一种等离子体射流装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种等离子体射流装置，包括外壳，其中，外壳内安装有波导管和内导管，波导管的一端与微波电源连接，内导管与波导管之间设有腔体，腔体上开设有可关闭和开启的进气口，外壳上开设有与内导管导通的喷口，喷口处设置有可伸缩移动的金属片，金属片与温度传感器相接触，温度传感器与控制器连接，控制器还分别与电源和报警器连接。与现有技术相比，本发明专利技术利用等离子体射流大小与电源输出功率大小呈正相关的关系，通过设置可伸缩移动的金属片、温度传感器和控制器，能够计算得到等离子体射流通量，并以此自动调节电源的输出功率大小，从而实现自主调节等离子体射流大小的目的，且能保证输出等离子体射流的稳定性。

A plasma jet device

【技术实现步骤摘要】
一种等离子体射流装置
本专利技术涉及等离子体发生领域，尤其是涉及一种等离子体射流装置。
技术介绍
等离子体是气体分子在获取能量后部分地或完全电离，最终达到等离子态。处于等离子态的气体呈准电中性，即在宏观时空尺度条件下，具有等量异号电荷。大气压等离子体射流技术所产生的等离子体温度低，并且活性物浓度高，因此在材料改性、灭菌、环境保护等方面应用甚广。目前的等离子体射流装置大多采用人工方式来调节射流大小，无法根据需要自动调节射流大小，导致输出的射流并不稳定，不利于等离子体的有效应用。
技术实现思路
本专利技术的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种能够自动调节射流大小、输出稳定射流的等离子体射流装置。本专利技术的目的可以通过以下技术方案来实现：一种等离子体射流装置，包括外壳，所述外壳内安装有波导管和内导管，所述外壳上开设有与内导管导通的喷口，所述内导管位于波导管的下方，且所述内导管与波导管之间设有腔体，所述腔体开设有可关闭和开启的进气口，所述波导管的一端与微波电源连接，所述喷口处设置有可伸缩移动的金属片，当本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子体射流装置，包括外壳(1)，所述外壳(1)内安装有波导管(2)和内导管(6)，所述外壳(1)上开设有与内导管(6)导通的喷口(4)，所述内导管(6)位于波导管(2)的下方，其特征在于，所述内导管(6)与波导管(2)之间设有腔体，所述腔体开设有可关闭和开启的进气口(3)，所述波导管(2)的一端与微波电源(12)连接，所述喷口(4)处设置有可伸缩移动的金属片(7)，当金属片(7)在初始位置时，所述内导管(6)与金属片(7)完全耦合，所述金属片(7)与温度传感器(8)相接触，所述温度传感器(8)还与控制器(10)的输入端连接，所述控制器(10)的输出端连接至微波电源(12)。/n

【技术特征摘要】
1.一种等离子体射流装置，包括外壳(1)，所述外壳(1)内安装有波导管(2)和内导管(6)，所述外壳(1)上开设有与内导管(6)导通的喷口(4)，所述内导管(6)位于波导管(2)的下方，其特征在于，所述内导管(6)与波导管(2)之间设有腔体，所述腔体开设有可关闭和开启的进气口(3)，所述波导管(2)的一端与微波电源(12)连接，所述喷口(4)处设置有可伸缩移动的金属片(7)，当金属片(7)在初始位置时，所述内导管(6)与金属片(7)完全耦合，所述金属片(7)与温度传感器(8)相接触，所述温度传感器(8)还与控制器(10)的输入端连接，所述控制器(10)的输出端连接至微波电源(12)。


2.根据权利要求1所述的一种等离子体射流装置，其特征在于，所述金属片(7)上安装有操作杆(9)，所述操作杆(9)的一端设置有手柄，其另一端穿过外壳(1)后安装在金属片(7)上，通过推拉操作杆(9)实现金属片(7)的伸缩移动。


3.根据权利要求1所述的一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：邵飞帆，段倩倩，
申请(专利权)人：上海工程技术大学，
类型：发明
国别省市：上海;31