一种灰尘检测清洁装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种灰尘检测清洁装置，该装置设有机台，所述机台上并列设有检测装置和清洁装置，所述检测装置和清洁装置之间设有组件传送装置；所述检测装置包括组件中转机构、组件移动机构、位置检测模块、灰尘检测机构和组件承载机构，所述组件中转机构和组件承载机构平行设置，所述灰尘检测机构设置在组件承载机构的一侧，所述组件移动机构垂直设置在组件中转机构和组件承载机构的上方，所述位置检测模块安装在组件移动机构上；所述清洁装置包括除尘装置，所述除尘装置与组件移动机构平行设置；所述检测装置、清洁装置和组件传送装置均通过中控装置控制。本实用新型专利技术具有全自动在线干法清洗，靶向定点清洁，低水耗，低污染，低生产成本等优点。

【技术实现步骤摘要】
一种灰尘检测清洁装置
本技术涉及清洁装置，具体为一种灰尘检测清洁装置。
技术介绍
随着高科技产品技术发展，高精度产品生产过程中对部件的清洁度要求越来越高，如相机摄像头模组的滤光片和感光芯片的装配、半导体产品制备等，常规生产过程中并没有对相关部件进行清洁检测和清洁，直接使用制备导致部件表面粘附的细微颗粒和灰尘直接影响产品的质量和使用效果。但随着技术的发展，对工艺技术要求越来越高，例如对半导体芯片及光学部件表面质量要求越来越严格，主要是其表面的粉尘颗粒与杂质污染会严重影响产品的质量和成品率，目前的集成电路生产中，由于产品表面污染的问题导致约50%以上的材料损失，因此促进人们对硅片清洗工艺的研究。目前已有的应用于半导体生产的清洗工艺有湿法化学清洗、超声清洗等。其中，湿法化学清洗技术在硅片表面清洗中仍处于主导地位。然而据测算，目前某些半导体工厂用于超纯水的费用将接近30亿美元，且由于化学试剂的存放以及环境污染问题，湿法化学清洗技术将会逐渐减少使用。而目前国际上硅片的清洗标准是开盒即用，即经清洗封装后的硅片，从片盒里取出后即可以投入器件工艺中直接使用而无需额外的清洗步骤。国内硅片清洗多采用以湿法化学清洗为主的清洗工艺，由于设备、工艺方法等方面还比较落后，特别是超净环境往往达不到相应的级别，所以达不到开盒即用的标准。虽然目前非在线式硅片清洗技术已有了很大的发展，但是清洗设备本身所产生的污染问题却一直没能彻底解决，从而成为影响成品率的一种重要因素。因此研发一种采用全自动在线干法清洗技术，低水耗，低污染，低生产成本的检测清洁装置，为目前迫切需要解决的技术问题。
技术实现思路
本技术提供了一种实现全自动在线干法清洗，靶向定点清洁，低水耗，低污染，低生产成本的灰尘检测清洁装置。本技术可以通过以下技术方案来实现：一种灰尘检测清洁装置，该装置设有机台，所述机台上并列设有检测装置和清洁装置，所述检测装置和清洁装置之间设有组件传送装置；所述检测装置包括组件中转机构、组件移动机构、位置检测模块、灰尘检测机构和组件承载机构，所述组件中转机构和组件承载机构平行设置，所述灰尘检测机构设置在组件承载机构的一侧，所述组件移动机构垂直设置在组件中转机构和组件承载机构的上方，所述位置检测模块安装在组件移动机构上；所述清洁装置包括除尘装置，所述除尘装置与组件移动机构平行设置；所述检测装置、清洁装置和组件传送装置均通过中控装置控制。本技术灰尘检测清洁装置通过中控装置控制组件传送装置将待清洁部件传送至特定位置，通过组件移动机构将待清洁部件转移至组件中转机构上，通过位置检测模块检测部件的厚度及表面平整度后，将相关组件参数通过中控装置传输至灰尘检测机构，所述灰尘检测机构根据组件参数自动调整检测参数条件，同时组件移动机构将待清洁部件移至组件承载机构上，并且通过组件承载机构调整待清洁部件与灰尘检测机构之间的位置，从而保证待清洁部件各个位置均被检测，实现定点检测，灰尘检测机构将检测到的灰尘位置数据传输至中控装置，由中控装置将分析处理后的灰尘位置数据形成工作指令传输至清洁装置，从而驱动除尘装置移动靶向定点将待清洁部件表面的灰尘除去。