气体处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术的目的在于提供一种气体处理装置，能够将难以由臭氧(O

【技术实现步骤摘要】
气体处理装置
本技术涉及气体处理装置，尤其涉及对含有氧气及水分的被处理气体进行处理的装置。
技术介绍
近年来开发有使用光的除臭/杀菌技术。例如，在下记专利文献1中公开了准分子灯的结构。该准分子灯具备由透过紫外线的石英玻璃制成的管体(放电容器)和设置于该管体的外壁的电极。在管体内封入有作为放电用气体的氙(Xe)气。由该准分子灯照射波长为200nm以下，更详细而言波长为172nm的真空紫外光。因此，例如，能够通过使该真空紫外光照射空气来生成含有臭氧(O3)的气体，从而得到使用了含有该臭氧的气体的除臭/杀菌的效果。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2007-335350号公报
技术实现思路
技术所要解决的课题然而，在空气中有时含有难以由臭氧分解的恶臭成分。对于这样的恶臭成分之一，例如可以举出甲醛。本技术的目的在于提供一种气体处理装置，还能够有效分解难以由臭氧分解的上述的成分。用于解决课题的技术方案本技术的气体处理装置的特征在于，具备：壳体；进气口，将含有氧气及水分的被处理气体向所述壳体的内侧导入；第一光源，收容于所述壳体，主发光波长为160nm以上且小于200nm；第二光源，从所述进气口侧观察，在所述壳体内配置于比所述第一光源靠后段处，主发光波长为220nm以上且小于360nm；搅拌部，在所述第一光源的所述进气口侧的端部与所述第二光源的所述进气口侧的端部之间的位置对所述被处理气体的一部分进行搅拌；和排气口，在从所述进气口侧观察比所述第二光源靠后段的位置将所述被处理气体向所述壳体的外侧导出。从进气口取入到壳体内的被处理气体的一部分受到来自第一光源的射出光(主发光波长为160nm以上且小于200nm的光)照射。被处理气体含氧气及水分。因此，从受到来自第一光源的射出光照射的被处理气体生成臭氧(O3)。经过配置有第一光源的场所之后的含有臭氧的被处理气体受到来自第二光源的射出光(主发光波长为220nm以上且小于360nm)照射。臭氧在吸收该波段的光时会生成激发态的氧原子O(1D)。该氧原子O(1D)具有较高的反应性。另外，O(1D)通过与水分(H2O)反应而生成同样显示出较高反应性的羟基自由基(·OH)。从第一光源射出的光(以下称作“第一光”)与从第二光源射出的光(以下称作“第二光”)相比波长短。因此，大部分的第一光被在配置有第一光源的位置附近流动的被处理气体(更详细而言，该被处理气体中含有的氧气)吸收，从而不能经较长距离传播。其结果是，在远离配置有第一光源的位置的区域流动的被处理气体未受到第一光照射地向进气口侧流动。另一方面，从第二光源射出的光(第二光)与从第一光源射出的光(第一光)相比波长长，因此能够在被处理气体内传播较长距离。在此，如上所述，当对第一光照射于被处理气体而生成的臭氧照射第二光时，由该臭氧吸收第二光而生成显示较高反应性的激发态的氧原子O(1D)，另外，O(1D)的一部分变换为仍然显示较高反应性的羟基自由基(·OH)。如上所述，通过该O(1D)及·OH而对于难以由臭氧分解的物质(例如甲醛)也能够确保较高的分解性能。然而，如上所述，第一光接触不到的被处理气体，即，在远离配置有第一光源的位置的区域流动的被处理气体所含的臭氧量较少。即使对这样的被处理气体照射第二光，也无法充分地生成显示较高的反应性的氧原子O(1D)。对此，根据上述的气体处理装置，在第一光源的进气口侧的端部与第二光源的进气口侧的端部之间的位置具备对被处理气体的一部分进行搅拌的搅拌部。因此，在第一光源的附近流动而照射到第一光并生成了臭氧的被处理气体和在远离第一光源的位置流动而未照射到第一光的被处理气体在第二光源的前段的位置被搅拌。其结果是，即使在远离第一光源的位置也能够以混合有一定量的臭氧的状态将被处理气体导向第二光源侧。也就是说，能够在第二光源的前段的位置使臭氧分散于在壳体内流动的被处理气体的整体。因此，由于将臭氧被分散开的状态的被处理气体导向第二光源侧，因而对于受到第二光照射后的被处理气体，能够以高概率导入显示较高的反应性的激发态的氧原子O(1D)。其结果是，能够使分解包含在被处理气体中的恶臭/有害物质的分解性能相比以往的装置有所提升。详细内容稍后在“具体实施方式”中描述。作为这样的恶臭/有害物质，除了上述的甲醛还能举出乙醛、乙酸乙酯、甲苯、二甲苯、正丁酸、正戊酸、异戊酸、乙苯、麝香酮等。作为一例，优选第一光源由填充有含Xe的放电用气体的准分子灯构成。在该情况下，来自第一光源的射出光(第一光)包含160nm以上且小于180nm的范围内(以下称为“第一波段λ1”)的成分和180nm以上且小于200nm的范围内(以下称为“第二波段λ2”)的成分。通过对在第一光源的附近流动的被处理气体照射来自第一光源的第一波段λ1的射出光而生成激发态的氧原子O(1D)及臭氧(O3)。进一步地，在远离第一光源的位置被处理气体暂时滞留的情况下，通过对该含臭氧(O3)的被处理气体照射来自第一光源的第二波段λ2的射出光而生成激发态的氧原子O(1D)。也就是说，能够在第二光源的前段的位置对被处理气体以高概率导入反应性较高的O(1D)及羟基自由基(·OH)。需要说明的是，除了上述准分子灯之外，第一光源可以由LED等固体光源构成。另外，第二光源可以由例如低压汞灯、LED等固体光源、封入有稀有气体的荧光灯等构成。所述搅拌部可以以各种形式构成。作为第一实施方式，可以是如下结构：所述气体处理装置在所述第一光源的所述进气口侧的端部与所述第二光源的所述进气口侧的端部之间的位置具有碰撞部，从所述进气口流入的所述被处理气体的一部分与碰撞部碰撞，所述搅拌部由所述碰撞部构成。根据上述第一实施方式，流过第一光源附近的被处理气体在碰撞部进行碰撞之后，与在远离第一光源的位置流动的被处理气体进行混合。其结果是，能够在第二光源的前段的位置使臭氧分散。作为该第一实施方式的具体例，可以采用多种结构。例如，可以是如下结构：所述碰撞部由挡风部件构成，所述挡风部件包含未设置开口的遮蔽部和在所述遮蔽部的外侧或所述遮蔽部的区域内设置的第一开口部。在该情况下，也可以是如下结构：所述挡风部件配置于所述第一光源的所述排气口侧的端部与所述第二光源的所述进气口侧的端部之间。另外，例如，可以是如下结构：所述挡风部件配置于所述第一光源的所述进气口侧的端部与所述第一光源的所述排气口侧的端部之间，所述挡风部件在所述遮蔽部的内侧具备第二开口部，该第二开口部以从所述被处理气体的流路方向观察包覆所述第一光源的方式开口。另外，例如，可以是如下结构：所述壳体呈在所述第一光源的所述排气口侧的端部与所述第二光源的所述进气口侧的端部之间的位置处在所述被处理气体的流路上具有弯折部的形状，所述碰撞部由所述弯折部的所述壳体的内侧面构成。另外，作为第二实本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气体处理装置，其特征在于，具备：/n壳体；/n进气口，将含有氧气及水分的被处理气体向所述壳体的内侧导入；/n第一光源，收容于所述壳体，主发光波长为160nm以上且小于200nm；/n第二光源，从所述进气口侧观察，在所述壳体内配置于比所述第一光源靠后段处，主发光波长为220nm以上且小于360nm；/n搅拌部，在所述第一光源的所述进气口侧的端部与所述第二光源的所述进气口侧的端部之间的位置对所述被处理气体的一部分进行搅拌；和/n排气口，在从所述进气口侧观察比所述第二光源靠后段的位置将所述被处理气体向所述壳体的外侧导出。/n

