凹版涂布设备制造技术

公开一种凹版涂布设备，包括：两个框架；第一支撑轴，安装在所述两个框架之间；旋转花键，安装在所述两个框架之间并且与所述第一支撑轴平行；和多个凹印辊模块，安装成与所述第一支撑轴和所述旋转花键装配；其中所述多个凹印辊模块接收来自所述旋转花键的旋转力，并且沿所述第一支撑轴独立地移动。

Gravure coating equipment

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】凹版涂布设备
相关申请的交叉引用本申请要求于2017年12月26日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2017-0180252号的优先权和权益，通过引用将其全部内容并入于此。本专利技术涉及凹版涂布设备，特别地，涉及用于制造电极片的凹版涂布设备，所述电极片用于制造可充电电池的电极。
技术介绍
可通过再充电而半永久地使用并用于车辆的电源以及便携式电子装置的电源的可充电电池被越来越多地使用。在可充电电池的情况下，通过将活性材料施加到集流体的表面上以配置正极和负极，然后在正极和负极之间插入隔膜来制造电极组件，并且电极组件安装在圆柱形或有棱角的金属罐中或安装在铝层压片形成的袋状外壳中。在这种情况下，用于形成可充电电池的电极的铝电极片以辊的形式提供，通过将铝电极片以卷轴的形式缠绕而制成辊。为了制造电极片，必须执行在片基材上形成涂层以增强绝缘性的工艺。涂层沿电极片的连接部分形成多个平行带形状。在现有技术中，为了形成多个带形涂层，定制并使用凹版涂布设备，该凹版涂布设备在每一个带上接连执行凹版涂布，或者具有以所需间隔设置的必要数量的辊。然而，在每一个带上接连执行凹版涂布的情况下，存在需要大量的制造时间且生产率低的问题。在使用具有以所需间隔设置的必要数量的辊的凹版涂布设备的情况下，存在如果带的数量变化或带之间的间隔变化，则不能使用凹版涂布设备，因此需要定制新的凹版涂布设备的问题。
技术实现思路
技术问题本专利技术致力于提供一种凹版涂布设备，该凹版涂布设备在形成涂层时能够实现各种数量的带以及带之间的各种间隔。技术方案本专利技术的示例性实施方式提供一种凹版涂布设备，包括：两个框架；第一支撑轴，安装在所述两个框架之间；旋转花键，安装在所述两个框架之间并且与所述第一支撑轴平行；和多个凹印辊模块，安装成与所述第一支撑轴和所述旋转花键装配；其中所述多个凹印辊模块接收来自所述旋转花键的旋转力，并且沿所述第一支撑轴独立地移动。所述凹版涂布设备可进一步包括分别与所述多个凹印辊模块耦合的多个位置传感器模块，并且所述凹印辊模块可包括在所述第一支撑轴上独立地移动的线性平台。所述凹印辊模块可包括：凹印辊，执行凹版涂布；和旋转力传递单元，安装在所述旋转花键与所述凹印辊之间，以将旋转力从所述旋转花键传递至所述凹印辊。所述旋转花键可以以齿轮的形式形成，所述齿轮具有在圆周方向上重复形成并在轴向方向上延伸的凹部和凸部。所述旋转力传递单元可包括多个齿轮。所述凹版涂布设备可一步包括安装在与两个框架之间的凹印辊相对应的位置处的油墨容器。所述凹版涂布设备可进一步包括安装在两个框架之间并且与所述第一支撑轴平行的第二支撑轴。本专利技术的另一个示例性实施方式提供一种使用所述凹版涂布设备执行的凹版涂布方法，所述凹版涂布方法包括：将多个凹印辊模块之中的位于两侧边缘处的一些凹印辊模块朝向两个框架移动并设置；和使用除了朝向两个框架移动并设置的凹印辊模块之外的剩余的凹印辊模块来执行凹版涂布。所述多个凹印辊模块的每一个可进一步包括位置传感器，并且所述凹版涂布的执行可基于所述位置传感器的检测来校正所述凹印辊模块的位置。每一个凹印辊模块可包括在所述第一支撑轴上独立地移动的线性平台，并且当所述线性平台将一些凹印辊模块朝向所述两个框架移动并设置并且所述位置传感器执行检测时，所述凹印辊模块的位置可被校正。通过使用除了朝向两个框架移动并设置的凹印辊模块之外的剩余的凹印辊模块，仅剩余的凹印辊模块的凹印辊在执行凹版涂布时被设置为与涂布油墨接触。有益效果通过使用根据本专利技术的示例性实施方式的凹版涂布设备，可实现带形涂层的各种所需数量的带以及带之间的各种所需间隔。附图说明图1是根据本专利技术的示例性实施方式的使用凹版涂布设备的凹版涂布工艺的概览。图2是根据本专利技术的示例性实施方式的凹版涂布设备的顶视图，其图解设置凹印辊模块使得仅可以使用一个凹印辊模块的状态。图3是根据本专利技术的示例性实施方式的凹版涂布设备的一个凹印辊模块的顶视图。图4是根据本专利技术的示例性实施方式的凹版涂布设备的一个凹印辊模块的前视图。图5是根据本专利技术的示例性实施方式的凹版涂布设备的顶视图，其图解聚集五个凹印辊模块使得可使用全部五个凹印辊模块的状态。