石英连熔炉去羟基、杂质装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种石英连熔炉去羟基、杂质装置，包括上盖(1)，所述的上盖(1)中间位置设置通孔，用于容纳钨钼管(2)；所述的钨钼管(2)内部同轴设置钨铼热电偶(3)；所述的上盖(1)还设有步进电机(4)，步进电机(4)连接于钨钼管(2)。本实用新型专利技术可有效去除因生产工艺及材料本身所带来的羟基、气泡，且操作简单，见效快，在应用过程中大大提高生产效率及产品品质。

Equipment for removing hydroxyl and impurity in quartz continuous furnace

The utility model discloses a device for removing hydroxyl and impurities in a quartz continuous furnace, which comprises an upper cover (1), a through hole arranged in the middle of the upper cover (1) for accommodating a tungsten molybdenum tube (2); a tungsten rhenium thermocouple (3) is arranged coaxially in the tungsten molybdenum tube (2); the upper cover (1) is also provided with a step motor (4), and the step motor (4) is connected to the tungsten molybdenum tube (2). The utility model can effectively remove the hydroxyl groups and bubbles brought by the production process and the material itself, and has the advantages of simple operation and quick effect, greatly improving the production efficiency and product quality in the application process.

【技术实现步骤摘要】
石英连熔炉去羟基、杂质装置
本技术涉及一种石英管制造设备，具体来说，是一种石英连熔炉去羟基、杂质装置。
技术介绍
二氧化硅是一种天然形成对矿物质，由于自然形成的条件原因使其存在一定数量的其它物质，统称为杂质，虽然在制作石英砂的过程中利用物理及化学方法去除了一部分，但或多或少的还一些无法去除，杂质在制作石英玻璃的过程中会严重影响其内在质量及外在质量：1、内在质量对用户来说最为重要的应属羟基，以氢气为保护性气体的连熔炉熔制的石英玻璃，由于石英砂自身氧的存在，石英玻璃在熔制过程中会形成一定量的羟基，虽然薄壁石英管羟基可以通过真空脱羟的方式加热到1050℃经过3h即可脱出80％以上的羟基，但这样会增加生产成本。2、外在质量大多指气泡、气线以及规格范导致的外观缺陷，规格的缺陷属制程中在做不当造成可通过人为控制解决，可是气泡气线的形成却大多是石英砂本身的内在质量引起，由于一些低熔点物质的存在，例如：钾、钠、锂，石英砂在投入连熔炉的熔制过程中，低熔点杂质在800-1400度气化，气化的杂质由于比重大于大气压，自身浮力无法排出，大量的杂质气体在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种石英连熔炉去羟基、杂质装置，其特征在于：包括上盖(1)，所述的上盖(1)中间位置设置通孔，用于容纳钨钼管(2)；所述的钨钼管(2)内部同轴设置钨铼热电偶(3)；所述的上盖(1)还设有步进电机(4)，步进电机(4)连接于钨钼管(2)。/n

【技术特征摘要】
1.一种石英连熔炉去羟基、杂质装置，其特征在于：包括上盖(1)，所述的上盖(1)中间位置设置通孔，用于容纳钨钼管(2)；所述的钨钼管(2)内部同轴设置钨铼热电偶(3)；所述的上盖(1)还设有步进电机(4)，步进电机(4)连接于钨钼管(2)。


2.如权利要求1所述的石英连熔炉去羟基、杂质装置，其特征在于：所述的钨钼管(2)底部侧面沿着管体的圆周方向均匀布置出气孔(5)。


3.如权利要求1所述的石英连熔炉去羟基、杂质装置，其特征在于：所述的上盖(1)为冂型，并且设于钨坩埚(6)的顶部。...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘劲松，胡铁军，刘楚翱，
申请(专利权)人：新沂市凯达恒业光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32