一种显示基板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种显示基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，为解决通过一次构图工艺同时形成层叠设置的两层功能图形时，无法实现上层功能图形和下层功能图形精确的尺寸对应关系，导致对显示基板的工作性能产生影响的问题。所述制作方法包括：在基底上依次形成层叠设置的第一过渡功能图形、第二过渡功能图形和光刻胶图形，光刻胶图形覆盖第二过渡功能图形的边缘区域；对光刻胶图形进行烘烤，使部分光刻胶图形覆盖第二过渡功能图形的侧表面；以烘烤后的光刻胶图形为掩膜，对第二过渡功能图形进行湿法刻蚀，形成第二目标功能图形，并对第一过渡功能图形进行刻蚀，形成第一目标功能图形。本发明专利技术提供的制作方法用于制作显示基板。

A display base plate and its manufacturing method and display device

The invention discloses a display base plate and a production method and a display device thereof, which relates to the display technical field. In order to solve the problem that when two layers of functional graphics are formed by one-time composition process at the same time, it is unable to realize the accurate size corresponding relationship between the upper functional graphics and the lower functional graphics, resulting in the impact on the working performance of the display base plate. The manufacturing method comprises the following steps: forming the first transition function graph, the second transition function graph and the photoresist graph in sequence on the substrate, wherein the photoresist graph covers the edge area of the second transition function graph; baking the photoresist graph so that part of the photoresist graph covers the side surface of the second transition function graph; taking the baked photoresist graph as the mask, and The second transition function figure is wet etched to form the second target function figure, and the first transition function figure is etched to form the first target function figure. The manufacturing method provided by the invention is used for manufacturing a display base plate.

【技术实现步骤摘要】
一种显示基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
