用于通过壳体（１）的壳体孔而密封引入转轴（２）的密封装置，所述密封装置包括具有面向通常处于较高压力下的区域的密封唇的至少一个唇式密封件（３、８、１４、１５）。为了充分延伸应用具有唇式密封件的密封装置的区域，并通过这样做而使用所述密封装置以达到其更经济、在压力峰值下更耐用、更容易安装以及更容易维护的优点，另外在较高压力和压力波动下也实现上述优点，在面向具有较高压力的区域的侧（５）上的唇式密封件（３、８、１４、１５）处于比出现在所述壳体（１）内部的最高压力更大的恒定压力下，且将节流溢流的间隙（７、１０）设置在此区域和所述壳体内部之间。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于通过壳体中的钻孔而密封引入转轴的密封装置， 所述密封装置包括具有密封唇的至少一个唇式密封件，所述密封唇面 向通常处于较髙压力下的区域，以及壳体，该壳体具有壳体孔以用于 密封引入转轴并具有用于面向所述壳体孔的轴线的密封装置的至少一 个底座，优选为至少一个唇式密封件。
技术介绍
唇式密封件被用于很多应用中，其中，转轴在密封装置中进入壳体或离开壳体，例如用于EP335368A1公开的船舶发动机中的螺旋桨传 动轴上。这里，根据EP1055849A2的密封圈中，所述密封唇面向通常 处于低压的区域。在后种情况下，进行测量以在所述密封唇的两侧保 持相同压力，然而，不能将此压力保持为恒定水平。例如，可从 DE4039666A1获知完全没有处于压力下的唇式密封件。也可将非常简单和廉价的、用于密封轴的唇式密封件用于造纸业 中的小精炼机中，然而，这里所述的密封唇通常面向处于较高压力下 的区域，以防止介质从所述精炼机溢出。在这些用于制造纸浆的工艺 中切碎木片的装置中，存在更大和更小的压力波动。然而，由于唇式 密封件对压力中的高波动很敏感并且很容易开始泄漏，因此只能在低 压或低压力波动下使用唇式密封件。至于精炼机，内外压力之间的比 率大约在1.2到1.5-1。但是，在DE102005019654A1中描述了另一应用，该应用需要至 少两个串联安装的唇式密封件。这里，将加压装置压入唇式密封件之 间的空间中，但是不能找到怎样维持此压力或此压力有多恒定的指示;也因为本
的情况是完全集中在密封问题上，从而导致了唇式 密封件上的污染。另一方面，最接近所述壳体内部的唇式密封件只是 使用大量的加压装置进行冲洗的附加测量装置，所述加压装置以小节 流流入所述壳体内部，从而将来自所述唇式密封装置的所述区域的污 物除去。在具有较高压力的大精炼机中，且当出现大压力波动时通常使用 轴面密封件。轴面密封件非常昂贵，同时也由于硬-硬组合而易碎并在 较高压力力峰值下会破裂，这就意味着工厂必须立即停产。将要提及 的另一密封方法是熟知已久的密封箱。密封箱的缺点就是它们总是有 些泄漏，并难以调节以在密封和泄漏之间折衷，而且对需要润滑和冷 却所述密封件的所述轴的转动也没有太大的阻力。
技术实现思路
因此本专利技术的目的在于充分延伸具有唇式密封件的密封装置的应 用区域，并通过这样做而使用所述密封装置以实现其更经济、在压力 峰值下更耐用、更容易安装以及更容易维护的优点，另外在较高压力 和压力波动下也实现上述优点。为实现任务，在开始所描述的根据本专利技术的所述密封装置的特征 在于，在面向具有较高压力的区域的侧的唇式密封件处于比在所述壳 体中出现的最大压力更大的恒定压力下，以及对溢流节流的间隙设置 在此区域和所述壳体内部之间。由此，通过所述密封装置在任何情况 下保持恒定压差，从而导致泄漏的压力波动不会影响所述唇式密封件， 从而保持了密封性。根据本专利技术的有利实施例，能够串联设置至少两个唇式密封件。 在面向通常处于较高压力下的所述区域的所述侧的每个唇式密封件承 受不会超过能够预置的最大值的恒定压力。其中，在最里面的唇式密 封件上的所述最大值大于出现在所述壳体内部的最高压力，且在每个唇式密封件处的所述最大压力的压差不超过能够预置的值。因此，在 所述装置中的每个唇式密封件处始终存在恒定压差。其中，不会由于 级联设置而超过每个唇式密封件的最大压力。唇式密封件能够抵抗高 达大约2巴的恒定压差，从而也能够通过包括串联的多级而密封超过2巴的压差。由此，能够密封具有非常大的直径(大约2m)并具有高速 (大约1500 r.p.m)的轴，在轴和密封件之间具有大约15m/s到25m/s的相对速度。