【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】可移除的可生物降解涂层本专利技术涉及用于提供功能涂层的水性涂料组合物,所述功能涂层是用包含强碱的移除剂可移除的。在园艺业中,许多植物在温室中生长。因此,它们可受益于优化的条件,如温度、光量、湿度等。然而,温室的问题在于,在温暖、阳光充足的天气条件下,温室中生长的植物暴露于大量的辐射,这可能会干扰植物的生存条件和生长,甚至可能使它们晒伤。为了避免这个问题,园艺业惯常在春季和夏季期间通过给温室的透明表面提供功能涂层来保护植物免受过度辐射的不利影响。这种功能涂层要满足的主要要求之一是获得对光和/或热的足够防护。为了满足这一要求,功能涂层应含有颜料,如白垩或氧化钛。功能涂层也可用于散射光,这也可使用颜料来实现。进一步重要的要求是,形成功能涂层的功能剂对温室的表面表现出足够的粘附力。当其粘合强度太低时,涂层将不能充分抵抗天气影响,并且将有必要每季度对涂层进行若干次修复或将其更换。当粘附力太强时,在季度结束时需要付出大力气来移除涂层。EP0999736描述了水性涂料组合物,其能够在温室的透明表面上提供涂层,以在春季和夏季期间保护植物免受过度辐射的 ...
【技术保护点】
1.用于提供可移除的功能涂层的水性涂料组合物,所述涂层是用包含强碱的移除剂可移除的,所述涂料组合物包含颜料和聚合物粘结剂,其中所述粘结剂具有2000至50000g/mol的重均分子量和40至250的酸值,其中所述粘结剂是包含通过狄尔斯-阿尔德反应和/或周环烯反应引入的侧基的聚酯,其中所述侧基含有离子基团。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170317 NL 20185431.用于提供可移除的功能涂层的水性涂料组合物,所述涂层是用包含强碱的移除剂可移除的,所述涂料组合物包含颜料和聚合物粘结剂,其中所述粘结剂具有2000至50000g/mol的重均分子量和40至250的酸值,其中所述粘结剂是包含通过狄尔斯-阿尔德反应和/或周环烯反应引入的侧基的聚酯,其中所述侧基含有离子基团。
2.根据权利要求1所述的涂料组合物,其中通过至少以下步骤获得所述粘结剂:
(a)制备不饱和聚酯,
(b)在所述不饱和聚酯与含有离子基团和/或离子形成基团的不饱和化合物之间进行狄尔斯-阿尔德反应和/或周环烯反应,以获得带有含离子基团和/或离子形成基团的侧基的聚合物
(c)任选将所述聚合物中存在的所述离子形成基团的至少一部分转化为离子基团。
3.根据权利要求1或2所述的涂料组合物,其中所述粘结剂具有至少5000g/mol的重均分子量。
4.根据前述权利要求中任一项所述的涂料组合物,其中所述粘结剂具有至多40000g/mol、更优选至多30000g/mol且最优选至多20000g/mol的重均分子量。
5.根据前述权利要求中任一项所述的涂料组合物,其中所述粘结剂的酸值为60至160mgKOH/g聚合物粘结剂。
6.根据前述权利要求中任一项所述的涂料组合物,其中所述粘结剂的酸值为60至130mgKOH/g聚合物粘结剂。
7.根据前述权利要求中任一项所述的涂料组合物,其中所述粘结剂的玻璃化转变温度为10至80℃,优选为20至70℃。
8.根据权利要求2-7中任一项所述的涂料组合物,其中所述不饱和化合物是具有羧酸离子基团和/或羧酸离子形成基团的共轭二烯。
9.根据权利要求2-8中任一项所述的涂料组合物,其中步骤(b)中使用的不饱和化合物是用以获得带有含离子形成基团的侧基的聚合物的,带有离子形成基团的不饱和化合物。
10.根据权利要求2-9中任一项所述的涂料组合物,其中所述不饱和化合物是用以获得带有含羧酸离子形成基团的侧基的聚合物的,带有羧酸根形成基团的共轭二烯。
11.根据权利要求9或10所述的涂料组合物,其中将所述带有含离子形成基团的侧基的聚合物转化以获得带有含离子基团的侧基的聚合物。
12.根据权利要求2-11中任一项所述的涂料组合物,其中所述不饱和化合物是山梨酸。
13.根据前述权利要求中任一项所述的涂料组合物,其中所述聚合物粘结剂是水可分散的或水可溶解的。
14.根据权利要求2-13中任一项所述的涂料组合物,其中所述不饱和聚酯是线性或基本上线性的不饱和聚酯。
15.根据权利要求2-14中任一项所述的涂料组合物,其中所述不饱和聚酯含有通过使用不饱和二醇、不饱和二羧酸、不饱和二羧酸酐或它们的混合物在所述不饱和聚酯的主链中引入的一个或多个碳-碳双键。
16.根据权利要求2-15中任一项所述的涂料组合物,其中通过至少一种不饱和二羧酸或其酸酐、至少一种饱和二羧酸和至少一种二醇的缩聚制备所述不饱和聚酯。
17.根据权利要求16所述的涂料组合物,其中所述不饱和二羧酸(酸酐)选自马来酸、马来酸酐、富马酸及它们的任意混合物。
18.根据前述权利要求中任一项所述的涂料组合物,其中所述聚合物粘结剂的侧基由以下结构中的何一种或其任何异构体表示:
其中:
R1选自阴离子基团以及式-R12-A-的取代的烷基、烯基、芳基和烷基芳基,所述阴离子基团选自羧酸根(-COO-)、硫酸根(-OSO3-)、磷酸根(-OPO3-)、磺酸根(-SO2O-)、次膦酸根(-POO-)、膦酸根(-PO2O-),<...
【专利技术属性】
技术研发人员:巴斯·雅克布斯·凯瑟琳娜·图伊特拉尔,艾伯特斯·罗纳德·霍夫坎普,科内利斯·埃梅·科宁,保罗斯·弗朗西斯·安娜·布伊森,罗尔·亨利·马蒂纳斯·维杰斯,伊丽莎白·安托瓦妮特·玛丽亚·格里特斯范哈默斯韦尔德,
申请(专利权)人:斯马特高特有限公司,
类型:发明
国别省市:荷兰;NL
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