基板清洗装置制造方法及图纸

提供尘埃等异物难以残留或附着在清洗待机中的刷子，且结构简易，基板清洗效果优异的基板清洗装置。基板清洗装置，包括：搬送辊，其用于沿搬送方向搬送液晶用基板；清洗室，其清洗由搬送辊搬入的液晶用基板；在清洗室设置有：清洗液供给部，其对液晶用基板供给清洗液；旋转刷，其具有沿液晶用基板的方向并与搬送方向正交的方向延伸的旋转轴，一边旋转一边与液晶用基板接触，旋转刷能够由移动机构在接触液晶用基板而进行清洗的清洗位置与不接触液晶用基板30而不进行清洗的待机位置之间移动，在待机位置设置有待机中的旋转刷一边旋转一边接触的清洗辅助基板、和排出供给至清洗辅助基板的清洗液的排出机构。

Base plate cleaning device

【技术实现步骤摘要】
基板清洗装置
本说明书公开的技术涉及用于液晶显示器、等离子显示器等平板显示器用的玻璃基板、半导体晶圆、印刷基板等基板的清洗装置。
技术介绍
例如，显示装置的显示面板中使用的透明基板、制造半导体的硅晶圆等基板，为了去除附着于其表面的细微粉尘、削渣等异物，在制造工序的中途多次进行清洗。具体来说，通过使滚筒状的刷子接触被搬运装置搬入清洗槽内的各基板并相对其旋转，一边供给清洗液一边使其相对于基板表面相对地移动，去除附着在基板表面的细微的粉尘、削渣等异物。当一个基板被清洗时，直到下一个基板被搬入为止，刷子的旋转速度比清洗中相比变为低速，并且在缓慢旋转的同时提供少量的清洗液的待机状态。这样一来，通过清洗从基板表面除去的异物，在刷子清洗基板的途中，大部分与清洗液一起被洗去，但如果刷子处于待机状态，则其一部分可能残留在刷子上。另外，有时清洗槽中浮游的尘埃会附着于待机中的刷子。并且，有时这些异物会干燥，粘着在刷子上。这样一来，残留和附着在刷子上的异物可能在清洗下一个基板时附着在基板上，成为显示基板的显示品质下降的原因。因此，提出了具有清洗待机中的刷子的功能的基板清洗装置。例如，在专利文献1中公开了一种附带刷子清洗功能的基板清洗装置，该基板清洗装置通过将压缩气体喷射到待机中的刷子来吹飞附着在刷子上的异物，之后，通过将刷子浸泡在清洗液中来进行刷子的清洗。现有技术文献专利文献[专利文献1]特开2002-307023号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题但是，上述附带刷子清洗功能的基板清洗装置中存在以下问题：用于喷射压缩气体的空气刀、气体供给机构，以及用于浸泡刷子的刷子清洗槽、用于捕获收集由它们除去的异物的过滤器等构造复杂，清洗装置自身大型化且耗费制造成本。本说明书公开的技术是基于上述情况而完成的，其目的在于提供一种基板清洗装置，该基板清洗装置中，异物难以残留或附着于清洗待机中的刷子中，结构简易且基板清洗效果优异。解决课题的方案(1)本说明书公开的技术的一个实施方式是清洗板状基板的基板清洗装置，其包括：搬送机构，其用于沿搬送方向搬送基板；清洗室，其清洗由所述搬送机构搬入的所述基板，在所述清洗室设置有：清洗液供给部，其对所述基板供给清洗液；旋转刷，其具有沿所述基板的板面方向并与所述搬送方向正交的方向延伸的旋转轴，一边旋转一边与上所述基板接触，所述旋转刷能够由移动机构在接触所述基板而进行清洗的清洗位置与不接触所述基板而不进行清洗的待机位置之间移动，在所述待机位置设置有待机中的所述旋转刷一边旋转一边接触的清洗辅助基板、和排出供给至所述清洗辅助基板的清洗液的排出机构。根据上述结构，不进行基板的清洗的待机中的旋转刷被移动到待机位置，一边旋转一边与清洗辅助基板接触。另外，此时，还提供清洗液。即，由于待机中的旋转刷处于与正在进行基板的清洗的状态类似的状态或相同的状态，清洗基板时残留的细微粉尘、削渣等异物与清洗液一起被洗掉并被去除。另外，清洗室中的尘埃等也很难附着在旋转刷上。另外，这样的结构与以往那样向旋转刷喷射压缩气体或将旋转刷直接浸泡在清洗液中的结构相比，能够实现小型化，并且可以设为简易的结构。(2)本说明书公开的基板清洗装置除了上述(1)的结构之外，上述基板板面朝上下方向被搬送，上述排出机构还可以包括：接收部，其配置在上述基板的搬送路径的上方，并从下方支承上述清洗辅助基板，同时接收上述清洗液；和排水路径，将由上述接收部接收的上述清洗液排出到上述清洗室外部。(3)另外，本说明书公开的基板清洗装置除上述(1)或上述(2)的结构之外，所述移动机构可以包括第一移动机构，其将所述旋转刷沿分离方向从所述清洗位置移动至不与所述基板接触的分离位置；和第二移动机构，其将所述旋转刷沿与所述分离方向交叉的方向从所述分离位置移动到所述待机位置。