目前，为了节省显示基板的制作工艺流程，一般会将显示基板中层叠设置的功能图形，在一次构图工艺中形成。在利用这种方式形成层叠设置的两层功能图形时，一般先以光刻胶图形为掩膜，刻蚀形成位于上层的上层功能图形，然后再继续以光刻胶图形为掩膜刻蚀形成位于下层的下层功能图形。但是当以湿法刻蚀形成上层功能图形时，由于受到湿法刻蚀工艺自身的限制，所形成的上层功能图形在与光刻胶图形的边缘处对应的部分，会被刻蚀掉，而在继续采用干法刻蚀形成下层功能图形时，下层功能图形与光刻胶图形的边缘处对应的部分则会保留，从而使得下层功能图形与光刻胶图形边缘对应的部分，在平行于显示基板的基底的方向上，会超出上层功能图形与光刻胶图形边缘对应的部分较多，从而无法实现上层功能图形和下层功能图形精确的尺寸对应关系，导致对显示基板的工作性能产生影响。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，用于解决通过一次构图工艺同时形成层叠设置的两层功能图形时，无法实现上层功能图形和下层功能图形精确的尺寸对应关系，导致对显示基板的工作性能产生影响的问题。为了实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：本专利技术的第一方面提供一种显示基板的制作方法，包括：在基底上依次形成层叠设置的第一过渡功能图形、第二过渡功能图形和光刻胶图形，所述光刻胶图形覆盖所述第二过渡功能图形的边缘区域；对所述光刻胶图形进行烘烤，使部分所述光刻胶图形流动至所述第二过渡功能图形的侧面，并覆盖所述第二过渡功能图形的侧表面；以烘烤后的光刻胶图形为掩膜，对所述第二过渡功能图形进行湿法刻蚀，形成第二目标功能图形，并对所述第一过渡功能图形进行刻蚀，形成第一目标功能图形。可选的，形成所述第一过渡功能图形、所述第二过渡功能图形和所述光刻胶图形的步骤具体包括：在所述基底上依次沉积形成层叠设置的第一功能材料层、第二功能材料层和光刻胶层；对所述光刻胶层进行曝光，形成光刻胶完全保留区域、光刻胶半保留区域和光刻胶完全去除区域；其中所述光刻胶完全保留区域和所述光刻胶半保留区域与所述第一过渡功能图形和所述第二过渡功能图形所在区域对应，所述光刻胶完全去除区域与除所述第一过渡功能图形和所述第二过渡功能图形所在区域之外的其它区域对应；将位于所述光刻胶半保留区域的光刻胶层部分去除，并将位于所述光刻胶完全去除区域的光刻胶层完全去除，形成所述光刻胶过渡图形；以所述光刻胶过渡图形为掩膜，对所述第二功能材料层进行刻蚀，形成所述第二过渡功能图形，并对所述第一功能材料层进行刻蚀，形成所述第一过渡功能图形；对所述光刻胶过渡图形进行灰化工艺，将位于所述光刻胶半保留区域的光刻胶层完全去除，并将位于所述光刻胶完全保留区域的光刻胶层减薄，形成所述光刻胶图形。可选的，形成所述第一功能材料层的步骤具体包括：沉积形成基础非晶硅薄膜层；对所述基础非晶硅薄膜层背向所述基底的表面进行离子掺杂，使所述基础非晶硅薄膜层背向所述基底的表面向所述基底的方向延伸预设厚度的部分具有导电能力；形成所述第二功能材料层的步骤具体包括：在掺杂后的所述基础非晶硅薄膜层背向所述基底的一侧沉积形成金属薄膜层；所述对所述第一功能材料层进行刻蚀，形成所述第一过渡功能图形的步骤具体包括：以所述光刻胶过渡图形为掩膜，将掺杂后的所述基础非晶硅薄膜层中未被所述光刻胶过渡图形覆盖的部分全部刻蚀掉，形成所述第一过渡功能图形；所述对所述第一过渡功能图形进行刻蚀，形成所述第一目标功能图形的步骤具体包括：以烘烤后的所述光刻胶图形为掩膜，对未被所述光刻胶图形覆盖的掺杂后的所述基础非晶硅薄膜层进行刻蚀，以将所述基础非晶硅薄膜层背向所述基底的表面向所述基底的方向延伸预设厚度的部分去除，形成所述第一目标功能图形。可选的，所述对所述光刻胶图形进行烘烤的步骤具体包括：将所述光刻胶图形放置在烘烤设备中，利用所述烘烤设备对所述光刻胶图形进行烘烤。可选的，所述对所述光刻胶图形进行烘烤的步骤具体包括：将所述光刻胶图形放置在干刻设备中，利用所述干刻设备对所述光刻胶图形进行烘烤。可选的，所述对所述光刻胶图形进行烘烤的步骤具体包括：将所述光刻胶图形放置在温度在120℃～150℃之间的环境中，对所述光刻胶图形的烘烤时间在100s～120s之间。可选的，在垂直于所述基底的方向上，所述光刻胶层的厚度在2.5μm～2.8μm之间。基于上述显示基板的制作方法的技术方案，本专利技术的第二方面提供一种显示基板，采用上述制作方法制作，所述显示基板包括：沿靠近基底至远离所述基底的方向上，依次层叠设置在所述基底上的第一目标功能图形和第二目标功能图形，所述第一目标功能图形的第一目标边沿在所述基底上的正投影，与所述第二目标功能图形的第二目标边沿在所述基底上的正投影之间，在垂直于所述第一目标边沿的方向上的最大距离在预设目标范围内；所述第一目标边沿和所述第二目标边沿大致平行，且均位于所述第二目标功能图形的同一侧。可选的，所述第一目标功能图形的第一目标边沿在所述基底上的正投影，与所述第二目标功能图形的第二目标边沿在所述基底上的正投影之间，在垂直于所述第一目标边沿的方向上的最大距离小于或等于0.1μm。基于上述显示基板的技术方案，本专利技术的第三方面提供一种显示装置，包括上述显示基板。本专利技术提供的技术方案中，不仅能够在同一次构图工艺中同时形成层叠设置的第一目标功能图形和第二目标功能图形，节省了显示基板的制作工艺流程。