匀化的非相干光源装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种匀化的非相干光源装置。该装置包括放大自发辐射光源、光束耦合单元、以及匀光光导，其中，所述放大自发辐射光源、所述光束耦合单元、以及所述匀光光导沿着光束传播方向依次设置，并且设置的位置和朝向使得所述放大自发辐射光源输出的光耦合到所述匀光光导的输入端面，所述匀光光导的长度与口径之比大于或等于预设比值，以使所述放大自发辐射光源输出的光在所述匀光光导的输出端面处成像的大小大于或等于所述匀光光导口径的2倍。这种装置具备光束均匀性对光源泵浦均匀性的依赖小、泵浦光源利用效率高、输出二维平顶光束均匀性好的优势，是一种效费比高、实现难度小的匀化的非相干光源。

Uniform incoherent light source device

【技术实现步骤摘要】
匀化的非相干光源装置
本专利技术属于激光核聚变的激光器领域，具体涉及一种匀化的非相干光源装置。
技术介绍
无论激光-等离子体物理研究还是材料损伤测试、激光处理工艺等应用，都期望在激光作用界面获得接近平顶(Top-hat)的均匀辐照。上世纪八十年代以来，在高功率激光领域引入了诱导非相干的光束匀化概念，从空域或者频域抑制光束的相干调制，以获得平滑、匀强光束。空间诱导非相干技术(ISI：inducedspatialincoherent)的基本思想是将激光束分割成多个衍射斑尺度与辐照面积相当的子束，由于各子束的传输路径存在差别，因此当各子束叠加在特定界面时，其叠加效果将表征出较弱的相干性，从而抑制相干调制产生的条纹(Speckle)。比如，Omega、NIKE和神光装置都曾经尝试使用随机相位板、蝇眼透镜阵列等二元光学器件获得较均匀的激光辐照，以开展激光驱动核聚变的相关研究。由于器件加工精度的限制，子束的尺度也不可能无限减小。因此，经二元光学器件匀化的激光束截面内部仍包含快速变化的干涉结构，这些结构与靶的不均匀性一样，会作为“种子”发展成瑞利-泰勒不稳定本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种匀化的非相干光源装置，其特征在于，包括放大自发辐射光源、光束耦合单元、以及匀光光导，其中，所述放大自发辐射光源、所述光束耦合单元、以及所述匀光光导沿着光束传播方向依次设置，并且设置的位置和朝向使得所述放大自发辐射光源输出的光耦合到所述匀光光导的输入端面，所述匀光光导的长度与口径之比大于或等于预设比值，以使所述放大自发辐射光源输出的光在所述匀光光导的输出端面处成像的大小大于或等于所述匀光光导口径的2倍。/n

【技术特征摘要】
1.一种匀化的非相干光源装置，其特征在于，包括放大自发辐射光源、光束耦合单元、以及匀光光导，其中，所述放大自发辐射光源、所述光束耦合单元、以及所述匀光光导沿着光束传播方向依次设置，并且设置的位置和朝向使得所述放大自发辐射光源输出的光耦合到所述匀光光导的输入端面，所述匀光光导的长度与口径之比大于或等于预设比值，以使所述放大自发辐射光源输出的光在所述匀光光导的输出端面处成像的大小大于或等于所述匀光光导口径的2倍。


2.如权利要求1所述的匀化的非相干光源装置，其特征在于，所述放大自发辐射光源包括激光器、位于所述激光器后方的后腔镜、以及位于所述激光器前方的前窗，所述后腔镜和所述前窗组成激光腔，所述后腔镜为高反镜。


3.如权利要求2所述的匀化的非相干光源装置，其特征在于，所述前窗后向传输的放大自发辐射光束经过所述后腔镜反射和双程放大后成像在所述匀光光导内部。


4.如权利要求1所述的匀化的非相干光源装置，其特征在于，所述光束耦合单元包括第一柱面透镜和第二柱面透镜，所述第一柱面透镜比所述第二柱面透镜更靠近所述放大自发辐射光源，所述第一柱面透镜使所述放大自发辐射光源输出的光束沿其截面长轴方向汇聚...

【专利技术属性】
技术研发人员：高智星，王钊，李静，胡凤明，张绍哲，
申请(专利权)人：中国原子能科学研究院，
类型：发明
国别省市：北京;11