The invention relates to the technical field of micro nano printing, in particular to a preparation method of convex transparent conductive film, which includes the following steps: preparation of base material, filling conductive material directly into the groove of UV structure through micro nano printing, and then transferring conductive material inside the groove to the surface of transparent base material through its static electricity and viscosity of UV glue through UV transfer printing After finishing the preparation of an embedded transparent conductive film, prepare a pet optical bare material or other optical substrate, apply UV resin on it or the embedded conductive film, and make a one-to-one fit of the two materials, and then carry out roller stamping. The invention has the advantages of small resistance and strong conductivity, and the conductive layer is directly based on the optical material without other media intervention, at the same time, the environmental pollution phenomenon of waste liquid in yellow light etching is avoided, the environmental pollution is avoided, the production cost is reduced, and the loss of the source material is reduced.
【技术实现步骤摘要】
一种外凸式的透明导电薄膜的制备方法
本专利技术涉及微纳印刷
,尤其涉及一种外凸式的透明导电薄膜的制备方法。
技术介绍
透明导电薄膜是一种既能导电又在可见光范围内具有高透明率的一种薄膜,主要有金属膜系、氧化物膜系、其他化合物膜系、高分子膜系、复合膜系等。常规透明金属导电薄膜多采用黄光刻蚀或uv转印结构后印刷导电油墨的方式实现,前者成本较高,其废液对环境有影响且浪费较大,后者制作工艺复杂且因导电材料藏于uv结构内部,不能和外界材料直接接触,所以导电性能比较差。本专利技术结合传统微纳加工技术,进一步的拓展延伸,把原本藏于内嵌式的导电材料实现外凸形式,从而使其与其他材料可直接接触大大增强导电性能。
技术实现思路
(一)解决的技术问题针对现有技术的不足,本专利技术提供了一种外凸式的透明导电薄膜的制备方法,达到了电阻小,导电性能强的优点,并且导电层直接基于光学材料之上没有其他介质干预,同时对于黄光刻蚀中的废液污染环境现象进行规避,避免了对于环境的污染,而且降低生产成本,减少了源材的损耗。(二)技术方案为实现上述技术问题,本专利技术提供了如下技术方案:一种外凸式的透明导电薄膜的制备方法,包括以下步骤:①、基材的制备将导电材料通过微纳印刷方式直接填充入uv结构凹槽内部,再用uv转印方式通过其静电及uv胶水的粘度,将沟槽内部的导电材料转移至透明基材表面形成透明导电薄膜。②、涂覆uv树脂制备完成完一张内嵌式透明导电薄膜后,准备一张pet光学裸材料或 ...
【技术保护点】
1.一种外凸式的透明导电薄膜的制备方法,其特征在于包括以下步骤:/n①、基材的制备/n将导电材料通过微纳印刷方式直接填充入uv结构凹槽内部,再用uv转印方式通过其静电及uv胶水的粘度,将沟槽内部的导电材料转移至透明基材表面形成透明导电薄膜;/n②、涂覆uv树脂/n制备完成完一张内嵌式透明导电薄膜后,准备一张pet光学裸材料或其他光学基材,在其或者内嵌式导电薄膜上涂上uv树脂,将两张材料做一比一贴合后进行滚轮压印;/n③、uv光源下进行曝光/n之后在uv光源下曝光,对曝光完后的两张材料进行分模,分模后的pet裸材上面会呈现和之前内嵌式导电薄膜一比一的电路,送进烤箱烘烤以120℃的条件下烘烤30分钟,电路即可成型。/n
【技术特征摘要】
1.一种外凸式的透明导电薄膜的制备方法,其特征在于包括以下步骤:
①、基材的制备
将导电材料通过微纳印刷方式直接填充入uv结构凹槽内部,再用uv转印方式通过其静电及uv胶水的粘度,将沟槽内部的导电材料转移至透明基材表面形成透明导电薄膜;
②、涂覆uv树脂
制备完成完一张内嵌式透明导电薄膜后,准备一张pet光学裸材料或其他光学基材,在其或者内嵌式导电薄膜上涂上uv树脂,将两张材料做一比一贴合后进行滚轮压印;
③、uv光源下进行曝光
之后在uv光源下曝光,对曝光完后的两张材料进行分模,分模后的pet裸材上面会呈现和之前内嵌式导电薄膜一比一的电路,送进烤箱烘烤以120℃的条件下烘烤30分钟,电路即可成型。
2.根据权利要求1所述的一种外凸式的透明导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤①中,此类型导电薄膜可与外界需导电物质直接接触所以导电性极强,并且可通过调整沟槽内部导电油墨高度去调节成品导电膜导电层厚度。
3.根据权利要求1所述的一种外凸式的透明导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤①中,为使uv导电膜与光学材料pet等脱膜良好,可在做完uv结构后的膜片上,通过镀膜实现一层纳米级膜层增加顺滑程度,以此达到脱膜良好的要求。
4.根据权利要求1所述的一种外凸式的透明导...
【专利技术属性】
技术研发人员:姚艳芳,
申请(专利权)人:吴江友鑫新材料科技有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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