显示基板、制备方法及显示装置制造方法及图纸

技术编号:22646933 阅读:14 留言:0更新日期:2019-11-26 17:22
本申请公开一种显示基板、制备方法及显示装置,显示基板包括柔性基底,柔性基底具有多个间隔的像素岛区,像素岛区包括显示区和环绕显示区的非显示区,非显示区内设置有环绕显示区的凹槽;显示区包括电致发光层,电致发光层上形成有薄膜封装层,薄膜封装层的至少部分边缘部位位于凹槽内。显示装置包括该显示基板。制备方法用于制备该显示基板。本申请通过凹槽确保封装的有效长度,在保证封装强度的同时缩小像素岛区的非显示区所占的面积,以增加像素岛区的数量,从而提高分辨率以得到更好的显示效果。

Display base plate, preparation method and display device

The present application discloses a display substrate, a preparation method and a display device. The display substrate includes a flexible substrate, the flexible substrate has a plurality of spaced pixel island areas, the pixel island area includes a display area and a non display area surrounding the display area, and a concave groove surrounding the display area is arranged in the non display area; the display area includes an electroluminescent layer, on which a film packaging layer and a film sealing layer are formed At least part of the edge of the loading layer is located in the groove. The display device includes the display base plate. The preparation method is used for preparing the display substrate. The application ensures the effective length of the package through the groove, reduces the area occupied by the non display area of the pixel island area while ensuring the package strength, so as to increase the number of the pixel island area, thereby improving the resolution and obtaining better display effect.

