输送带传动机构制造技术

一种输送带传动机构。为提供一种避免润滑液渗入制程反应室、防止污染基板制程环境、确保制程溶液浓度的半导体制造设备部件，提出本发明专利技术，它系用于传动将玻璃基板输送至制程反应室的输送带；其包括传动轴、齿轮组、设置于齿轮组外的第一润滑槽及设置于第一润滑槽外围以接收自第一润滑槽溢出润滑液的第二润滑槽；传动轴与输送带结合，以转动方式带动输送带及其上玻璃基板朝制程步骤的顺序方向移动；齿轮组结合并带动传动轴转动；第一润滑槽盛装润滑液，其设有第一排液管及藉以将润滑液注入第一润滑槽内的注液管；第一排液管的管口高度系设于第一润滑槽并位于欲控制润滑液高度的特定高度；容纳于第一润滑槽内并转动的齿轮组藉由润滑液进行润滑。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于半导体制造设备部件，特别是一种输送带传动机构。
技术介绍
在半导体制程中，基板的制程处理都具有其特殊环境需求，在不同的制程步骤中，可能需要高温高压、低压真空或无污染的环境。在要求符合经济效益的前提下，制程反应室(chamber)的产品亦随之产生，以使得待处理的基板得以在制程反应室内依其所需的不同制程条件下进行适当的处理。如今，制程反应室的使用在半导体的制程中，已占有决定性的份量。如图1所示，在玻璃基板22制程处理中的蚀刻步骤，对玻璃基板22的湿式蚀刻处理主要系利用输送带23将玻璃基板22输送至制程反应室20。制程反应室20内设有位于输送带23上方的复数对玻璃基板22进行蚀刻作业的喷嘴25。喷嘴25系以注入管路21连接至蚀刻溶液供应源27，并以喷洒方式对玻璃基板22进行蚀刻。此外，在制程反应室20的下方设有回收管路24，藉以回收喷嘴25在蚀刻玻璃基板22过程中喷洒出的蚀刻溶液，直到蚀刻溶液处理完预定批次量的基板后，才由排入/出管路26排出使用过的蚀刻溶液，并重新注入新的蚀刻溶液。输送带23上的传动机构10几乎都是靠齿轮带动，而齿轮由于相互间的摩擦而产生热量，所以就以一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种输送带传动机构，它系用于传动将玻璃基板输送至制程反应室的输送带；其包括传动轴、齿轮组、设置于齿轮组外的第一润滑槽；传动轴与输送带结合，以转动方式带动输送带及其上玻璃基板朝制程步骤的顺序方向移动；齿轮组结合并带动传动轴转动；第一润滑槽盛装润滑液，其设有第一排液管及藉以将润滑液注入第一润滑槽内的注液管；第一排液管的管口高度系设于第一润滑槽并位于欲控制润滑液高度的特定高度；容纳于第一润滑槽内并转动的齿轮组藉由润滑液进行润滑；其特征在于所述的第一润滑槽外围设有接收自第一润滑槽溢出润滑液的第二润滑槽。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：薛裕耀，林奇锋，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]