触控面板的制作方法及其触控面板技术

一种触控面板的制作方法及其触控面板，触控面板包括：基板，其具有显示区与周边区；设置于基板上的感光层与金属纳米线层；以及设置于周边区上的感光导电层，其中感光导电层与感光层经曝光后定义出去除区与保留区，其中，在显示区中，位于去除区的感光层与金属纳米线层被显影液移除而定义出一位于显示区的触控感应电极；在周边区中，位于去除区的感光导电层、感光层与金属纳米线层被显影液移除而定义出一位于周边区的周边线路，触控感应电极电性连接于周边线路。

【技术实现步骤摘要】
触控面板的制作方法及其触控面板
本专利技术是关于一种触控面板的制作方法及其触控面板。
技术介绍
由于透明导体可同时具有光穿透性与适当的导电性，因而常应用于许多显示或触控相关的装置中。传统技术中，透明导体可以由金属氧化物的薄膜所制成，例如氧化铟锡(IndiumTinOxide，ITO)、氧化铟锌(IndiumZincOxide，IZO)、氧化镉锡(CadmiumTinOxide，CTO)或掺铝氧化锌(Aluminum-dopedZincOxide，AZO)。在部份情况下，经图案化的金属氧化物薄膜有容易被观察到的问题；此外，金属氧化物薄膜不具有可挠性。因此，现今发展出了多种透明导体，例如利用纳米线等材料所制作的透明导体。然而利用纳米线制作触控电极，纳米线与周边区的金属引线在制作工艺上及结构上都有许多待解决的问题，例如传统工艺将纳米线涂布在显示区及周边区，并覆盖周边区的金属引线，之后利用蚀刻液将纳米线进行图案化，以在显示区制作出触控感应电极。上述工艺所采用的蚀刻液大多为强酸性，故会导致金属引线受到蚀刻液的作用，使产品可靠度下降；另外，蚀刻液的残留问题也需要额外的清洁过程方能克服。此外，由于纳米线层与金属引线需要两道的黄光微影、蚀刻工艺才能进行图案化，故整体工艺复杂，且触控感应电极与金属引线需要对位，故需预留对位误差空间，使得触控面板的边框无法缩减，因此无法满足窄边框的需求。再一方面，纳米线层与金属引线的间的接触阻抗过高也会影响触控面板的性能。因此在利用纳米线制作触控感应电极的工艺上、电极结构上必须依照材料特性重新设计，使产品达到较佳的表现。
技术实现思路
本专利技术的部分实施方式，可提高触控面板的工艺效率，且触控面板具有低阻抗的特性。本专利技术的部分实施方式提出一种触控面板的制作方法，包括：提供一基板，该基板具有显示区与周边区；设置由金属纳米线所组成的金属纳米线层于显示区与周边区；设置感光层于金属纳米线层上；设置感光导电层于周边区，感光导电层设置于金属纳米线层上；进行一黄光微影步骤。所述的黄光微影步骤包括：将感光层与感光导电层进行曝光以定义出去除区与保留区；以及使用显影液将位于去除区的感光层与金属纳米线层去除，以制作出设置于显示区上的触控感应电极；同时使用显影液将位于去除区的感光导电层、感光层与金属纳米线层去除，以制作出设置于周边区上的周边线路，触控感应电极电性连接于周边线路，其中触控感应电极是由感光层与金属纳米线层所组成。于本专利技术的部分实施方式中，感光导电层包含负感光性的银浆。于本专利技术的部分实施方式中，更包含一固化该银浆的步骤。于本专利技术的部分实施方式中，感光层与该感光导电层为具有相同光波段吸收特性的材料，将该感光层与该感光导电层进行曝光包括利用一曝光源同时对该感光层与该感光导电层进行曝光。于本专利技术的部分实施方式中，更包括采用粘胶法移除位于该去除区的该金属纳米线。于本专利技术的部分实施方式中，金属纳米线外露于该感光层。本专利技术的部分实施方式提出一种触控面板，包含：基板，其中该基板具有显示区与周边区；设置于基板上的感光层与金属纳米线层；以及设置于周边区上的感光导电层，其中感光导电层与感光层经曝光后定义出去除区与保留区，其中，在显示区中，位于去除区的感光层与金属纳米线层被显影液移除而定义出一位于显示区的触控感应电极；在周边区中，位于去除区的感光导电层、感光层与金属纳米线层被显影液移除而定义出一位于周边区的周边线路，触控感应电极电性连接于周边线路。于本专利技术的部分实施方式中，金属纳米线层包括金属纳米线，金属纳米线系嵌设于位于保留区的感光层中形成导电网络，而位于显示区的感光层与金属纳米线共同形成触控感应电极。于本专利技术的部分实施方式中，感光导电层包含负感光性的银浆。于本专利技术的部分实施方式中，感光层与感光导电层为具有相同光波段吸收特性的材料。于本专利技术的部分实施方式中，金属纳米线外露于感光层。根据本专利技术的部分实施方式，触控感应电极与另一触控感应电极的间具有非导电区，非导电区中的金属纳米线的浓度为零。于本专利技术的部分实施方式中，周边线路与另一周边线路的间具有非导电区，非导电区中的金属纳米线的浓度为零。于本专利技术的部分实施方式中，触控感应电极与另一触控感应电极的间具有非导电区，非导电区中的金属纳米线的浓度小于渗透临限值，使非导电区中的金属纳米线形成一非导电网络。于本专利技术的部分实施方式中，周边线路与另一周边线路的间具有非导电区，非导电区中的金属纳米线的浓度小于渗透临限值，使非导电区中的金属纳米线形成非导电网络。于本专利技术的部分实施方式中，触控感应电极具有一曝光侧面。于本专利技术的部分实施方式中，周边线路设置在感光层与金属纳米线层所组成的复合结构上，周边线路具有一第一曝光侧面，复合结构具有第二曝光侧面，第一曝光侧面与第二曝光侧面相对齐以形成一共平面。附图说明图1为根据本专利技术的部分实施方式的触控面板的制作方法的流程图。图2为根据本专利技术的部分实施方式的基板的上视示意图。图2A为沿图2的线2A-2A的剖面示意图。图3为图1的制作方法中的步骤S1的示意图。图4为图1的制作方法中的步骤S2的示意图。图5为图1的制作方法中的步骤S3的示意图。图6为本专利技术的部分实施方式的触控面板。图6A为沿图6的线6A-6A的剖面示意图。图6B为沿图6的线6B-6B的剖面示意图。图7为本专利技术的另一实施方式的触控面板。图7A为沿图7的线7A-7A的剖面示意图。图7B为沿图7的线7B-7B的剖面示意图。其中，附图标记为：110：基板TE、TE1、TE2：触控感应电极120：周边线路D1：第一方向122：第一曝光侧面D2：第二方向130：感光层140A：金属纳米线层136：非导电区域130A：保留区140：金属纳米线130B：去除区142：第二曝光侧面CS：复合结构S1～S4：步骤VA：显示区PA：周边区具体实施方式以下将以图式揭露本专利技术的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本专利技术。也就是说，在本专利技术部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化图式起见，一些习知惯用的结构与组件在图式中将以简单示意的方式为的。关于本文中所使用的「约」、「大约」或「大致」，一般是指数值的误差或范围于百分的二十以内，较好地是于百分的十以内，更佳地是于百分的五以内。文中若无明确说明，所提及的数值皆视为近似值，即具有如「约」、「大约」或「大致」所表示的误差或范围。另外，本文所使用的「图案」、「图样」、「图形」所指的均为相同或相似的概念，为了方便说明，下文中可能会交互使用；同样的，「金属纳米线」与「金属纳米线层」也为相同或相似的组件，下文中也会交互使用，特此说明。图1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种触控面板的制作方法，其特征在于，包括：/n提供一基板，该基板具有一显示区与一周边区；/n设置由金属纳米线所组成的一金属纳米线层于该显示区与该周边区；/n设置一感光层于该金属纳米线层上；/n设置一感光导电层于该周边区，该感光导电层设置于该金属纳米线层上；以及/n进行一黄光微影步骤，包括：/n将该感光层与该感光导电层进行曝光以定义出一去除区与一保留区；以及/n使用显影液将位于该去除区的该感光层与该金属纳米线层去除，以制作出设置于该显示区上的一触控感应电极；同时使用该显影液将位于该去除区的该感光导电层、该感光层与该金属纳米线层去除，以制作出设置于该周边区上的一周边线路，该触控感应电极电性连接于该周边线路，其中该触控感应电极是由该感光层与该金属纳米线层所组成。/n