具体实施方式将参考附图更全面地描述本专利技术，在附图中示出了本专利技术的示例性实施方式。如本领域技术人员将认识到的，可以以各种不同的方式修改所描述的实施方式，而全部不脱离本专利技术的精神或范围。图1是根据本专利技术的示例性实施方式的使用凹版涂布设备的凹版涂布工艺的概览。根据本专利技术的示例性实施方式的凹版涂布设备包括：多个引导辊71、72、73、74、75、76和77，配置为装载电极片基材；凹印辊模块40，执行凹版涂布；油墨容器10，存储凹版涂布油墨；和传感器模块50，检测电极片基材的连接部分的位置，以使电极片基材的连接部分与凹印辊对准。引导辊71、72、73、74、75、76和77之中的与凹印辊模块40相邻设置的两个引导辊71和72调节电极片基材的位置，使得电极片基材可与凹印辊准确接触。为此，在辊的两端处安装有气缸，以调节辊的垂直位置。凹印辊模块40和传感器模块50集成地耦合并一起移动。凹印辊模块40和传感器模块50的耦合体的数量可大于一个，并且耦合体的数量可根据需要进行调整。凹印辊模块40和传感器模块50的每一个耦合体的位置可在电极片基材的宽度方向上独立地改变。将参考图2至图5更详细地描述凹印辊模块40和传感器模块50的每一个耦合体的配置。图2是根据本专利技术的示例性实施方式的凹版涂布设备的顶视图，其图解设置凹印辊模块使得仅可以使用一个凹印辊模块的状态，图3是根据本专利技术的示例性实施方式的凹版涂布设备的一个凹印辊模块的顶视图，图4是根据本专利技术的示例性实施方式的凹版涂布设备的一个凹印辊模块的前视图。图5是根据本专利技术的示例性实施方式的凹版涂布设备的顶视图，其图解聚集五个凹印辊模块使得可使用全部五个凹印辊模块的状态。参考图2，第一支撑轴31和第二支撑轴32以及旋转花键20平行地安装在根据本专利技术的示例性实施方式的凹版涂布设备的两个框架101和102之间，并且凹印辊模块40和传感器模块50的耦合体通过与第一支撑轴31和第二支撑轴32以及旋转花键20装配而安装。图2图解凹印辊模块40和传感器模块50的五个耦合体，但是可根据需要调节耦合体的数量。存储凹版涂布油墨的油墨容器10设置在凹印辊模块40的凹印辊41的下方，并且油墨容器10以长方形形状设置在与第一支撑轴31和第二支撑轴32平行的方向上。油墨容器10设置在上框架101与下框架102之间的间隔的中心部分。油墨容器10的长边比上框架101与下框架102之间的间隔小预定宽度。因此，如图2所示，当凹印辊模块40和传感器模块50的五个耦合体之中的除中心耦合体之外的凹印辊模块40和传感器模块50的剩余的四个耦合体朝向上框架101与下框架102分布并移动时，除了中心耦合体的凹印辊以外，四个凹印辊模块40的凹印辊设本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种凹版涂布设备，包括：/n两个框架；/n第一支撑轴，安装在所述两个框架之间；/n旋转花键，安装在所述两个框架之间并且与所述第一支撑轴平行；和/n多个凹印辊模块，安装成与所述第一支撑轴和所述旋转花键装配；/n其中所述多个凹印辊模块接收来自所述旋转花键的旋转力，并且沿所述第一支撑轴独立地移动。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171226 KR 10-2017-01802521.一种凹版涂布设备，包括：
两个框架；
第一支撑轴，安装在所述两个框架之间；
旋转花键，安装在所述两个框架之间并且与所述第一支撑轴平行；和
多个凹印辊模块，安装成与所述第一支撑轴和所述旋转花键装配；
其中所述多个凹印辊模块接收来自所述旋转花键的旋转力，并且沿所述第一支撑轴独立地移动。


2.根据权利要求1所述的凹版涂布设备，进一步包括：
分别与所述多个凹印辊模块耦合的多个位置传感器模块。


3.根据权利要求2所述的凹版涂布设备，其中：
所述凹印辊模块包括线性平台，所述线性平台在所述第一支撑轴上独立地移动。


4.根据权利要求3所述的凹版涂布设备，其中：
所述凹印辊模块包括：凹印辊，执行凹版涂布；和旋转力传递单元，安装在所述旋转花键与所述凹印辊之间，以将旋转力从所述旋转花键传递至所述凹印辊。


5.根据权利要求4所述的凹版涂布设备，其中：
所述旋转花键以齿轮的形式形成，所述齿轮具有在圆周方向上重复形成并在轴向方向上延伸的凹部和凸部。


6.根据权利要求5所述的凹版涂布设备，其中：
所述旋转力传递单元包括多个齿轮。


7.根据权利要求1至6中任一项所...

【专利技术属性】
技术研发人员：李瑛竣，金相珉，李在弼，闵淙柱，姜龙熙，史義奭，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国;KR