The utility model relates to a chip tray structure, which comprises a cover body and a chip tray. The wafer tray has a plurality of through holes arranged in a matrix, a plurality of through holes connected with and staggered with each tank, a plurality of through holes corresponding to the intersection of each channel, and a plurality of through holes defined by the walls of each channel and each channel (part). The cover body is selectively overlapped on the top of the wafer tray. By the composition of the above components, the wafer holding is provided to facilitate the cleaning process.
【技术实现步骤摘要】
晶片托盘结构
本技术有关于晶片清洗设备相关的
,特别是指一种晶片托盘结构。
技术介绍
集成电路组件的制程中,最频繁的制程步骤就是晶片清洗。晶片(Wafer)洗净的目的乃是为了除去附着于晶片表面上的有机化合物、金属杂质或微粒。而这些污染物会对于产品后续制程的影响非常大。金属杂质的污染会造成p-n接面的漏电、缩减少数载子的生命期、降低闸极氧化层的崩溃电压。微粒的附着则会影响微影制程图案转移的真实性,甚至造成电路结构的短路。因此,在晶片清洗制程中,必须有效的去除附着于晶片表面的有机化合物、金属杂质以及微粒,同时在清洗后晶片表面必须没有原生氧化层,表面粗糙度要极小。为便于清洗曾有业者提出方便收纳与清洗的「可直接清洗晶片的晶片收纳盘」,公开号M307002的中国台湾专利作为教示。虽说前案可方便清洗剂流动及晶片的放置,但仍存有其缺失:1.加工复杂:前案的晶片收纳空间是通过矩阵排列的容槽所达成,而各容槽则是通过阶级层凹陷的槽壁来界定,导致制备该收纳盘的加工过程十分复杂。2.晶片遮蔽区过大:晶片被放置于容槽的阶级层槽壁上,故晶片四边朝下的抵接端面都会被容槽的阶级层所遮蔽,导致清洗的死角。3.流道过长:虽说前案各容槽之间设有相互流通的导液流道,但越是位于晶片收纳盘中的容槽,其清洗剂欲流至晶片收纳盘外侧的路径越长,导到带有杂质的清洗剂会在运动的过程中污染到其它晶片。
技术实现思路
有鉴于上述习知技艺的问题与缺失,本创作的一目的,即通过结构的创新提供一种晶片托盘结构,以克服习知前案的缺 ...
【技术保护点】
1.一种晶片托盘结构,其特征在于,包括:/n一晶片托盘,具有一体形成的复数容槽透孔、复数导液流道、复数流道透孔、及复数晶片容槽;/n各该容槽透孔,是顶、底贯穿该晶片托盘形成,并呈矩阵排列;/n各该导液流道,是交叉凹陷形成于该晶片托盘顶端面,且与各该容槽透孔连通;/n各该流道透孔,是顶、底贯穿该晶片托盘形成,且位于各该导液流道交错处;/n各该晶片容槽,是由各该容槽透孔局部孔壁及与各该容槽透孔连通的各该导液流道未端所共同界定;/n一盖体,是选择性迭设于该晶片托盘顶端面,具有一栅栏区。/n
【技术特征摘要】
1.一种晶片托盘结构,其特征在于,包括:
一晶片托盘,具有一体形成的复数容槽透孔、复数导液流道、复数流道透孔、及复数晶片容槽;
各该容槽透孔,是顶、底贯穿该晶片托盘形成,并呈矩阵排列;
各该导液流道,是交叉凹陷形成于该晶片托盘顶端面,且与各该容槽透孔连通;
各该流道透孔,是顶、底贯穿该晶片托盘形成,且位于各该导液流道交错处;
各该晶片容槽,是由各该容槽透孔局部孔壁及与各该容槽透孔连通的各该导液流道未端所共同界定;
一盖体,是选择性迭设于该晶片托盘顶端面...
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