【技术实现步骤摘要】
显示基板、制备方法及显示装置
本申请一般涉及显示
,尤其涉及一种显示基板、制备方法及显示装置。
技术介绍
有机电致发光显示基板(OrganicElectroluminescentDisplay,OLED)凭借其低功耗、高色饱和度、广视角、薄厚度、能实现柔性化等优异性能,逐渐成为显示领域的主流,可以广泛应用于智能手机、平板电脑、电视等终端产品。其中,又以柔性OLED产品最为显著,逐步以其可以满足各种特殊结构而成为OLED显示主流。随着柔性工艺的发展,从弯曲(Bendable),弯折(Foldable),逐步过渡到弹性柔性(Stretchable)。对器件柔性方面的要求也逐步提升,弹性柔性器件逐步进入了大家的视野。现有的可拉伸器件普遍采用岛-桥-空位的方式进行制作,由于每个岛区需要单独封装,因此每个岛的封装距离成为影响分辨率最关键的因素之一。目前,如何获得更好的分辨率,同时不改变每个岛的封装效果成为目前亟待解决的技术问题。
技术实现思路
鉴于现有技术中的上述缺陷或不足,期望提供一种显示基板、制备方法及显示装置。第一方面,本专利技术实施例提供一种显示基板,包括柔性基底,所述柔性基底具有多个间隔的像素岛区,所述像素岛区包括显示区和环绕所述显示区的非显示区,所述非显示区内设置有环绕所述显示区的凹槽;所述显示区包括电致发光层,所述电致发光层上形成有薄膜封装层,所述薄膜封装层的至少部分边缘部位位于所述凹槽内。可选地,所述非显示区内设置有一圈、多圈连续布置或多圈间隔布置的所述凹槽,每圈所述凹槽整圈或间断的环设于所述显示区的周向。可选地,所述凹槽各个位置的深度不一。可选地,所述凹槽的深度为10-5000nm。可选地,所述凹槽的宽度为1-10um。第二方面,本专利技术实施例提供一种显示装置,包括上述显示基板。第三方面,本专利技术实施例提供一种显示基板的制备方法,包括:提供柔性基底,所述柔性基底具有多个间隔的像素岛区,所述像素岛区包括显示区和环绕所述显示区的非显示区;在所述像素岛区内形成电致发光层,通过构图工艺在所述非显示区内形成环绕所述显示区的凹槽;在所述电致发光层上形成薄膜封装层,所述薄膜封装层覆盖所述凹槽的表面。可选地,所述在所述像素岛区内形成电致发光层之前,在所述柔性基底的像素岛区内形成阵列基板层,包括:在所述柔性基底的像素岛区上依次形成阻挡层、缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极层、层间绝缘层、源漏金属层和平坦化层;所述在像素岛区内形成电致发光层包括:在所述平坦化层上依次形成阳极层、像素定义层、支撑层、发光层和阴极层,其中,所述阳极层经所述像素定义层的像素开口区域与所述发光层电连接。可选地,所述通过构图工艺在所述非显示区内形成环绕所述显示区的凹槽,包括:在非显示区内涂覆光刻胶层,并按预设图案对所述光刻胶层进行曝光及显影;以曝光及显影后的光刻胶层为掩膜板,至多蚀刻露出所述阻挡层;剥离曝光及显影后的光刻胶层。可选地,所述非显示区内设置有一圈、多圈连续布置或间隔布置的所述凹槽,每圈所述凹槽整圈或间断的环设于所述显示区的周向。可选地,所述凹槽各个位置的深度不一;和/或,所述凹槽的深度为10-5000nm;和/或,所述凹槽的宽度为1-10um。根据本申请实施例提供的技术方案,在像素岛区的非显示区内设置环绕显示区的凹槽,通过凹槽确保各个像素岛区的有效封装长度,且凹槽使得薄膜封装层形成类似褶皱的结构,在保证封装效果的同时能够缩小非显示区所占面积,从而在柔性基底上可设置较多的像素岛区,即可增加显示结构的数量来提高分辨率,从而得到良好的显示效果。附图说明通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述,本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显:图1为本专利技术实施例提供的显示基板的结构示意图;图2为图1中一个像素岛区的放大图;图3为图2中像素岛区、岛间连接区的剖视图;图4为本专利技术实施例提供的显示基板的制备方法的流程图;图5为本专利技术实施例提供的显示基板的制备方法的流程结构图之一;图6为本专利技术实施例提供的显示基板的制备方法的流程结构图之二;图7为本专利技术实施例提供的显示基板的制备方法的流程结构图之三;图8为本专利技术实施例提供的显示基板的制备方法的流程结构图之四。具体实施方式下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关专利技术,而非对该专利技术的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与专利技术相关的部分。需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。为解决现有的可拉伸器件采用岛-桥-空位方式制作时,单个像素岛区在单独封装时,各个像素岛区的封装宽度过宽会影响显示基板的分辨率,本专利技术实施例提供一种显示基板、制备方法及显示装置,在使得显示基板获得更好分辨率的同时,确保各个像素岛区封装的有效性和可靠性。如图1至图3所示,本专利技术实施例提供一种显示基板,包括柔性基底1,柔性基底1具有多个间隔的像素岛区10,像素岛区10包括显示区101和环绕显示区101的非显示区102,非显示区102内设置有环绕显示区101的凹槽8,相邻像素岛区10之间的区域为岛间连接区11,岛间连接区11内布置有连接像素岛区的导线;显示区包括电致发光层,电致发光层上形成有薄膜封装层16,薄膜封装层16的至少部分边缘部位位于凹槽8内。参考图3,像素岛区10包括设置在柔性基底1上的阵列基板层,电致发光层形成于阵列基板层的上方。阵列基板层包括依次形成在柔性基底1的像素岛区10上的阻挡层2、缓冲层3、有源层4、栅极绝缘层5、栅极层6、层间绝缘层7、源漏金属层9和平坦化层10,栅极绝缘层5覆盖缓冲层3和有源层4,层间绝缘层7覆盖栅极绝缘层5和栅极层6,平坦化层10覆盖层间绝缘层7和源漏金属层9。其中,有源层4包括源极区域41和漏极区域42,源漏金属层9包括源极91和漏极92,源极91与有源层4中的源极区域41电连接,漏极92与有源层4中的漏极区域42电连接。阻挡层2起到阻挡水汽和氧气渗透的作用。在阵列基板层的非显示区内,凹槽8可贯通平坦化层10并伸入层间绝缘层7的内部,凹槽8至多露出阻挡层2。电致发光层包括与源漏金属层9的漏极92电连接的阳极层11、形成在阳极层11上的像素定义层12、形成在像素定义层12上的支撑层13、形成在像素定义层的像素开口区域上的发光层14、形成在发光层14上的阴极层15,像素定义层12上的像素开口区域露出阳极层11。像素定义层限定像素开口区域以露出阳极层11,发光层14经像素开口区域与阳极层11电连接,支撑层13为设置在像素定义层12上的多个支撑垫,发光层14在支撑层13处断开。像素定义层12具有正对凹槽本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板,其特征在于,包括柔性基底,所述柔性基底具有多个间隔的像素岛区,所述像素岛区包括显示区和环绕所述显示区的非显示区,所述非显示区内设置有环绕所述显示区的凹槽;/n所述显示区包括电致发光层,所述电致发光层上形成有薄膜封装层,所述薄膜封装层的至少部分边缘部位位于所述凹槽内。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示基板,其特征在于,包括柔性基底,所述柔性基底具有多个间隔的像素岛区,所述像素岛区包括显示区和环绕所述显示区的非显示区,所述非显示区内设置有环绕所述显示区的凹槽;
所述显示区包括电致发光层,所述电致发光层上形成有薄膜封装层,所述薄膜封装层的至少部分边缘部位位于所述凹槽内。


2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述非显示区内设置有一圈、多圈连续布置或多圈间隔布置的所述凹槽,每圈所述凹槽整圈或间断的环设于所述显示区的周向。


3.根据权利要求1或2所述的显示基板,其特征在于,所述凹槽各个位置的深度不一。


4.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述凹槽的深度为10-5000nm。


5.根据权利要求1或2或4所述的显示基板,其特征在于,所述凹槽的宽度为1-10um。


6.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-5任一项所述的显示基板。


7.一种显示基板的制备方法,其特征在于,包括:
提供柔性基底,所述柔性基底具有多个间隔的像素岛区,所述像素岛区包括显示区和环绕所述显示区的非显示区;
在所述像素岛区内形成电致发光层,通过构图工艺在所述非显示区内形成环绕所述显示区的凹槽;
在所述电致发光层上形成薄膜封装层,所述薄膜封装层覆盖所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:田宏伟牛亚男张帅刘明王晶王品凡刘政
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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