【技术实现步骤摘要】
保护表面免受UV辐射的系统和方法
本公开内容涉及保护包括聚合物的物体免受UV降解的系统和方法。
技术介绍
众所周知,来自太阳的UV辐射会导致许多材料降解,包括由聚合物制成的物体。为了保护这些物体,通常采用UV防护剂。大多数常规UV防护剂被设计成保护在约275nm和约400nm之间的陆地UV辐射。目前的UV防护途径包括将UV防护剂并入待保护的表面,或者在表面上施加具有UV防护剂或吸收剂的聚合物涂层。人造UV辐射有时用于消毒目的。然而,用于消毒应用的UV辐射在小于或等于280nm时最有效,这对应于紫外C谱(“UVC”)。如以下所更详细讨论,常规的UV防护剂技术可能对防止UVC辐射无效。对于其中UV吸收剂并入塑料或聚合物表面的常规系统,吸收剂是:1)与受阻胺结合的有机UV吸收分子,或2)用于防晒乳液中或者用于以汽车的陶瓷窗户着色销售的聚合物膜中的氧化锌或二氧化钛纳米颗粒,或3)吸收UV辐射的无机颜料。然而,这种UV防护层不含有连续的UV防护剂层。相反,在这些系统中使用的吸收剂、纳米颗粒和颜料被设计为筛选出较低强度的基于太阳的UV辐射而不是用于消毒或杀菌的高强度UV辐射。因而,不知道这些类型的有机UV吸收剂是否在<275nm下起作用。此外,如果任何较高强度的UVC辐射穿过吸收剂或被吸收剂分子、纳米颗粒或颜料之间的聚合物/塑料吸收,那么下面的塑料或聚合物将被损坏。最后,增加聚合物或塑料中防护剂的量并不总是可行的,因为1)有机分子将相分离1-2wt%以上并且改变表面外观,2)纳米颗粒将聚集20-30wt%以 ...
【技术保护点】
1.一种保护聚合物免受UV降解的方法,所述方法包括:/n将来自人造UV光源(18)的紫外线(“UV”)辐射照射到内部物体(12)上,所述内部物体(12)包括:i)聚合物基底(14);和ii)在所述聚合物基底(14)上的连续的无机膜(16),所述连续的无机膜(16)保护所述聚合物基底(14)免受所述紫外线辐射。/n
【技术特征摘要】
20180613 US 16/007,8721.一种保护聚合物免受UV降解的方法,所述方法包括:
将来自人造UV光源(18)的紫外线(“UV”)辐射照射到内部物体(12)上,所述内部物体(12)包括:i)聚合物基底(14);和ii)在所述聚合物基底(14)上的连续的无机膜(16),所述连续的无机膜(16)保护所述聚合物基底(14)免受所述紫外线辐射。
2.权利要求1所述的方法,其中所述人造UV光源(18)发出具有在约180nm至约280nm范围内的波长的辐射。
3.权利要求1所述的方法,其中所述人造UV光源(18)仅发出波长在约180nm至约280nm的辐射。
4.权利要求1所述的方法,其中所述人造UV光源(18)是UVCLED、Hg蒸汽灯或准分子灯。
5.权利要求1所述的方法,其中所述内部物体(12)是在室内并且是墙壁、柜台、水槽、手柄、水龙头、马桶、器具或地板。
6.权利要求1所述的方法,其中所述聚合物基底(14)包括选自环氧树脂、聚氨酯、聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚醚醚酮(PEEK)、聚醚酮酮(PEKK)、丙烯腈丁二烯苯乙烯(ABS)、聚氯乙烯(PVC)、热塑性烯烃(TPO)、聚四氟乙烯、聚氟乙烯(PVF)和硅氧烷,或其任何组合的聚合物。
7.权利要求1所述的方法,其中所述连续的无机膜(16)是具有大于3.1eV且小于或等于6.9eV的带隙的半导体。
8.权利要求7所述的方法,其中所述半导体包括选自金刚石、铌酸锂、二氧化锡、氧化镍(II)、硫化锌、砷化硼、氮化镓、碳化硅、4H-SiC、氧化锌、二氧化钛、锐钛矿、氟化氧化锡、氧化铟锡及其混合物的材料。
9.权利要求1所述的方法,其中所述连续的无机膜(16)是绝缘体。
10.权利要求9所述的方法,其中所述绝缘体选自类金刚石碳、氧化铟、氮化铬、铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃和硼硅酸盐-石灰玻璃。
11.权利要求1所述的方法,其中所述连续的无机膜(16)具有约10nm至约2mm范围内的厚度。
12.权利要求1所述的方法,其中所述连续的无机膜(16)吸收波长范围为约200nm至约280nm的所述UV辐射的90%至100%并且透射波长范围为400nm至800nm的辐射的约80%至100%。
13.权利要求1所述的方法,其中所述连续的无机膜(16)覆盖暴露于所述UV辐射的所述内部物(12)的表面区域的至少90%。
14.权利要求1所述的方法,其中所述内部物体(12)进一步包括在所述连续的无机膜(16)上的阻挡层(22)。
15.权利要求1所述的方法,其中所述内部物体(12)进一步包括在所述聚合物基底(14)和所述连续的无机膜(16)之间的粘合层(15)。
16.权利要求1所述的方法,其中所述内部物体(12)定位在飞机、航天器、公共汽车、船只、轨道车、休闲交通工具和建筑物中的任何一个中。
17.一种UV辐射杀菌系统(10),包括:
内部物体(12),其包括:i)聚合物基底(14);和ii)在所述聚合物基底(14)上的连续的无机膜(16);和
人造UV光源(18),其被引导以当所述人造UV光源(18)通电时将紫外线(“UV”)辐射照射到所述内部物体(12)上,所述人造UV光源(18)被设计成发出适合杀菌的UVC波长下的辐射,
其中所述连续的无机膜(16)具有吸收所述UVC波长下的UV辐射的性质。
18.权利要求17所述的系统,其中所述人造UV光源(18)发出具有约180nm至约280nm范围内波长的辐射。
19.权利要...
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