而且，通过烘烤所述光刻胶图形，使光刻胶图形能够覆盖所述第二过渡功能图形的侧表面，从而使得在通过湿法刻蚀形成所述第二目标功能图形时，所述第二过渡功能图形被光刻胶图形覆盖的侧表面不会在湿法刻蚀的过程中出现底切现象，从而保证了所述第二目标功能图形具有精确的尺寸。同时，由于所述第一目标功能图形同样以所述烘烤后的光刻胶图形为掩膜形成，因此所述第一目标功能图形与所述侧表面对应的表面在平行于显示基板的基底的方向上，不会超出所述侧表面太多，从而保证了所述第一目标功能图形和所述第二目标功能图形精确的尺寸对应关系，更好的提升了显示基板的工作性能。附图说明此处所说明的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，构成本专利技术的一部分，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1a-图1c为相关技术中的显示基板的制作方法的流程示意图；图2a-图2i为本专利技术实施例提供的显示基板的制作方法的流程示意图。具体实施方式为了进一步说明本专利技术实施例提供的显示基板及其制作方法、显示装置，下面结合说明书附图进行详细描述。请参阅图2e-图2i，本专利技术实施例提供了一种显示基板的制作方法，包括：在基底10上依次形成层叠设置的第一过渡功能图形120、第二过渡功能图形130和光刻胶图形141’，所述光刻胶图形141’覆盖所述第二过渡功能图形130的边缘区域，如图2e所示；对所述光刻胶图形141’进行烘烤，使部分所述光刻胶图形141’流动至所述第二过渡功能图形130的侧面，并覆盖所述第二过渡功能图形130的侧表面，如图2f所示；以烘烤后的光刻胶图形141’为掩膜，对所述第二过渡功能图形130进行湿法刻蚀，形成第二目标功能图形131’，并对所述第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：在基底上依次形成层叠设置的第一过渡功能图形、第二过渡功能图形和光刻胶图形，所述光刻胶图形覆盖所述第二过渡功能图形的边缘区域；对所述光刻胶图形进行烘烤，使部分所述光刻胶图形流动至所述第二过渡功能图形的侧面，并覆盖所述第二过渡功能图形的侧表面；以烘烤后的光刻胶图形为掩膜，对所述第二过渡功能图形进行湿法刻蚀，形成第二目标功能图形，并对所述第一过渡功能图形进行刻蚀，形成第一目标功能图形。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：在基底上依次形成层叠设置的第一过渡功能图形、第二过渡功能图形和光刻胶图形，所述光刻胶图形覆盖所述第二过渡功能图形的边缘区域；对所述光刻胶图形进行烘烤，使部分所述光刻胶图形流动至所述第二过渡功能图形的侧面，并覆盖所述第二过渡功能图形的侧表面；以烘烤后的光刻胶图形为掩膜，对所述第二过渡功能图形进行湿法刻蚀，形成第二目标功能图形，并对所述第一过渡功能图形进行刻蚀，形成第一目标功能图形。2.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，形成所述第一过渡功能图形、所述第二过渡功能图形和所述光刻胶图形的步骤具体包括：在所述基底上依次沉积形成层叠设置的第一功能材料层、第二功能材料层和光刻胶层；对所述光刻胶层进行曝光，形成光刻胶完全保留区域、光刻胶半保留区域和光刻胶完全去除区域；其中所述光刻胶完全保留区域和所述光刻胶半保留区域与所述第一过渡功能图形和所述第二过渡功能图形所在区域对应，所述光刻胶完全去除区域与除所述第一过渡功能图形和所述第二过渡功能图形所在区域之外的其它区域对应；将位于所述光刻胶半保留区域的光刻胶层部分去除，并将位于所述光刻胶完全去除区域的光刻胶层完全去除，形成所述光刻胶过渡图形；以所述光刻胶过渡图形为掩膜，对所述第二功能材料层进行刻蚀，形成所述第二过渡功能图形，并对所述第一功能材料层进行刻蚀，形成所述第一过渡功能图形；对所述光刻胶过渡图形进行灰化工艺，将位于所述光刻胶半保留区域的光刻胶层完全去除，并将位于所述光刻胶完全保留区域的光刻胶层减薄，形成所述光刻胶图形。3.根据权利要求2所述的显示基板的制作方法，其特征在于，形成所述第一功能材料层的步骤具体包括：沉积形成基础非晶硅薄膜层；对所述基础非晶硅薄膜层背向所述基底的表面进行离子掺杂，使所述基础非晶硅薄膜层背向所述基底的表面向所述基底的方向延伸预设厚度的部分具有导电能力；形成所述第二功能材料层的步骤具体包括：在掺杂后的所述基础非晶硅薄膜层背向所述基底的一侧沉积形成金属薄膜层；所述对所述第一功能材料层进行刻蚀，形成所述第一过渡功能图形的步骤具体包括：以所述光刻胶过渡图形为掩膜，将掺杂后的所述基础非晶硅薄膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：钱海蛟，姜涛，高锦成，陈亮，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11