【技术特征摘要】
1.一种触控面板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一基板，该基板具有一显示区与一周边区；
设置由金属纳米线所组成的一金属纳米线层于该显示区与该周边区；
设置一感光层于该金属纳米线层上；
设置一感光导电层于该周边区，该感光导电层设置于该金属纳米线层上；以及
进行一黄光微影步骤，包括：
将该感光层与该感光导电层进行曝光以定义出一去除区与一保留区；以及
使用显影液将位于该去除区的该感光层与该金属纳米线层去除，以制作出设置于该显示区上的一触控感应电极；同时使用该显影液将位于该去除区的该感光导电层、该感光层与该金属纳米线层去除，以制作出设置于该周边区上的一周边线路，该触控感应电极电性连接于该周边线路，其中该触控感应电极是由该感光层与该金属纳米线层所组成。


2.如权利要求1所述的触控面板的制作方法，其特征在于，该感光导电层包含负感光性的银浆。


3.如权利要求2所述的触控面板的制作方法，其特征在于，更包含一固化该银浆的步骤。


4.如权利要求1所述的触控面板的制作方法，其中该感光层与该感光导电层为具有相同光波段吸收特性的材料，将该感光层与该感光导电层进行曝光包括利用一曝光源同时对该感光层与该感光导电层进行曝光。


5.如权利要求1所述的触控面板的制作方法，更包括采用粘胶法移除位于该去除区的该金属纳米线。


6.如权利要求1所述的触控面板的制作方法，其中该金属纳米线外露于该感光层。


7.一种触控面板，其特征在于，包含：
一基板，其中该基板具有一显示区与一周边区；
一设置于该基板上的一感光层与一金属纳米线层；及
一设置于该周边区上的感光导电层，其中该感光导电层与该感光层经曝光后定义出一去除区与一保留区，其中，在该显示区中，位于该去除区的该感光层与该金属纳米线层被显影液移除而定义出一位于该显示区的触控感应电极；在该周边区中，位于该去除区的该感光...

【专利技术属性】
技术研发人员：张振炘，许家豪，吴珊瑀，
申请(专利权)人：祥达光学厦门有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35