本技术通过精准定位灰尘位置，靶向除尘，实现全自动在线干法清洗，改变传统湿法化学清洗技术带来的水资源浪费和环境污染，全自动化清洁，减少人力投入，降低生产成本。进一步地，所述灰尘检测机构包括固定架、异物检查相机和驱动异物检查相机上下移动的升降驱动装置，所述升降驱动装置固定在固定架上，所述升降驱动装置的一侧设有驱动连接板，所述驱动连接板上垂直设置相机安装平台，所述异物检查相机安装在相机安装平台上，所述安装平台下方设有与异物检查相机相适配的异物检查镜头，所述驱动连接板下端设有照明灯固定平台，所述照明灯固定平台下方设有照明灯。通过升降驱动装置使异物检查相机可根据待清洁部件的厚度及形状调整其与待清洁部件之间的距离，保证异物检查的准确度，同时可根据产品的灰尘粒径控制级别要求，更换不同焦距的异物检查镜头，使本技术适用性更强，在驱动连接板下端设有照明用的照明灯，为异物检查提供充足的光源，保证异物检查的准确度和清晰度。进一步地，所述组件承载机构设有X轴移动机构、Y轴移动机构和样品承载座，所述X轴移动机构移动设置在Y轴移动机构上，所述样品承载座移动设置在X轴移动机构上，所述Y轴移动机构设有Y移动轴，所述Y移动轴上设有Y轴移动载板，所述Y轴移动载板通过Y轴驱动装置驱动沿Y移动轴移动，所述X轴移动机构固定在Y轴移动载板上，所述X轴移动机构包括X移动轴，所述X移动轴上设有X轴移动载板，所述X轴移动载板通过X轴驱动装置驱动沿X移动轴移动，所述样品承载座安装在X轴移动载板上。设置X轴移动机构和Y轴移动机构，使样品承载座可以在平面上沿X轴方向或Y轴方向任意移动，从而保证待检测部件的每个位置均被检测无遗漏，提高检测灵活度。进一步地，所述组件移动机构包括对称设置的支撑架，所述支撑架上端设有位置平移轴，所述位置平移轴上设有沿位置平移轴移动的组件搬送模组，所述位置平移轴的一端设有位置检测模块和驱动组件搬送模组移动的平移驱动装置，所述位置检测模块的安装高度大于或等于组件中转机构的高度。组件搬送模组将组件传送装置上的待清洁部件搬送至组件中转机构，然后通过位置检测模块对待检测部件的厚度及表面平整度，从而将其相关参数反馈中控装置，由中控装置分析并传送指令至灰尘检测机构从而调整异物检查相机的位置，且由组件搬送模组将待检测部件搬送至相应检测位置，有效避免人工搬送导致待清洁部件的二次污染，位置检测模块可使用线性位移扫描感应器或其他可实现相同功能的扫描感应器。进一步地，所述组件搬送模组包括安装在位置平移轴上的平移滑块，所述平移滑块一侧设有安装固定板，所述安装固定板上设有真空气缸，所述真空气缸连接有负压吸附板，所述负压吸附板下方设有吸附孔。以平移滑块沿位置平移轴移动，从而带动安装固定板移动，移动过程更加平稳，而安装固定板下方的负压吸附板通过负压吸附作用，将样品承载座移动搬送至相应检测或清洁位置。进一步地，所述组件中转机构包括组件移动轴，所述组件移动轴上设有组件中转平台，所述组件移动轴的一端设有驱动组件中转平台沿组件移动轴移动的移动驱动装置。组件中转机构通过移动驱动装置驱动组件中转平台移动，可作为待清洁部件的中转平台和位置检测平台，保证部件清洁的连续性，提高清洁效率。进一步地，所述除尘装置包括除尘位移轴、除尘模组，所述除尘位移轴固定在机台上，所述除尘模组通过位移滑块与除尘位移轴移动连接，所述位移滑块通过位移驱动装置驱动移动，所述除尘模组包括驱动气缸，所述驱动气缸一侧安装有清洁头安装板，所述清洁头安装板下方设有旋转气缸，所述旋转气缸通过基座连接件与清洁基座连接，所述清洁基座下方通过吸取头与清洁针安装支架连接，所述清洁针安装支架下方设有清洁针头。