【技术实现步骤摘要】
一种电子产品外壳的制作方法、电子产品外壳及电子产品
本专利技术涉及电子产品
,特别涉及一种电子产品外壳的制作方法、电子产品外壳及电子产品。
技术介绍
随着消费类电子产品的快速发展,消费者不仅对电子产品的硬件提出了更高的要求,其外观也是各大厂商着力发展的一个热点。目前,市面上对电子产品的金属外壳进行表面处理的工艺包括PVD(PhysicalVaporDeposition,物理气相沉积,又称真空镀)、铝合金氧化和喷涂。物理气相沉积形成的镀层在金属表面的附着力较差,容易脱落,可做的颜色有限,并且对金属材料表面的缺陷遮盖力较差;铝合金氧化仅适用于铝合金材料表面的氧化着色,由于氧化膜较薄,所以氧化着色对基材本身的缺陷没有遮盖力,并且耐磨性能也比较差,磕碰摩擦很容易露出金属的颜色;而金属表面的喷涂工艺可喷涂的颜色丰富,还可以做成不同的机理效果,对金属表面缺陷的遮盖力很强,虽然比铝合金氧化和PVD的耐磨效果要好一些,但是也存在磕碰摩擦后露出金属颜色的风险。电子产品外壳磕碰摩擦后露出金属颜色会显著降低产品的价值感。r>
技术实现思路
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【技术保护点】
1.一种电子产品外壳的制作方法,其特征在于,包括:/n提供壳体基材,在所述壳体基材的表面通过第一处理工艺形成第一处理层;以及/n在所述第一处理层的表面通过第二处理工艺形成第二处理层;/n其中,所述第一处理工艺与所述第二处理工艺不同。/n
【技术特征摘要】
1.一种电子产品外壳的制作方法,其特征在于,包括:
提供壳体基材,在所述壳体基材的表面通过第一处理工艺形成第一处理层;以及
在所述第一处理层的表面通过第二处理工艺形成第二处理层;
其中,所述第一处理工艺与所述第二处理工艺不同。
2.如权利要求1所述的电子产品外壳的制作方法,其特征在于,所述第一处理工艺为真空镀工艺,所述第一处理层为金属镀层或非金属镀层。
3.如权利要求2所述的电子产品外壳的制作方法,其特征在于,所述第一处理层为铝层、镍层、铬层、银层、钛层、氮化钛层、碳化钛层、氮碳化钛层、氮化铬层或氮化锆层。
4.如权利要求1所述的电子产品外壳的制作方法,其特征在于,所述壳体基材为铝材料或铝合金材料,所述第一处理工艺为铝合金氧化工艺。
5.如权利要求4所述的电子产品外壳的制作方法,其特征在于,所述第一处理工艺为等离子体电解氧...
【专利技术属性】
技术研发人员:李英策,唐育力,
申请(专利权)人:广东小天才科技有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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