一种具有热点结构的等离子体多孔结构及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种具有热点结构的等离子体多孔结构，包括承载基体以及沉积于承载基体的等离子体多孔结构，等离子体多孔结构上形成有多个孔，多个孔的至少一部分通过韧带相互连接。本发明专利技术还公开了该等离子体多孔结构的制备方法，具体包括如下步骤：步骤1：清洗硅片，将硅片放入去离子水中浸泡，然后将硅片取出并用纯氮气吹干；步骤2：将清洁后的硅片送入磁控溅射镀膜设备中，通入氩气气氛，保持恒定气氛压力，随后进行银、钽元素共溅射，然后可制备出具有热点结构的等离子体多孔结构；本发明专利技术通过精确调控银、钽沉积速率制备出的等离子体纳米孔结构具有热点密度较高，吸附能力强、表面粗糙度高和光传输能力强的优点。

A plasma porous structure with hot spot structure and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种具有热点结构的等离子体多孔结构及其制备方法
本专利技术属于光学纳米薄膜领域，具体涉及一种具有热点结构的等离子体多孔结构，还涉及一种该等离子体多孔结构的制备方法。
技术介绍
有光激发贵金属纳米结构的表面时，可在一定空间区域产生局部表面等离子体共振效应，这会显著放大纳米结构局部区域的电磁场强度，从而形成“热点”。目前大量研究的“热点”主要是“纳米间隙”和“纳米针尖”结构，纳米孔是一种新型的、研究较少的一类“热点”结构，由于其具有较大的研究潜力，近年来受到了广泛的关注。纳米孔阵列显示出一种光传输现象，在特定波长具有极大的光传输能力。由于具有强光透射和局部表面等离子体共振的双重作用，纳米孔阵列显示出明显的局部电磁场增强。等离子体纳米孔阵列可被用于检测各种生物化学分析物，包括DNA、蛋白质、小分子等。总的来说，相较于“纳米间隙”和“纳米针尖”结构，目前的纳米孔“热点”结构的局部点磁场强度放大效果较弱，产生的热点的密度较低，从而限制了其等离子体传感、催化等方面的应用。综上所述，目前的纳米孔热点结构存在产生的热点密度较低，纳米孔的表面粗糙度较低的问题。<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有热点结构的等离子体多孔结构，其特征在于，包括承载基体以及沉积于所述承载基体的等离子体多孔结构，所述等离子体多孔结构上形成有多个孔，多个所述孔的至少一部分通过韧带相互连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种具有热点结构的等离子体多孔结构，其特征在于，包括承载基体以及沉积于所述承载基体的等离子体多孔结构，所述等离子体多孔结构上形成有多个孔，多个所述孔的至少一部分通过韧带相互连接。


2.根据权利要求1所述的一种具有热点结构的等离子体多孔结构，其特征在于，所述韧带上形成有凸起和/或凹进。


3.根据权利要求2所述的一种具有热点结构的等离子体多孔结构，其特征在于，在所述凸起的个数为多个的情形下，多个凸起的形状、体积和分布密度相同或者不同；并且/或者，
在所述凹进的个数为多个的情形下，多个凹进的形状、体积和分布密度相同或者不同。


4.根据权利要求2所述的一种具有热点结构的等离子体多孔结构，其特征在于，所述韧带的长度为50～500nm。


5.根据权利要求1所述的一种具有热点结构的等离子体多孔结构，其特征在于，所述孔的直径为50～300nm，孔深为50～400nm。


6.根据权利要求1所述的一种具有热点结构的等离子体多孔结构，其特征在于，所述孔的孔壁为粗糙的表面结构。


7.一种具有热点结构的等离子体多孔结构的制备方法，其特征在于，具体包括如下步骤：
步骤1：将硅片浸入丙酮溶液中清洗5～10分钟，然后将硅片从丙酮溶...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈东圳，张宇，张萌，付涛，贺辛亥，宋忠孝，
申请(专利权)人：西安工程大学，
类型：发明
国别省市：陕西;61