗液,按重量百分比计,包括式I结构的烷基醇聚醚0.1-25%(优选1-15%)、醇醚类溶剂0.1-50%(优选5-30%)、醇类溶剂0.1-25%(优选0.5-20%),去离子水30-99.7%(优选40-98%),其中m,n均为1-50的整数。所述的醇醚类溶剂为乙二醇醚和/或丙二醇醚。其中乙二醇醚较佳的为乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丙醚、乙二醇单丁醚、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、乙二醇二丙醚、乙二醇二丁醚、乙二醇甲乙醚、乙二醇甲丙醚、乙二醇甲丁醚、乙二醇乙丙醚、乙二醇乙丁醚、乙二醇丙丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丙醚、二乙二醇单丁醚、二乙二醇双甲醚、二乙二醇双乙醚、二乙二醇双丙醚、二乙二醇双丁醚、二乙二醇甲乙醚、二乙二醇甲丙醚、二乙二醇甲丁醚、二乙二醇乙丙醚、二乙二醇乙丁醚、二乙二醇丙丁醚、三乙二醇单甲醚、三乙二醇单乙醚、三乙二醇单丙醚、三乙二醇单丁醚、三乙二醇双甲醚、三乙二醇双乙醚、三乙二醇双丙醚、三乙二醇双丁醚、三乙二醇甲乙醚、三乙二醇甲丙醚、三乙二醇甲丁醚、三乙二醇乙丙醚、三乙二醇乙丁醚、三乙二醇丙丁醚、中的一种或几种;其中丙二醇醚较佳的为丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丙醚、丙二醇单丁醚、丙二醇二甲醚、丙二醇二乙醚、丙二醇二丙醚、丙二醇二丁醚、丙二醇甲乙醚、丙二醇甲丙醚、丙二醇甲丁醚、丙二醇乙丙醚、丙二醇乙丁醚、丙二醇丙丁醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单丙醚、二丙二醇单丁醚、二丙二醇双甲醚、二丙二醇双乙醚、二丙二醇双丙醚、二丙二醇双丁醚、二丙二醇甲乙醚、二丙二醇甲丙醚、二丙二醇甲丁醚、二丙二醇乙丙醚、二丙二醇乙丁醚、二丙二醇丙丁醚、三丙二醇单甲醚、三丙二醇单乙醚、三丙二醇单丙醚、三丙二醇单丁醚中的一种或几种。所述的去离子水为电阻值大于2MΩ/cm的去离子水。本专利技术中的醇类溶剂较佳的为乙醇、丙醇、丁醇、戊醇、己醇、庚醇、辛醇、壬醇、癸醇、异丙醇、异丁醇、乙二醇、丙二醇、丙三醇、、季戊四醇、木糖醇、山梨糖醇、环戊醇、环己醇、苯甲醇、苯乙醇、苯丙醇中的一种或几种。所述清洗液是将式I结构的烷基醇聚醚、醇醚类溶剂、醇类溶剂和去离子水依次加入搅拌溶解,控制溶解过程温度≤50℃,溶解完成后过0.2μm滤芯所得。所述清洗液直接使用,或稀释2-100倍(优选5-50倍)使用。本专利技术的清洗液在使用过程中没有特殊限制,可以直接手动擦洗也可淋洗。本专利技术的有益效果是:本专利技术的水基环保中性清洗液能有效去除TFT-LCD、LED、OLED、先进封装和半导体晶圆等制造过程中基材设备表面的油脂、光阻残余物、颗粒、手印、金属杂质等杂质。该产品清洗效果好、润湿渗透性强、无毒无污染,可以直接人工手动擦洗。具体实施方式下面通过具体实施例对本专利技术作进一步的说明,进一步阐述本专利技术的优点,但本专利技术的保护范围不仅仅局限于下述实施例。一、具体实施例实施例水基环保中性清洗液的组分和含量,参见表1。表1注:wt%均指的是质量百分含量。二、效果试验为了进一步考察该水基环保中性清洗液的清洗效果,本专利技术采用了如下技术手段:将毛巾浸泡在上述清洗液原液或稀释液中,然后利用毛巾直接擦洗设备基材表面,擦洗后,利用去离子水再次清洗基材设备表面,确认清洗效果。该水基环保中性清洗液性质以及清洗效果如下表2所示。表2实施例溶液性质(5~35℃)稀释倍数清洗效果1溶解均一10干净,无残留2溶解均一原液干净,无残留3溶解均一1干净,无残留4溶解均一50干净,无残留5溶解均一20干净,无残留6溶解均一2干净,无残留7溶解均一30干净,无残留8溶解均一5干净,无残留空白实验丙酮原液不干净,有残留从上述表格2可以看出,本专利技术的水洗环保中性清洗液如实施例1-8所示,在5-50℃范围内均可得到溶解均一的溶液。清洗效果表明都可以得到干净、无残留清洗结果。与实施例对比,丙酮无法有效的清洗基材表面的杂质,丙酮属于易制毒产品,对人体危害较大。综上所述,本专利技术的进步意义在于提供了一种水基环保中性清洗液,该组合物能有效去除TFT-LCD、LED、OLED、先进封装和半导体晶圆等制造过程中基材设备表面残余物。该产品清洗效果好、润湿渗透性强、无毒无污染,可以直接人工手动擦洗。以上对本专利技术的具体实施例进行了详细描述,但其只是作为范例,本专利技术并不限制于以上描述的具体实施例。对于本领域技术人员而言,任何对本专利技术进行的等同修改和替代也都在本专利技术的范畴之中。因此,在不脱离本专利技术的精神和范围下所作的均等变换和修改,都应涵盖在本专利技术的范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种水基环保中性清洗液,其特征在于,按重量百分比计,包括式I结构的烷基醇聚醚0.1-25%、醇醚类溶剂0.1-50%、醇类溶剂0.1-25%,去离子水30-99.7%,/n

【技术特征摘要】
20190809 CN 20191072479491.一种水基环保中性清洗液,其特征在于,按重量百分比计,包括式I结构的烷基醇聚醚0.1-25%、醇醚类溶剂0.1-50%、醇类溶剂0.1-25%,去离子水30-99.7%,

其中m,n均为1-50的整数。


2.根据权利要求1所述的一种水基环保中性清洗液,其特征在于,所述的醇醚类溶剂为乙二醇醚类和/或丙二醇醚类。


3.根据权利要求1所述的一种水基环保中性清洗液,其特征在于,所述的去离子水为电阻值大于2MΩ/cm的去离子水。


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【专利技术属性】
技术研发人员:刘江华付元涛章小琴
申请(专利权)人:华璞微电子科技宁波有限公司
类型:发明
国别省市:浙江;33

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