一种材料表面处理设备制造技术

本实用新型专利技术公开一种材料表面处理设备，包括依次设置的进料装置、超声波清洗装置、真空干燥装置、真空等离子清洗装置、出料装置；所述超声波清洗装置包括用于容置碳氢清洗剂的超声波清洗槽，并设置有第一出口和进口，且所述第一出口和进口连接第一分离循环系统，所述第一分离循环系统用于对所述碳氢清洗剂进行蒸馏再生；所述第一分离循环系统包括依次连接的第一分离槽、碳氢清洗剂蒸发装置、碳氢清洗剂冷凝装置。利用超声波碳氢洗替代超声波水洗，对碳氢清洗剂进行循环利用，并将碳氢清洗、真空干燥以及真空等离子清洗这三个步骤按顺序结合在一起，实现了废气废水的零排放，绿色环保。

【技术实现步骤摘要】
一种材料表面处理设备
本技术涉及机械工程表面处理领域，尤其涉及一种材料表面处理设备。
技术介绍
材料表面工程是对材料表面进行处理，比如洗涤、涂覆、表面改性等，改变固态金属表面或非金属表面的化学成分、组织结构和应力状态等，以获得所需的表面特性的系统工程。对于芯片、铝合金制品、电镀制品等各领域，材料进行焊接、镀覆、喷涂前都需要进行清洗，比如对材料表面进行镀覆(有涂装、电镀，化学镀，电泳等)，现有技术中工艺通常如下：进料→除油→多次超声波水洗→多次干燥→镀覆→多次水洗→干燥→出料，在镀覆前、中、后的过程处理中都需要用到水，进而产生废水，这些废水对外排放会产生极大的污染，不能达到国家所要求的环境/环保标准。影响环境的主要因素是废水和废气的排放，为了达到国家排放达标准，很多企业都最后额外使用废水和废气处理设备来进行处理，从而增加成本。
技术实现思路
为解决上述问题，本技术提出一种材料表面处理设备，其能够在进行材料表面处理的过程中，实现废水废气的零排放。本技术公开一种材料表面处理设备，包括依次设置的进料装置、超声波清洗装置、真空干燥装置、真空等离子清洗装置、出料装置，以及用于密封各装置的密封门和密封整体处理设备的外封门；所述超声波清洗装置包括用于容置碳氢清洗剂的超声波清洗槽，并设置有第一出口和进口，且所述第一出口和进口连接第一分离循环系统，所述第一分离循环系统用于对所述碳氢清洗剂进行循环再生；所述第一分离循环系统包括依次连接的第一分离槽、碳氢清洗剂蒸发装置、碳氢清洗剂冷凝装置；所述第一分离槽与所述第一出口连接，用于接收超声波清洗装置中的待再生碳氢清洗剂，所述碳氢清洗剂冷凝装置与所述进口连接，用于将再生的碳氢清洗剂循环至超声波清洗装置中；所述碳氢清洗剂在封闭系统中进行循环再生，防止泄漏。优选地，所述超声波清洗槽包括按碳氢清洗剂流动方向逆流依次设置的粗洗槽、精洗槽、漂洗槽；所述粗洗槽与所述精洗槽之间设置第一溢流口，所述精洗槽与所述漂洗槽之间设置第二溢流口；所述第一出口设置在所述粗洗槽上，所述进口设置在所述漂洗槽上。进一步优选，所述超声波清洗槽与所述第一分离槽以及所述碳氢清洗剂冷凝装置形成高度差；在对材料表面进行处理时，所述高度差形成所述第一分离循环系统的动力源，使粗洗槽中的待再生碳氢清洗剂在重力作用下流入到第一分离槽中，并使碳氢清洗剂冷凝装置中再生的碳氢清洗剂在重力作用下流入到漂洗槽中；所述第一溢流口的高度低于所述第二溢流口的高度，使碳氢清洗剂从漂洗槽流入精洗槽后再流入粗洗槽。