【技术实现步骤摘要】
一种液态源的储存装置
本技术涉及储存装置领域,尤其涉及一种液态源的储存装置。
技术介绍
随着半导体行业的迅速发展,半导体硅片产能日趋扩大,半导体硅片生产用的源罐为不锈钢材质,内部镀有铁氟龙涂层,铁氟龙涂层一定时间后会产生收缩和脱落现象,对液态源造成污染,也会对硅片造成伤害;且源罐清洗频次较大,清洗过程中清洗剂的腐蚀和无尘布的反复擦拭,也会引起涂层的脱落,因此本专利技术提供一种液态源的储存装置,能够保证液态源的清洁和硅片的完整。
技术实现思路
本技术要解决的问题是提供一种液态源的储存装置。为解决上述技术问题,本技术采用的技术方案是:一种液态源的储存装置,其特征在于:包括源罐和放置于所述源罐中的石英罐,所述石英罐底部的两端设有两个加厚部,所述加厚部之间的凹槽上设有补液管,所述源罐设有上盖,所述上盖上设有进液管和出口管,所述出口管的底端延伸至所述凹槽。进一步地,所述石英罐内设有液位计,所述补液管上设有控制阀,所述液位计通过所述控制阀控制所述补液管开关。具体的,所述液位计为浮球液位计。 ...
【技术保护点】
1.一种液态源的储存装置,其特征在于:包括源罐和放置于所述源罐中的石英罐,所述石英罐底部的两端设有两个加厚部,所述加厚部之间的凹槽上设有补液管,所述源罐设有上盖,所述上盖上设有进液管和出口管,所述出口管的底端延伸至所述凹槽。/n
【技术特征摘要】
1.一种液态源的储存装置,其特征在于:包括源罐和放置于所述源罐中的石英罐,所述石英罐底部的两端设有两个加厚部,所述加厚部之间的凹槽上设有补液管,所述源罐设有上盖,所述上盖上设有进液管和出口管,所述出口管的底端延伸至所述凹槽。
2.根据权利要求1所述的一种液态源的储存装置,其特征在于:所述石英罐内设有液位计,所述补液管上设有控制阀,所述液位计通过所述控制阀控制所述补液...
【专利技术属性】
技术研发人员:史丽萍,徐长坡,陈澄,李亚哲,陈凯,谢依烨,陈春江,梁效峰,杨玉聪,王浩,
申请(专利权)人:天津环鑫科技发展有限公司,
类型:新型
国别省市:天津;12
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