一种适配体包覆鲁米诺的中空多孔二氧化硅材料的制备及其应用制造技术

本发明专利技术公开了一种适配体包覆鲁米诺的中空多孔二氧化硅材料的制备及其在化学发光分析中的应用技术。主要技术特征是：用三步法制得中空多孔二氧化硅，并用适配体将鲁米诺分子包覆在中空多孔二氧化硅的内部空腔中，得到对PSA有高特异性识别能力、可释放化学发光试剂分子鲁米诺的中空多孔二氧化硅材料；本发明专利技术同时提供了一种将适配体包覆鲁米诺分子的中空多孔二氧化硅材料应用于化学发光检测PSA的方法，该方法检测PSA表现出优异的选择性、稳定性和重现性，同时具有高的灵敏度，并且成功用于血清中PSA的检测，为该传感器进一步应用于临床PSA的检测和监控提供了理论支撑。

Preparation and application of hollow porous silica coated with luminol

【技术实现步骤摘要】
一种适配体包覆鲁米诺的中空多孔二氧化硅材料的制备及其应用
本专利技术涉及的是一种适配体包覆鲁米诺的中空多孔二氧化硅材料的制备及其在化学发光分析中的应用技术，属于化学发光传感领域，具体涉及适配体包覆鲁米诺的中空多孔二氧化硅材料的制备及其在化学发光检测前列腺特异性抗原中的应用。
技术介绍
纳米二氧化硅（SiO2）的粒径小、比表面积大、生物相容性好，且具有纳米材料的表面界面效应、小尺寸效应、量子尺寸效应等优点，使得SiO2可广泛应用于微电子、生物医药工程、复合材料、吸附材料等领域。中空多孔二氧化硅材料由于其有特定孔道结构、中空、密度小、比表面积大的特点，因而具有较好的渗透性、吸附性、筛分分子能力和光学性能。因此成为具有广泛应用前景的热点材料。目前合成中空多孔二氧化硅的方法很多，如表面沉积法、层层组装法、原子转移自由基聚合法、喷雾法、微乳液法等。在申请号为2014107036911的专利中公开了一种快速一步水热法制备中空多孔二氧化硅并进一步利用水合肼一步还原制得中空多孔二氧化硅/银纳米粒子的方法。在申请号为2015100603893的专利中公开本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种适配体包覆鲁米诺分子的中空多孔二氧化硅材料的制备方法，其特征是，在于该方法具有以下工艺步骤：/n（1）中空多孔二氧化硅的制备：用三步法制得中空多孔二氧化硅，首先在弱碱下（PH =8.0 ~ 9.0）分解正硅酸乙酯制得实心二氧化硅；然后在强碱下（PH = 12.5 ~ 13.0）蚀刻来获得多孔二氧化硅；最后将聚电解质聚二烯二甲基氯化铵涂覆在多孔二氧化硅的表层，离心收集后将其分散在100 mL 1.0 ~ 2.0 moL/L的氨溶液中并在60 ~ 80 ˚C下搅拌反应60~ 100 min, 经离心分离后，产物在 500 ~ 600 ˚C马弗炉中煅烧110 ~ 150 min，获得中空多孔...

【技术特征摘要】
1.一种适配体包覆鲁米诺分子的中空多孔二氧化硅材料的制备方法，其特征是，在于该方法具有以下工艺步骤：
（1）中空多孔二氧化硅的制备：用三步法制得中空多孔二氧化硅，首先在弱碱下（PH=8.0~9.0）分解正硅酸乙酯制得实心二氧化硅；然后在强碱下（PH=12.5~13.0）蚀刻来获得多孔二氧化硅；最后将聚电解质聚二烯二甲基氯化铵涂覆在多孔二氧化硅的表层，离心收集后将其分散在100mL1.0~2.0moL/L的氨溶液中并在60~80˚C下搅拌反应60~100min,经离心分离后，产物在500~600˚C马弗炉中煅烧110~150min，获得中空多孔二氧化硅；
（2）适配体包覆鲁米诺分子的中空多孔二氧化硅材料的制备：用PH=7.0~7.4的PBS溶液配制100mL0.05~0.15g/L的中空多孔二氧化硅分散液；将5mL该分散液、50uL0.01~0.1mol/L的鲁米诺溶液同时置于离心管中，将该离心管在室温振荡2~4h；随后再向该离心管中加入2.0~4.0nmol适配体，将该离心管在室温振荡2~4h；振荡完成后将该离心管离心分离以除去多余的适配体和未被包覆的鲁米诺分子，将离心后的产物用PBS定容到50mL容量瓶中并置于4˚C冰箱中备用。
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【专利技术属性】
技术研发人员：罗川南，孙元玲，王雪莹，代玉雪，刘浩，朱晓冬，高丹丹，韩蕊，王鹏飞，张少华，王喜梅，
申请(专利权)人：济南大学，
类型：发明
国别省市：山东;37