一种水平井入靶过断层的轨迹控制方法技术

本发明专利技术涉及水平井入靶过断层的轨迹控制方法，包括如下步骤：根据已完钻井地层对比获取施工井所在区域的标志层划分数据、施工井地质工程设计给出的靶点数据以及断层数据；在沿轨迹方向的地震剖面上获取断层断距；由工程设计轨迹确定断层位置视平移对应的井斜、垂深，并计算出断层距离靶点的垂深；判断断层所在的层位，选取该层位上部和下部各一套标志层，并计算在邻井中两套标志层之间的垂厚及标志层二距靶点的垂厚；算出钻遇标志层二时的井斜和斜深；判断轨迹是由断层的上升盘钻至下降盘，还是由断层的下降盘钻至上升盘，根据不同的轨迹设计不同的入靶过程。本发明专利技术通过合理的轨迹控制，减小或规避断层带来的影响，实现轨迹顺利入靶的目的。

A trajectory control method of horizontal well entering target and passing through fault

【技术实现步骤摘要】
一种水平井入靶过断层的轨迹控制方法
本专利技术属于钻井工程
，尤其涉及一种水平井入靶过断层的轨迹控制方法。
技术介绍
水平井的轨迹控制主要分入靶轨迹控制和水平段轨迹控制两部分，其中入靶轨迹控制最为关键，能否顺利入靶直接决定了后期水平段能否正常施工。目前最常用的入靶轨迹控制方法，采用随钻伽马曲线、岩性、钻时、显示等参数进行标志层对比，结合地层倾角校正标志层距目的层的厚度预测入靶垂深，并控制入靶轨迹。当地质设计中出现入靶过断层的情况时，由于现有手段无法准确获取断层断距的大小，若轨迹是从上升盘钻至下降盘，尤可通过稳斜穿过断层后再按设计轨迹施工，若一旦轨迹由下降盘钻至上升盘，则会因无法准确预测断层断距，而出现在钻遇目的层时，井斜增不到位，导致轨迹穿过目的层进入下伏地层，不能顺利入靶，影响后期水平段施工，甚至会引起填眼侧钻的复杂情况。因此，基于这些问题，提供一种通过合理的轨迹控制，减小或规避断层带来的影响，实现轨迹顺利入靶的目的，水平井入靶过断层的轨迹控制方法，具有重要的现实意义。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种水平井入靶过断层的轨迹控制方法，其特征在于：所述方法包括如下步骤：/nS1、根据已完钻井地层对比获取施工井所在区域的标志层划分数据、施工井地质工程设计给出的靶点数据以及断层信息；/n其中，所述靶点数据包括设计靶点垂深、入靶井斜、入靶斜深；所述断层信息为轨迹是由上升盘钻至下降盘还是由下降盘钻至上升盘；/nS2、通过导向分析软件将设计轨迹投影到沿轨迹方向的地震剖面上，获取断层所在位置的井斜、垂深，并获取地震剖面上所示的断层点与设计入靶点之间的垂深差；/nS3、通过导向分析软件做沿轨迹方向的地震剖面，并获取断层的断距；/nS4、根据步骤S1获取的施工井所在区域的标志层划分数据及步骤S2中获取...

【技术特征摘要】
1.一种水平井入靶过断层的轨迹控制方法，其特征在于：所述方法包括如下步骤：
S1、根据已完钻井地层对比获取施工井所在区域的标志层划分数据、施工井地质工程设计给出的靶点数据以及断层信息；
其中，所述靶点数据包括设计靶点垂深、入靶井斜、入靶斜深；所述断层信息为轨迹是由上升盘钻至下降盘还是由下降盘钻至上升盘；
S2、通过导向分析软件将设计轨迹投影到沿轨迹方向的地震剖面上，获取断层所在位置的井斜、垂深，并获取地震剖面上所示的断层点与设计入靶点之间的垂深差；
S3、通过导向分析软件做沿轨迹方向的地震剖面，并获取断层的断距；
S4、根据步骤S1获取的施工井所在区域的标志层划分数据及步骤S2中获取的设计钻遇断层点与设计入靶点之间的垂深差，判断断层所在的层位，选取该层位上部和下部各一套标志层，分别记作标志层一、标志层二，并获取在邻井中两套标志层之间的垂厚及标志层二距靶点的垂厚；
其中，选取上下标志层时，需满足标志层一、标志层二之间的垂厚大于步骤S3中获取的断层的断距；
S5、根据工程设计要求的狗腿度、设计靶点垂深和斜深及步骤S4中获取的标志层二距离靶点的垂厚，获取钻遇标志层二时的井斜和斜深；
S6、根据步骤S1获取的断层信息：
若轨迹是由断层的上升盘钻至下降盘，步骤S4中获取的两套标志层之间的垂厚会因断层的影响变厚，入靶轨迹控制过程中，当井斜达到步骤S5中获取的钻遇标志层二井斜时，保持该井斜稳斜钻进，探到标志层二后再按设计轨迹继续施工，直到入靶；
若轨迹是由断层的下降盘钻至上升盘，步骤S4中获取的两套标志层之间的垂厚会因断层的影响变薄，则入靶轨迹控制方法如下：
a、根据步骤S5获取的钻遇标志层二时的井斜，从该井斜开始...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘勋才，黎铖，姜维寨，王锁涛，吴双，张攀，彭文昌，肖月强，
申请(专利权)人：中国石油集团渤海钻探工程有限公司，
类型：发明
国别省市：天津;12