进一步优选，所述各清洗槽的底部还设置有排放口，所述排放口与第三分离槽连接，所述第三分离槽再与所述碳氢清洗剂蒸发装置连接形成第二分离循环系统；在需要对各清洗槽内的污物进行处理时，可打开所述排放口，使待再生碳氢清洗剂连同所述污物通过排放口依次经过第三分离槽的分离、碳氢清洗剂蒸发装置的蒸发以及碳氢清洗剂冷凝装置的冷凝进行再生后循环至超声波清洗槽内。更进一步优选，所述第一分离槽或所述第三分离槽中设置有过滤网和排渣口，所述过滤网用于将不溶于碳氢清洗剂的污物进行过滤分离并从排渣口排出。优选地，还包括制冷循环系统，所述制冷循环系统包括压缩机及与压缩机连接的冷媒冷凝器和冷媒蒸发器；所述碳氢清洗剂冷凝装置与制冷循环系统冷媒蒸发器连接，以将制冷循环系统冷媒蒸发器蒸发时所形成的冷气送入碳氢清洗剂冷凝装置协助碳氢清洗剂的冷凝；所述碳氢清洗剂蒸发装置与制冷循环系统冷媒冷凝器连接，以将制冷循环系统冷媒冷凝器冷凝时所排出的热气送入碳氢清洗剂蒸发装置协助碳氢清洗剂的蒸发；从而所述压缩机产生的热量被所述碳氢清洗剂蒸发装置回收利用。进一步优选，所述超声波清洗槽的槽体采用夹套方式，所述夹套内放置水，且利用所述压缩机产生的热量来为夹套进行加热。优选地，所述超声波清洗装置和所述真空干燥装置与所述碳氢清洗剂冷凝装置连通，所述超声波清洗槽中蒸发的碳氢清洗剂以及真空干燥装置中排出的碳氢清洗剂通过所述碳氢清洗剂冷凝装置进行冷凝回收。进一步优选，所述进口与所述碳氢清洗剂冷凝装置之间还设置有第二分离槽，用于分离冷凝的水和碳氢清洗剂。优选地，所述碳氢清洗剂的闪点在200℃以上、沸点在65-80℃之间、粘度在1000mPa·s以下。优选地，所述真空等离子清洗装置包括：密封等离子腔体、分布于密封等离子腔体内的等离子体极板；等离子清洗时，密封等离子腔体内的真空度为30Pa以下。进一步优选，等离子清洗时，向密封等离子腔体内通入气体以持续产生等离子，所述气体的流量为200-400ml/100L·min，所述气体包括氩气、氧气、氮气、氢气、四氟化碳中的至少一种。优选地，所述进料装置和出料装置为船闸式进料装置和船闸式出料装置，确保进料和出料时整个设备为一个封闭系统，系统内挥发的碳氢清洗剂不泄漏。本技术的有益效果：本技术将碳氢清洗、真空干燥以及真空等离子清洗这三个步骤按顺序结合在一起对材料表面进行处理，可以最大程度地降低成本，同时，将碳氢清洗剂在封闭系统中进行循环利用，真正地从工艺本身的源头上解决废水以及废气的零排放问题，整个工艺绿色环保。附图说明图1为本技术实施例中材料表面处理设备的立体示意图。图2为本技术实施例中材料表面处理设备的正面示意图。图3为本技术实施例中材料表面处理设备的俯视示意图。图4为本技术实施例中碳氢清洗剂的循环示意图。图5为本技术实施例中热量循环示意图。具体实施方式下面结合具体实施方式并对照附图对本技术作进一步详细说明，应该强调的是，下述说明仅仅是示例性的，而不是为了限制本技术的范围及其应用。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。如图1-3所示，本实施例提供一种材料表面处理设备10，包括一条流水线上依次设置的进料装置100、超声波清洗装置200、真空干燥装置300、真空等离子清洗装置400和出料装置500。整个处理设备的外围被外封门封闭，各个装置本身也进行了独立的密封(图中未示出)；以保证设备的运行安全、保温效果以及防止溶剂的挥发等。