用于将遮蔽材料施加至基材的系统技术方案

本发明专利技术提供一种用于将遮蔽材料(110)施加至基材(104)的系统(100)，该系统包括：原料供给装置(108)，其用于将一定量的遮蔽材料输送到基材；废物存放装置(112)，其用于接收从基材去除的遮蔽材料；喷涂喷嘴(106)，其能够相对于基材移动；以及控制器(116)，其用于控制喷嘴(106)相对于基材(104)的移动以及从原料供给装置(108)输送的遮蔽材料(110)的输送速度，其中，喷涂喷嘴(106)相对于基材(104)的移动速度基本上等于从原料供给装置(108)输送的遮蔽材料(110)的输送速度。

System for applying masking material to the substrate

A system (100) for applying a masking material (110) to a substrate (104) includes a raw material supply device (108) for delivering a certain amount of masking material to the substrate, a waste storage device (112) for receiving the masking material removed from the substrate, a spray nozzle (106) capable of moving relative to the substrate, and a controller (116) for controlling The movement of the nozzle (106) with respect to the substrate (104) and the conveying speed of the shielding material (110) conveyed from the raw material supply device (108), wherein the movement speed of the spray nozzle (106) with respect to the substrate (104) is substantially equal to the conveying speed of the shielding material (110) conveyed from the raw material supply device (108).

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于将遮蔽材料施加至基材的系统
本专利技术涉及用于将遮蔽材料施加至基材的系统，特别地但非排他地用于基于喷漆或印刷的应用。
技术介绍
许多日常物品，例如汽车车身板、家用电器和儿童玩具，都是通过基于喷涂的系统进行喷漆或印刷的。典型的基于喷涂的系统包括喷嘴，该喷嘴可与包含涂料介质的贮存器配合。泵用于将涂料介质从贮存器沿着导管驱动到喷嘴，涂料在该喷嘴处被施加至基材。在大多数现代喷涂印刷系统中，喷嘴的位置由基于计算机的控制系统精确地控制。喷嘴的位置可以通过x、y、z坐标进行调节，并且通常精确到非常严格的公差范围内。贮存器中的涂料介质根据应用来构造。在需要平滑边缘的应用中，涂料介质的空间构造使得饰面是均匀的。这在大多数应用中是有利的，但是在需要清晰(sharp)的边缘饰面的情况下，饰面质量可能会有所降低。为产生这种清晰的边缘饰面，通常将遮蔽胶带施加至基材。然后将基材与遮蔽胶带一起喷漆。当去除遮蔽胶带时，在基材上留下清晰的边缘饰面。这种简单的方法已经使用了很多年，但是有一些缺点，包括：涂料的过量使用，涂料对遮蔽胶带的污染，环境问题，去除遮蔽胶带时对涂本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于将遮蔽材料施加至基材的系统，所述系统包括：/n原料供给装置，其用于将一定量的遮蔽材料输送到基材；/n废物存放装置，其用于接收从所述基材去除的所述遮蔽材料；/n喷涂喷嘴，其能够相对于所述基材移动；以及/n控制器，其用于控制所述喷涂喷嘴相对于所述基材的移动以及从所述原料供给装置输送的所述遮蔽材料的输送速度，/n其中，所述喷涂喷嘴相对于所述基材的移动速度基本上等于从所述原料供给装置输送的所述遮蔽材料的输送速度。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170216 GB 1702522.21.一种用于将遮蔽材料施加至基材的系统，所述系统包括：
原料供给装置，其用于将一定量的遮蔽材料输送到基材；
废物存放装置，其用于接收从所述基材去除的所述遮蔽材料；
喷涂喷嘴，其能够相对于所述基材移动；以及
控制器，其用于控制所述喷涂喷嘴相对于所述基材的移动以及从所述原料供给装置输送的所述遮蔽材料的输送速度，
其中，所述喷涂喷嘴相对于所述基材的移动速度基本上等于从所述原料供给装置输送的所述遮蔽材料的输送速度。


2.一种用于将遮蔽材料施加至基材的系统，所述系统还包括：
喷涂单元，其至少部分地由所述原料供给装置、所述废物存放装置和所述喷涂喷嘴限定，
其中，所述喷涂单元由所述控制器控制，以能够作为单个单元相对于所述基材移动。


3.根据权利要求1或2所述的用于将遮蔽材料施加至基材的系统，其中，所述原料供给装置包括辊。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的用于将遮蔽材料施加至基材的系统，其中，所述废物存放装置包括辊。


5.根据前述权利要求中任一项所述的用于将遮蔽材料施加至基材的系统，所述系统还包括：
引导装置，其用于帮助所述遮蔽材料从所述原料供给装置到所述废物存放装置的传送。


6.根据权利要求5所述的用于将遮蔽材料施加至基材的系统，其中，所述引导装置包括间隔开以与所述遮蔽材料的两侧接触的成对的辊。


7.根据权利要求6所述的用于将遮蔽材料施加至基材的系统，其中，所述成对的辊被偏压于接合位置以与所述遮蔽材料接触，并且能够移动离开所述接合位置以帮助所述遮蔽材料的装载。


8.根据权利要求5至7中任一项所述的用于将遮蔽材料施加至基材的系统，其中，所述引导装置包括至少两对成对的辊，第一成对的辊布置在所述原料供给装置与所述喷涂喷嘴之间，并且第二成对的辊布置在所述喷涂喷嘴与所述废物存放装置之间。


9.根据权利要求8所述的用于将遮蔽材料施加至基材的系统，其中，所述成对的辊中的至少一个辊由马达驱动。


10.一种用于将遮蔽材料施加至基材的系统，所述系统包括：
原料供给装置，其用于将连续环形的遮蔽材料输送到基材；
喷涂喷嘴，其能够相对于所述基材移动并且用于将涂料介质施加至所述基材；以及
清洁装置，其布置成从所述遮蔽材料清洁多余的涂料介质。


11.根据权利要求10所述的用于将遮蔽材料施加至基材的系统，其中，所述喷涂喷嘴相对于所述基材的移动速度以及所述遮蔽材料的输送速度由控制器控制，所述喷涂喷嘴的所述移动速度构造成基本上等于从所述原料供给装置输送的所述遮蔽材料的所述输送速度。


12.根据权利要求11所述的用于将遮蔽材料施加至基材的系统，所述系统还包括：
喷涂单元，其至少部分地由所述原料供给装置、所述废物存放装置和所述喷涂喷嘴限定，
其中，...

【专利技术属性】
技术研发人员：艾伦·赫德，阿尔贝特·科奇斯，古斯塔夫·弗洛里安，
申请(专利权)人：杰特罗尼卡有限公司，
类型：发明
国别省市：英国;GB