【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】模头装置、涂布方法及层叠体形成装置
本专利技术涉及模头装置、涂布方法及层叠体形成装置。
技术介绍
例如,已知有为了涂布浆料而使用的模头装置(例如,参照专利文献1)。浆料通过将粉末状的材料分散于液状介质中而进行制备,内包有气泡或垃圾颗粒等的杂质。因此,具有由于在涂布浆料而形成的涂膜上残留气泡而产生气泡故障(杂质故障)的问题及难以形成均匀厚度的涂膜的问题。特别是,在通过反复进行浆料的涂布而形成的涂膜的层叠体中,上述问题显著。另一方面,已知有用于将浆料内包的气泡去除的脱泡装置(杂质除去用的专用装置)(例如,参照专利文献2)。专利文献1:(日本)特开2003-10766号公报专利文献2:(日本)特开2011-50814号公报在涂布浆料之前,可使用脱泡装置将浆料内包的气泡除去,但具有引起装置整体的大型化及装置结构的复杂化带来的装置成本的上升及工序数的增加造成的生产力的降低的问题。
技术实现思路
本专利技术是为了解决伴随上述现有技术的课题而研发的,其目的在于提供不使用杂质除去用的专用装置,就可形成没有杂质故障且均匀厚度的涂膜的模头装置及涂布方法、以及可形成所述涂膜的层叠体的层叠体 ...
【技术保护点】
1.一种模头装置,在搬送的基材上涂布浆料并形成涂膜,其中,具有:前方刀片;后方刀片,其位于比所述前方刀片靠所述基材的搬送方向下游侧的位置;中央刀片,其位于所述前方刀片与所述后方刀片之间;内部杂质除去空间,其用于将通过所述中央刀片而形成的所述浆料的涂膜中内包的杂质除去,所述前方刀片及所述中央刀片以形成所述浆料的储液部的方式构成,所述内部杂质除去空间位于所述中央刀片与所述后方刀片之间,所述后方刀片与所述基材之间的分开距离设定得比所述中央刀片与所述基材之间的分开距离小。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.03.14 JP 2017-0487311.一种模头装置,在搬送的基材上涂布浆料并形成涂膜,其中,具有:前方刀片;后方刀片,其位于比所述前方刀片靠所述基材的搬送方向下游侧的位置;中央刀片,其位于所述前方刀片与所述后方刀片之间;内部杂质除去空间,其用于将通过所述中央刀片而形成的所述浆料的涂膜中内包的杂质除去,所述前方刀片及所述中央刀片以形成所述浆料的储液部的方式构成,所述内部杂质除去空间位于所述中央刀片与所述后方刀片之间,所述后方刀片与所述基材之间的分开距离设定得比所述中央刀片与所述基材之间的分开距离小。2.如权利要求1所述的模头装置,其中,所述中央刀片具有对所述储液部的所述浆料赋予旋转力的旋转赋予部。3.如权利要求2所述的模头装置,其中,所述旋转赋予部通过异形部而构成,该异形部在所述中央刀片的与所述前方刀片相对的面形成,所述异形部具有倾斜部及/或曲率部。4.如权利要求1~3中任一项所述的模头装置,其中,所述中央刀片具有引导部,该引导部从所述基材分开且沿着朝向所述内部杂质除去空间的方向引导构成所述涂膜的所述浆料。5.如权利要求4所述的模头装置,其中,所述引导部通过倾斜部而形成,该倾斜部在所述中央刀片的与所述后方刀片相对的面形成。6.如权利要求1~5中任一项所述的模头装置,其中,所述后方刀片具有将所述涂膜中内包的杂质向所述涂膜的表面引导的引导部。7.如权利要求6所述的模头装置,其中,所述后方刀片的所述引导部通过异形部而形成,该异形部在所述后方刀片的与所述中央刀片相对的面形成,所述异形部具有倾斜部及/或曲率部,所述异形部的开始位置与所述基材之间的分开距离设定得比所述中央刀片与所述基材之间的所述分开距离大。8.如权利要求7所述的模头装置,其中,构成所述后方刀片的所述引导部的所述异形部的所述曲率部具有辊形状。9.如权利要求1~8中任一项所述的模头装置,其中,所述内部杂质除去空间被负压化。10.如权利要求1~9中任一项所述的模头装置,其中,所述杂质为气泡或垃圾颗粒。11.一种涂布方法,利用模头装置在搬送的基材上涂布浆料而形成涂膜,所述模头装置具有:前方刀片;后方刀片,其位于比所述前方刀片靠所述基材的搬送方向下游侧的位置...
【专利技术属性】
技术研发人员:小瀬村透,齐藤雅基,山下宽,
申请(专利权)人:日产自动车株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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