【技术实现步骤摘要】
基板清洗装置
本说明书公开的技术涉及用于液晶显示器、等离子显示器等平板显示器用的玻璃基板、半导体晶圆、印刷基板等基板的清洗装置。
技术介绍
例如,显示装置的显示面板中使用的透明基板、制造半导体的硅晶圆等基板,为了去除附着于其表面的细微粉尘、削渣等异物,在制造工序的中途多次进行清洗。具体来说,通过使滚筒状的刷子接触被搬运装置搬入清洗槽内的各基板并相对其旋转,一边供给清洗液一边使其相对于基板表面相对地移动,去除附着在基板表面的细微的粉尘、削渣等异物。当一个基板被清洗时,直到下一个基板被搬入为止,刷子的旋转速度比清洗中相比变为低速,并且在缓慢旋转的同时提供少量的清洗液的待机状态。这样一来,通过清洗从基板表面除去的异物,在刷子清洗基板的途中,大部分与清洗液一起被洗去,但如果刷子处于待机状态,则其一部分可能残留在刷子上。另外,有时清洗槽中浮游的尘埃会附着于待机中的刷子。并且,有时这些异物会干燥,粘着在刷子上。这样一来,残留和附着在刷子上的异物可能在清洗下一个基板时附着在基板上,成为显示基板的显示品质下降的原因。因此,提 ...
【技术保护点】
1.一种清洗板状基板的基板清洗装置,其特征在于,包括:/n搬送机构,其用于沿搬送方向搬送所述基板;/n清洗室,其清洗由所述搬送机构搬入的所述基板,/n所述清洗室设置有:清洗液供给部,其对所述基板供给清洗液;旋转刷,其具有沿所述基板的板面方向并与所述搬送方向正交的方向延伸的旋转轴,一边旋转一边与上所述基板接触,/n所述旋转刷能够由移动机构在接触所述基板而进行清洗的清洗位置与不接触所述基板而不进行清洗的待机位置之间移动,/n所述待机位置设置有待机中的所述旋转刷一边旋转一边接触的清洗辅助基板、和排出供给至所述清洗辅助基板的清洗液的排出机构。/n
【技术特征摘要】
20180613 US 62/6845911.一种清洗板状基板的基板清洗装置,其特征在于,包括:
搬送机构,其用于沿搬送方向搬送所述基板;
清洗室,其清洗由所述搬送机构搬入的所述基板,
所述清洗室设置有:清洗液供给部,其对所述基板供给清洗液;旋转刷,其具有沿所述基板的板面方向并与所述搬送方向正交的方向延伸的旋转轴,一边旋转一边与上所述基板接触,
所述旋转刷能够由移动机构在接触所述基板而进行清洗的清洗位置与不接触所述基板而不进行清洗的待机位置之间移动,
所述待机位置设置有待机中的所述旋转刷一边旋转一边接触的清洗辅助基板、和排出供给至所述清洗辅助基板的清洗液的排出机构。
2.如权利要求1所...
【专利技术属性】
技术研发人员:中岛峻兵,松本龙儿,
申请(专利权)人:夏普株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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