【技术特征摘要】
20180301 JP 2018-0368811.一种气体处理装置，其特征在于，具备：
壳体；
进气口，将含有氧气及水分的被处理气体向所述壳体的内侧导入；
第一光源，收容于所述壳体，主发光波长为160nm以上且小于200nm；
第二光源，从所述进气口侧观察，在所述壳体内配置于比所述第一光源靠后段处，主发光波长为220nm以上且小于360nm；
搅拌部，在所述第一光源的所述进气口侧的端部与所述第二光源的所述进气口侧的端部之间的位置对所述被处理气体的一部分进行搅拌；和
排气口，在从所述进气口侧观察比所述第二光源靠后段的位置将所述被处理气体向所述壳体的外侧导出。


2.根据权利要求1所述的气体处理装置，其特征在于，
在所述第一光源的所述进气口侧的端部与所述第二光源的所述进气口侧的端部之间的位置具有碰撞部，从所述进气口流入的所述被处理气体的一部分与碰撞部碰撞；
所述搅拌部由所述碰撞部构成。


3.根据权利要求2所述的气体处理装置，其特征在于，
所述碰撞部由挡风部件构成，所述挡风部件包含未设置开口的遮蔽部和在所述遮蔽部的外侧或所述遮蔽部的区域内设置的第一开口部。


4.根据权利要求3所述的气体处理装置，其特征在于，
所述挡风部件配置于所述第一光源的所述排气口侧的端部与所述第二光源的所述进气口侧的端部之间。


5.根据权利要求3所述的气体处理装置，其特征在于，
所述挡风部件配置于所述第一光源的所述进气口侧的端部与所述第一光源的所述排气口侧的端部之间，
所述挡风部件在所述遮蔽部的内侧具备第二开口部，该...

【专利技术属性】
技术研发人员：内藤敬祐，
申请(专利权)人：优志旺电机株式会社，
类型：新型
国别省市：日本;JP