在进料装置100、超声波清洗装置200、真空干燥装置300、真空等离子清洗装置400和出料装置500的上方，安装有栏杆1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种材料表面处理设备，其特征在于，包括依次设置的进料装置、超声波清洗装置、真空干燥装置、真空等离子清洗装置、出料装置，以及用于密封各装置的密封门和密封整体处理设备的外封门；所述超声波清洗装置包括用于容置碳氢清洗剂的超声波清洗槽，并设置有第一出口和进口，且所述第一出口和进口连接第一分离循环系统，所述第一分离循环系统用于对所述碳氢清洗剂进行循环再生；所述第一分离循环系统包括依次连接的第一分离槽、碳氢清洗剂蒸发装置、碳氢清洗剂冷凝装置；所述第一分离槽与所述第一出口连接，用于接收超声波清洗装置中待再生碳氢清洗剂，所述碳氢清洗剂冷凝装置与所述进口连接，用于将再生的碳氢清洗剂循环至超声波清洗装置中，所述碳氢清洗剂在封闭系统中进行循环再生，防止泄漏。

【技术特征摘要】
1.一种材料表面处理设备，其特征在于，包括依次设置的进料装置、超声波清洗装置、真空干燥装置、真空等离子清洗装置、出料装置，以及用于密封各装置的密封门和密封整体处理设备的外封门；所述超声波清洗装置包括用于容置碳氢清洗剂的超声波清洗槽，并设置有第一出口和进口，且所述第一出口和进口连接第一分离循环系统，所述第一分离循环系统用于对所述碳氢清洗剂进行循环再生；所述第一分离循环系统包括依次连接的第一分离槽、碳氢清洗剂蒸发装置、碳氢清洗剂冷凝装置；所述第一分离槽与所述第一出口连接，用于接收超声波清洗装置中待再生碳氢清洗剂，所述碳氢清洗剂冷凝装置与所述进口连接，用于将再生的碳氢清洗剂循环至超声波清洗装置中，所述碳氢清洗剂在封闭系统中进行循环再生，防止泄漏。2.如权利要求1所述的材料表面处理设备，其特征在于，所述超声波清洗槽包括按碳氢清洗剂流动方向逆流依次设置的粗洗槽、精洗槽、漂洗槽；所述粗洗槽与所述精洗槽之间设置第一溢流口，所述精洗槽与所述漂洗槽之间设置第二溢流口；所述第一出口设置在所述粗洗槽上，所述进口设置在所述漂洗槽上。3.如权利要求2所述的材料表面处理设备，其特征在于，所述超声波清洗槽与所述第一分离槽以及所述碳氢清洗剂冷凝装置形成高度差；在对材料表面进行处理时，所述高度差形成所述第一分离循环系统的动力源，使粗洗槽中的待再生碳氢清洗剂在重力作用下流入到第一分离槽中，并使碳氢清洗剂冷凝装置中再生的碳氢清洗剂在重力作用下流入到漂洗槽中；所述第一溢流口的高度低于所述第二溢流口的高度，使碳氢清洗剂从漂洗槽流入精洗槽后再流入粗洗槽。4.如权利要求2所述的材料表面处理设备，其特征在于，所述各清洗槽的底部还设置有排放口，所述排放口与第三分离槽连接，所述第三分离槽再与所述碳氢清洗剂蒸发装置连接形成第二分离循环系统；在需要对各清洗槽内的污物进行处理时，可打开所述排放口，使待再生碳氢清洗剂连同所述污物通过排放口依次经过第三分离槽的分离、碳氢清洗剂蒸发装置的蒸发以及碳氢清洗剂冷凝装置的冷凝进行再生后循环至超声波清洗槽内。5.如权利要求4所述的材料表面处理设备，其特征在于，所述第一分离槽或所述第三分离槽中设置有过...

【专利技术属性】
技术研发人员：李香菊，
申请(专利权)人：李香菊，
类型：新型
国别省市：广东,44