一种高性能等离子割嘴制造技术

技术编号:22425803 阅读:31 留言:0更新日期:2019-10-30 04:03
本实用新型专利技术涉及一种高性能等离子割嘴,包括割嘴本体,所述割嘴本体为中空结构,所述割嘴本体的中空结构从气流进口到出口依次设置有平滑过渡的第一圆锥面、圆筒面、圆弧面、第二圆锥面、一级压缩等离子孔和二级压缩等离子孔。本实用新型专利技术的一种高性能等离子割嘴,在电流较低时也能形成强大的等离子弧柱,也能切割较厚的金属,不仅节能,而且切割速度快;割嘴本体内部的气体流态更好,气流更顺畅,避免割嘴内部形成湍流,割嘴本体的内部散热状况更好,割嘴本体和割嘴外表面的散热状况更好,割嘴本体不容易损坏,割嘴本体的使用寿命更长。

【技术实现步骤摘要】
一种高性能等离子割嘴
本技术涉及等离子切割
,特别是涉及一种高性能等离子割嘴。
技术介绍
等离子切割是一种新型的材料切割工艺方法,它以高温高速的等离子弧为热源来加热和熔化被切割材料,当电弧的弧柱和高速气流通过割炬喷嘴小孔时,使电弧受到压缩,热能集中程度提高,将被切割材料局部熔化,并同时用高速气流将熔化的材料吹走,而形成狭窄切口,从而完成切割作业。当电流较低时,由于不能生成强大的等离子弧柱,不仅切割速度慢,而且不能切割较厚的金属。常见的割嘴本体,内部气流不均匀、流动不顺畅,容易产生湍流现象,割嘴本体的散热效果不好,导致割嘴容易损坏,使用寿命短。
技术实现思路
针对现有技术的不足,本技术提供一种高性能等离子割嘴。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:所述高性能等离子割嘴,包括割嘴本体,其特征在于:所述割嘴本体为中空结构,所述割嘴本体的中空结构从气流进口到出口依次为平滑过渡的第一圆锥面、圆筒面、圆弧面、第二圆锥面、一级压缩等离子孔和二级压缩等离子孔。在本技术提供的高性能等离子割嘴的一种较佳实施例中,所述割嘴本体采用碲铜或铬锆铜制成。在本技术提供的高性能等离子割嘴的一种较佳实施例中,所述割嘴本体的气流出口端外表面设为锥形,气流进口端设为圆柱形。在本技术提供的高性能等离子割嘴的一种较佳实施例中,所述割嘴本体的气流进口端外表面还设有用于定位安装的环形止挡凸起。在本技术提供的高性能等离子割嘴的一种较佳实施例中,所述一级压缩等离子孔和二级压缩等离子孔的直径比为1:1~1:1.5,且所述一级压缩等离子孔和二级压缩等离子孔之间设置有过渡锥面。与现有技术相比,本技术提供的高性能等离子割嘴的有益效果是:一、本技术采用特殊直径比的一级压缩等离子孔和二级压缩等离子孔,使等离子电弧受到两次压缩,在同样引弧电压、电流的条件下,电离密度更高,压缩比例更大,使等离子弧柱更长,提高了切割金属的厚度;二、通过在割嘴本体内壁设置第一圆锥面,圆弧面、第二圆锥面,过渡锥面组成的平滑流道,使割嘴内部的气流顺畅,避免形成湍流,改善了割嘴本体内部的散热状况;三、所述割嘴本体的材料采用导热性能好的碲铜,将割嘴本体的外表面设置成圆柱面和圆锥面,使其表面积最大化,改善了割嘴本体和割嘴外表面的散热状况,使割嘴本体不容易损坏,提高了割嘴本体的使用寿命。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图,其中:图1是本技术提供的高性能等离子割嘴的割嘴本体的主视图。图2是本技术提供的高性能等离子割嘴的割嘴本体的A-A视图。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本技术的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本技术保护的范围。请一并参阅图1和图2,所述高性能等离子割嘴,包括割嘴本体1,其特征在于:所述割嘴本体1为中空结构,所述割嘴本体1的中空结构从气流进口到出口依次为平滑过渡的第一圆锥面2、圆筒面3、圆弧面4、第二圆锥面5、一级压缩等离子孔6和二级压缩等离子孔7。所述割嘴本体1采用碲铜或铬锆铜制成,该类材料不仅耐高温,而且导热性好,能起到很好的散热作用。所述割嘴本体1的气流出口端外表面设为锥形,气流进口端设为圆柱形。所述割嘴本体1的气流进口端外表面还设有用于定位安装的环形止挡凸起。所述一级压缩等离子孔6和二级压缩等离子孔7的直径比为1:1~1:1.5,且所述一级压缩等离子孔6和二级压缩等离子孔7之间设置有过渡锥面。该两级压缩等离子孔可使等离子电弧受到两次压缩,在同样引弧电压、电流的条件下,电离密度更高,压缩比例更大,使等离子弧柱更长,提高了切割金属的厚度。以上所述仅为本技术的实施例,并非因此限制本技术的专利范围,凡是利用本技术说明书内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的
,均同理包括在本技术的专利保护范围之内。本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种高性能等离子割嘴,包括割嘴本体,其特征在于:所述割嘴本体为中空结构,所述割嘴本体的中空结构从气流进口到出口依次为平滑过渡的第一圆锥面、圆筒面、圆弧面、第二圆锥面、一级压缩等离子孔和二级压缩等离子孔。

【技术特征摘要】
1.一种高性能等离子割嘴,包括割嘴本体,其特征在于:所述割嘴本体为中空结构,所述割嘴本体的中空结构从气流进口到出口依次为平滑过渡的第一圆锥面、圆筒面、圆弧面、第二圆锥面、一级压缩等离子孔和二级压缩等离子孔。2.根据权利要求1所述的高性能等离子割嘴,其特征在于:所述割嘴本体采用碲铜或铬锆铜制成。3.根据权利要求1所述的高性能等离子割嘴,其特征在于:所述割...

【专利技术属性】
技术研发人员:何刚毛瑞于海峰
申请(专利权)人:济南创菲美焊割辅具有限公司
类型:新型
国别省市:山东,37

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