(4)另外，本说明书公开的基板清洗装置除上述(1)、上述(2)或上述(3)的结构之外，供给至上述基板的所述清洗液和供给至上述清洗辅助基板的所述清洗液也可以是由一个上述清洗液供给部供给。专利技术效果根据本说明书公开的技术，能够得到异物难以残留或附着在清洗待机中的刷子，结构简易且基板清洗效果优异的基板清洗装置。附图的简要说明图1是一个实施方式的基板清洗装置中，基板配置在清洗位置的状态的概略图。图2是同样地，基板配置于分离位置的状态的概略图。图3是同样地，基板配置于待机位置的状态的概略图。图4是基板清洗装置的立体图。本专利技术的实施方式参考图1到图4说明一个实施例。本实施方式的基板清洗装置10用于对例如表面附着有细微粉尘、削渣等异物状态下的矩形液晶用基板30进行清洗处理。另外，在以下的说明中，将图1的X轴方向设为液晶用基板30的搬送方向(前后方向)，将与纸面正交的Y轴方向设为左右方向(被搬送的液晶用基板30的宽度方向)，将Z轴方向设为上下方向。此外，将图1的左侧设为搬送方向的上游侧，将图1的右侧设为搬送方向的下游侧。在该基板清洗装置10中，液晶用基板30以清洗处理面30A朝向上侧的水平状态被搬入搬送方向的上游侧，以其长边方向沿着X轴方向并且其短边方向沿着Y轴方向的方式，从搬送方向的上游侧向下游侧搬送。基板清洗装置10具备搬送装置，该搬送装置具备多个搬送辊12，该搬送辊12利用未图示的搬送电机沿搬送方向(X轴方向)搬送液晶用基板30。液晶用基板30在与清洗处理面30A相反侧的板面(下表面)由搬送辊12断续地支承的同时，一边沿搬送方向搬送至清洗室11内一边进行清洗处理。在清洗室11内的上方，设置有将清洗液13以淋浴状喷出的清洗液供给部14。清洗液供给部14沿着液晶用基板30的搬送路径，并在与液晶用基板30的搬送方向正交的方向(Y轴方向)上排列设置有多个(本实施方式为两处)。这些清洗液供给部14通过从自未图示的清洗液储存槽延伸的配管15分支出的多个分支管16供给清洗液13。配管15沿着清洗室11的天花板壁11A的外表面，并且沿着与液晶用基板30的搬送方向正交的方向(Y轴方向)延伸，多个分支管16从配管15向前方进行分支，并与清洗液供给部14连接，向清洗室11内供给清洗液13。旋转刷17配置在清洗液供应部14和液晶用基板30的搬送路径之间。旋转刷17为沿着液晶用基板30的搬送路径，并且在与搬送方向正交的方向(Y轴方向)延伸的旋转轴的周围植入了刷毛的大致圆柱状。旋转刷17使该旋转轴的两端部与未图示的旋转马达连接，通过旋转马达的驱动以旋转轴为中心旋转。旋转刷17相对于被搬入到清洗室11内的液晶用基板30的表面(清洗处理面30A)，一边朝与该液晶用基板30的搬送方向相同方向旋转一边与其接触，与由清洗液供给部14供给的清洗液13一起除去附着在液晶用基板30的表面上的微细的粉尘、削渣等异物。旋转刷17在与液晶用基板30接触的过程中(清洗中)，停留在清洗室11内的固定位置。以下，将该旋转刷17在清洗中停留的图1所示的固定位置设为清洗位置。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种清洗板状基板的基板清洗装置，其特征在于，包括：/n搬送机构，其用于沿搬送方向搬送所述基板；/n清洗室，其清洗由所述搬送机构搬入的所述基板，/n所述清洗室设置有：清洗液供给部，其对所述基板供给清洗液；旋转刷，其具有沿所述基板的板面方向并与所述搬送方向正交的方向延伸的旋转轴，一边旋转一边与上所述基板接触,/n所述旋转刷能够由移动机构在接触所述基板而进行清洗的清洗位置与不接触所述基板而不进行清洗的待机位置之间移动，/n所述待机位置设置有待机中的所述旋转刷一边旋转一边接触的清洗辅助基板、和排出供给至所述清洗辅助基板的清洗液的排出机构。/n

【技术特征摘要】
20180613 US 62/6845911.一种清洗板状基板的基板清洗装置，其特征在于，包括：
搬送机构，其用于沿搬送方向搬送所述基板；
清洗室，其清洗由所述搬送机构搬入的所述基板，
所述清洗室设置有：清洗液供给部，其对所述基板供给清洗液；旋转刷，其具有沿所述基板的板面方向并与所述搬送方向正交的方向延伸的旋转轴，一边旋转一边与上所述基板接触,
所述旋转刷能够由移动机构在接触所述基板而进行清洗的清洗位置与不接触所述基板而不进行清洗的待机位置之间移动，
所述待机位置设置有待机中的所述旋转刷一边旋转一边接触的清洗辅助基板、和排出供给至所述清洗辅助基板的清洗液的排出机构。


2.如权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：中岛峻兵，松本龙儿，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP