【技术实现步骤摘要】
一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法
本专利技术属于金属薄膜制备
，具体涉及一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法。
技术介绍
离轴多反成像系统是高性能全方位光电探测系统的关键器件，在国防安全、航空航天、新一代信息技术等对光电系统大视场、高分辨率有着迫切需求的领域具有广泛的应用前景。如图1所示，离轴多反成像系统由多个光学自由曲面反射镜组成。制造时，先单独加工出多个反射镜，为了增加反射率，分别在各个反射镜表面沉积增反膜，再安装、调整各反射镜的位姿从而获得符合要求的光学系统。为了省去装调步骤，减轻重量，学者提出了多反射面一体加工的方法。如图2所示，多面共体反射镜就是依照离轴多反成像系统各反射面的位姿和形貌数据，直接将多个反射面加工在一个工件上，实现多面共体，这样省去了装调的步骤减轻了重量。但多面共体反射镜形状复杂，如何为多面共体反射镜制备高反射宽波段、均匀性好的高反射膜是一个亟需解决的问题。高反射膜是光学薄膜的重要部分，主要运用于反射系统。高反射膜分为金属膜、介质膜系以及金属与介质共同...
【技术保护点】
1.一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置，其特征在于：包括密封腔体(1)、X-Y向位移平台(2)、圆柱形磁控溅射靶(4)、转台(3)及升降机构(5)；所述密封腔体(1)包括密封腔(6)和密封腔盖(7)；/n所述X-Y向位移平台(2)与密封腔盖(7)下表面固定连接，所述密封腔盖(7)设置在密封腔(6)上端敞口处，所述密封腔盖(7)外侧壁与升降机构(5)的升降杆固定连接，所述升降机构(5)与密封腔(6)外侧壁固定连接，所述圆柱形磁控溅射靶(4)竖直设置，圆柱形磁控溅射靶(4)上端与X-Y向位移平台(2)下表面固定连接，圆柱形磁控溅射靶(4)下端设置在转台(3)内，所述转台...
【技术特征摘要】
1.一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置，其特征在于：包括密封腔体(1)、X-Y向位移平台(2)、圆柱形磁控溅射靶(4)、转台(3)及升降机构(5)；所述密封腔体(1)包括密封腔(6)和密封腔盖(7)；
所述X-Y向位移平台(2)与密封腔盖(7)下表面固定连接，所述密封腔盖(7)设置在密封腔(6)上端敞口处，所述密封腔盖(7)外侧壁与升降机构(5)的升降杆固定连接，所述升降机构(5)与密封腔(6)外侧壁固定连接，所述圆柱形磁控溅射靶(4)竖直设置，圆柱形磁控溅射靶(4)上端与X-Y向位移平台(2)下表面固定连接，圆柱形磁控溅射靶(4)下端设置在转台(3)内，所述转台(3)设置在密封腔(6)内。
2.根据权利要求1所述的一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置，其特征在于：所述X-Y向位移平台(2)包括Y向位移台(8)、螺杆一(9)、电机一(10)、驱动块一(11)、X向位移台(12)、螺杆二(13)、电机二(14)及驱动块二(15)；
所述密封腔盖(7)的下表面固定有电机一(10)，所述电机一(10)的输出轴与螺杆一(9)的一端同轴固定连接，所述螺杆一(9)沿Y向设置，所述驱动块一(11)中部设有与螺杆一(9)旋合的螺孔，驱动块一(11)与螺杆一(9)旋合连接，驱动块一(11)与Y向位移台(8)外侧壁固定连接，所述Y向位移台(8)与密封腔盖(7)滑动连接；
所述电机二(14)固定在Y向位移台(8)侧壁上，电机二(14)的输出轴与螺杆二(13)的一端同轴固定连接，所述螺杆二(13)沿X向设置，所述驱动块二(15)中部设有与螺杆二(13)旋合的螺孔，驱动块二(15)与螺杆二(13)旋合连接，驱动块二(15)与X向位移台(12)外侧壁固定连接，所述X向位移台(12)与Y向位移台(8)滑动连接；所述圆柱形磁控溅射靶(4)上端与X向位移台(12)下表面固定连接。
3.根据权利要求1所述的一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置，其特征在于：所述升降机构(5)为电机驱动升降机构，所述电机驱动升降机构包括驱动电机(17)、驱动螺杆(18)及螺纹套(19)；所述密封腔(6)外侧壁下部固定有支撑体(20)，所述支撑体(20)中部沿轴向设有通孔，所述驱动电机(17)固定在支撑体(20)的底面上，驱动电机(17)的输出轴穿入所述通孔内，所述驱动螺杆(18)竖直设置，驱动螺杆(18)下端与驱动电机(17)的输出轴同轴且固定连接，驱动螺杆(18)上端设置在螺纹套(19)内且二者旋合连接，所述密封腔盖(7)外侧壁沿竖直方向固定有圆柱体(2...
【专利技术属性】
技术研发人员：闫永达，毛立阳，曹永智，耿延泉，史文博，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：黑龙;23
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