一种高机械强度强激光装置倍频元件匹配薄膜及其制备方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种高机械强度强激光装置倍频元件匹配薄膜及其制备方法，属于光学材料技术领域。其包括以下步骤：将甲基三乙氧基硅烷、原硅酸乙酯、去离子水和有机溶剂混合，在加热下搅拌反应，制得低聚物溶胶；将低聚物溶胶与有机溶剂混合，制得涂膜溶胶；将涂膜溶胶涂覆在基底上，制得待固化薄膜；对待固化薄膜进行热处理，制得匹配薄膜。本发明专利技术制得的匹配薄膜其固化强高度更高、机械力学性能更优。

A kind of matching film for frequency doubled element of high mechanical strength laser device and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种高机械强度强激光装置倍频元件匹配薄膜及其制备方法
本专利技术涉及光学材料
，具体涉及一种高机械强度强激光装置倍频元件匹配薄膜及其制备方法。
技术介绍
强激光装置中的光学元件需要涂覆特殊的增透膜层来实现激光的高能传输，其中倍频元件的出射面需要针对527nm和1053nm同时实现高增透。为了实现双波长的高增透，倍频元件的出射面须分别制备两层具有特定折射率与膜厚的薄膜，即匹配膜与增透膜。SiO2增透膜系是一种应用广泛的光学材料，具有良好的光学特性、抗激光损伤性能和化学稳定性，是制备强激光薄膜的首选材料。目前通用的单一硅氧烷缩聚法制备得到的匹配膜膜层后处理时间较长，膜层机械性能较低，限制了强激光装置倍频元件的制造效率和使用寿命。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种高机械强度强激光装置倍频元件匹配薄膜及其制备方法，以解决现有单一硅氧烷缩聚法制备得到的匹配膜膜层后处理时间较长，膜层机械性能较低的问题。本专利技术解决上述技术问题的技术方案如下：一种高机械强度强激光装置倍频元件匹配薄膜的制备方法，包括本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高机械强度强激光装置倍频元件匹配薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：/n(1)将甲基三乙氧基硅烷、原硅酸乙酯、去离子水和有机溶剂混合，在加热下搅拌反应，制得低聚物溶胶；/n(2)将所述低聚物溶胶与有机溶剂混合，制得涂膜溶胶；/n(3)将所述涂膜溶胶涂覆在基底上，制得待固化薄膜；/n(4)将所述待固化薄膜进行热处理，制得所述匹配薄膜。/n

【技术特征摘要】
1.一种高机械强度强激光装置倍频元件匹配薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)将甲基三乙氧基硅烷、原硅酸乙酯、去离子水和有机溶剂混合，在加热下搅拌反应，制得低聚物溶胶；
(2)将所述低聚物溶胶与有机溶剂混合，制得涂膜溶胶；
(3)将所述涂膜溶胶涂覆在基底上，制得待固化薄膜；
(4)将所述待固化薄膜进行热处理，制得所述匹配薄膜。


2.根据权利要求1所述的高机械强度强激光装置倍频元件匹配薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(1)中甲基三乙氧基硅烷、原硅酸乙酯、去离子水和有机溶剂的摩尔比1：(0.1-1)：(2-6)：2。


3.根据权利要求2所述的高机械强度强激光装置倍频元件匹配薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(1)中有机溶剂为乙醇、甲醇和丙酮中的一种或多种。


4.根据权利要求1所述的高机械强度强激光装置倍频元件匹配薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(1)中反应条件为：在80-100℃下反应3...

【专利技术属性】
技术研发人员：王天宇，邓雪然，雷向阳，杨伟，惠浩浩，张清华，马红菊，张帅，张利平，张剑锋，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：发明
国别省市：四川;51