为了能容易并安全地将压力施加到所述唇式密封件或每个唇式密 封件，所述唇式密封件或每个唇式密封件被优选地安装在面向在所述 壳体孔内部的转轴的槽型凹口中并在每种情况下在一个或多个唇式密 封件的面向通常处于较高压力下的区域的侧具有至少一个能被连接至 压力源的通道。通过介质的压控供给，不用任何移动部件就能够容易 地实现所述唇式密封件的恒定加压，从而具有最佳功能可靠性，所述 介质优选为在所述工艺中使用的至少一种介质。然后，由于在所述唇 式密封件和具有较高压力的所述区域之间的狭窄通道，而分别产生压 力积聚和在那里出现压力下降。附加优点是此实施例的冲洗效应，由 于所引入的介质冲回可能已经进入轴和壳体之间的间隙的任何微粒， 从而保护所述密封装置、所述轴和所述壳体以耐磨。还能够通过独立于所述密封装置的安装区域的具体设置的介质供 给来积聚压力。例如，如果密封箱或轴面密封件由根据本专利技术的装置 替代，则根据本专利技术的另一有利实施例，也可将节流圈设置在所述壳 体孔内部的凹口内。至少最接近于通常处于较高压力下的所述区域的 唇式密封件在面向通常处于较高压力下的所述区域的所述侧。因此， 在此状态下，在所述节流圈提供已节流的溢流介质，该已节流的溢流 介质来自所述唇式密封件和具有较高压力的所述区域之间的区域，且 从而提供压力积聚和所述唇式密封件的加压。可独立于所述唇式密封 件设计节流圈。所述节流圈可以非常软，且其材料能适应内腔中的化 学条件。根据第一实施例，此设计的特征在于，能够连接至所述压力源的 至少一个通道引导到该节流圈和所述唇式密封件之间的区域。根据本专利技术的另一实施例，所述节流圈能够设置有至少一个优选 为径向的孔，且通过所述节流圈中的此至少一个径向孔将能被连接至 所述压力源的所述通道连接至节流圈和唇式密封件之间的区域。根据本专利技术的另一实施例，如果在远离通常处于较高压力下的区 域而定位的两个唇式密封件之间通道从中间腔引导到外部，则通过该 通道将从通常处于较高压力下的区域溢出的介质排出，也能够以顺序 方式将溢出的任何介质或工艺流体排出。这样的设计有利的是，如果用于排出溢出介质的所述通道设置有 用于此介质的传感器装置或连接至一传感器装置，则这样的设计还能 检査和监控所述密封装置的密封性。为了执行开始所拟定的任务，根据本专利技术，所述壳体必须具有至 少一个能连接至压力源的通道并且引导到与通常处于较高压力下的区 域更接近的所述或每个底座的区域。由此，为了通过所述装置保证最 佳恒定密封性，可在调节为恒定值的压力下将所述唇式密封件插入之 前装入用于对此密封装置加压的介质。然而，如果用于排出从通常处于较高压力下的区域溢出的介质的 另一通道开始于远离通常处于较高压力下的区域而定位的所述底座的 一部分，则可安全地引导穿过所述唇式密封件溢出的任何介质或工艺 流体的排出。有利的是，将用于此介质的传感器装置设置在用于介质溢出的排 出的所述另一通道中。所示的实施例更详细地描述本专利技术。 附图说明图1示出了具有单唇式密封件的密封装置的剖面图。 图2是根据本专利技术的具有两个唇式密封件和一个节流圈的密封装 置的剖面图。以及图3示出了根据本专利技术的具有四个串联设置的唇式密封件的另一实施例的剖面图。 具体实施例方式图1示出了具有根据本专利技术的密封装置的壳体1的剖面图，该密封装置旨在通过壳体1中的开口密封引入转轴2。在所示的非常简单的 实例中，所述密封装置包括具有面向通常处于较高压力下的区域的密 封唇3a的单唇式密封件3。唇式密封件3安置在壳体1中的所述开口的突起l本文档来自技高网...
【技术保护点】
通过壳体（１）中的钻孔而密封引入转轴（２）的密封装置，根据预期的目的，所述密封装置包括具有密封唇的至少一个唇式密封件（３、８、１４、１５），所述密封唇面向在操作期间处于较高压力下的区域，其特征在于，在面向具有较高压力的所述区域的侧（５）的唇式密封件（３、８、１４、１５）处于恒定压力下，该恒定压力大于出现在壳体（１）内部的最高压力，并且其特征在于，对溢流节流的间隙（７、１０）设置在此区域和所述壳体内部之间。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：托马斯巴希霍弗纳，斯特凡霍纳，
申请(专利权)人：安德里特斯公开股份有限公司，
类型：发明
国别省市：AT[奥地利]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。