The invention provides a shielding cable attenuation measurement method, which comprises the following steps: extracting the injection signal level of the unshielded position in the same measurement signal path to complete the reference measurement; extracting the injection signal level of the tested shielding cable position to complete the shielding measurement; comparing the reference measurement value and the shielding measurement value of the same parameter and unit to finally obtain the tested shielding electricity Cable shielding attenuation value.
【技术实现步骤摘要】
屏蔽电缆屏蔽衰减测量方法
本专利技术涉及一种测量屏蔽电缆屏蔽衰减的方法，特别是一种能够准确、真实、可靠获得屏蔽电缆屏蔽衰减测量结果的方法。。
技术介绍
目前，已有对屏蔽电缆屏蔽衰减的测量有吸收钳法和注入钳法两种。吸收钳法是通过信号发生器将某一信号电平直接注入到被测屏蔽电缆中，用测量接收设备测量卡在被测屏蔽电缆屏蔽层外的吸收钳获得的信号电平，通过比较两信号电平，得到该被测屏蔽电缆的屏蔽衰减值；注入钳法是通过卡在被测屏蔽电缆屏蔽层外的注入钳将某一信号电平直接注入到被测屏蔽电缆中，用测量接收设备测量被测屏蔽电缆中的信号电平，通过比较两信号电平，得到该被测屏蔽电缆的屏蔽衰减值。这两种方法存在的主要问题是，当被测屏蔽电缆非50Ω传输阻抗的同轴电缆时，因难以获得被测电缆实际的传输阻抗，无法做到被测电缆与50Ω特性阻抗的测量设备实现阻抗的完全匹配，故吸收钳法中信号发生器指示的输出信号电平值和注入钳法中测量接收设备给出的信号电平测量值均不能保证其真实性，则最终获得的被测屏蔽电缆的屏蔽衰减测量结果也不能真实反映被测屏蔽电缆屏蔽衰减的实
【技术保护点】
1.一种屏蔽电缆屏蔽衰减测量方法，其特征在于，包括如下步骤：/n在同一测量信号通路中提取无屏蔽位置的注入信号电平完成参考测量；/n提取被测屏蔽电缆位置的注入信号电平完成屏蔽测量；/n用相同参量和单位的参考测量值和屏蔽测量值进行比较，最终获得被测屏蔽电缆屏蔽衰减值。/n
【技术特征摘要】
1.一种屏蔽电缆屏蔽衰减测量方法，其特征在于，包括如下步骤：
在同一测量信号通路中提取无屏蔽位置的注入信号电平完成参考测量；
提取被测屏蔽电缆位置的注入信号电平完成屏蔽测量；
用相同参量和单位的参考测量值和屏蔽测量值进行比较，最终获得被测屏蔽电缆屏蔽衰减值。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述参考测量和所述屏蔽测量通过测量系统完成，所述测量系统包括信号电平产生与注入子系统和信号电平测量子系统；
所述信号电平产生与注入子系统由信号发生器、测量电缆、测量辅助装置、被测屏蔽电缆和终端负载组成；其中所述信号发生器用于为测量通路通过信号电平；所述测量辅助装置用于实现测量电缆和被测屏蔽电缆的连接贯通，提供测量信号通路中无屏蔽状态的测量位置点；
所述信号电平测量子系统由第一线路电流提取设备、第二线路电流提取设备和测量接收设备组成；所述第一线路电流提取设备和第二线路电流提取设备分别用于提取测量信号通路中无屏蔽位置和被测屏蔽电缆位置的信号电平；所述测量接收设备用于对线路电流提取设备...
【专利技术属性】
技术研发人员：李立嘉，罗亚锋，沈涛，崔强，
申请(专利权)人：北京大泽科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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