位移驱动装置驱动位移滑块沿除尘位移轴移动，从而带动除尘模组移动，并且根据检测装置反馈的信息调整除尘模组的移动位置，而除尘模组的驱动气缸驱动清洁头安装板实现升降移动，并且通过旋转气缸带动清洁基座旋转，从而使通过吸取头与清洁基座连接的清洁针安装支架带动清洁针头旋转，从而实现清洁针头对待清洁部件的清洁。进一步地，所述清洁针头下方设本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种灰尘检测清洁装置，其特征在于：该装置设有机台，所述机台上并列设有检测装置和清洁装置，所述检测装置和清洁装置之间设有组件传送装置；所述检测装置包括组件中转机构、组件移动机构、位置检测模块、灰尘检测机构和组件承载机构，所述组件中转机构和组件承载机构平行设置，所述灰尘检测机构设置在组件承载机构的一侧，所述组件移动机构垂直设置在组件中转机构和组件承载机构的上方，所述位置检测模块安装在组件移动机构上；所述清洁装置包括除尘装置，所述除尘装置与组件移动机构平行设置；所述检测装置、清洁装置和组件传送装置均通过中控装置控制。

【技术特征摘要】
1.一种灰尘检测清洁装置，其特征在于：该装置设有机台，所述机台上并列设有检测装置和清洁装置，所述检测装置和清洁装置之间设有组件传送装置；所述检测装置包括组件中转机构、组件移动机构、位置检测模块、灰尘检测机构和组件承载机构，所述组件中转机构和组件承载机构平行设置，所述灰尘检测机构设置在组件承载机构的一侧，所述组件移动机构垂直设置在组件中转机构和组件承载机构的上方，所述位置检测模块安装在组件移动机构上；所述清洁装置包括除尘装置，所述除尘装置与组件移动机构平行设置；所述检测装置、清洁装置和组件传送装置均通过中控装置控制。2.根据权利要求1所述的灰尘检测清洁装置，其特征在于：所述灰尘检测机构包括固定架、异物检查相机和驱动异物检查相机上下移动的升降驱动装置，所述升降驱动装置固定在固定架上，所述升降驱动装置的一侧设有驱动连接板，所述驱动连接板上垂直设置相机安装平台，所述异物检查相机安装在相机安装平台上，所述安装平台下方设有与异物检查相机相适配的异物检查镜头，所述驱动连接板下端设有照明灯固定平台，所述照明灯固定平台下方设有照明灯。3.根据权利要求2所述的灰尘检测清洁装置，其特征在于：所述组件承载机构设有X轴移动机构、Y轴移动机构和样品承载座，所述X轴移动机构移动设置在Y轴移动机构上，所述样品承载座移动设置在X轴移动机构上，所述Y轴移动机构设有Y移动轴，所述Y移动轴上设有Y轴移动载板，所述Y轴移动载板通过Y轴驱动装置驱动沿Y移动轴移动，所述X轴移动机构固定在Y轴移动载板上，所述X轴移动机构包括X移动轴，所述X移动轴上设有X轴移动载板，所述X轴移动载板通过X轴驱动装置驱动沿X移动轴移动，所述样品承载座安装在X轴移动载板上。4.根据权利要求3所述的灰尘检测清洁装置，其特征在于：所述组件移动机构包括对称设置的支撑架，所述支撑架上端设有位置平移轴，所述位置平移轴上设有沿位置平移轴移动的组件搬送模组，所述位置平移轴的一端设有位置检测模块和驱动组件搬送模组移动的平移驱动装置，所述位置检测模块的安装高度大于或等于组件中转机构的高度。5.根据权利要求4所述的灰尘检测清洁装置，其特征在于：所述组件搬送模组包括安装在位置平移轴上的平移滑块，所述平移滑块一侧设有安装固定板，所述安装固定板上设有真空气缸，所述真空气缸连接有负压吸附板，所述负压吸附板下方设有吸附孔。6.根据权利要求4所述的灰尘检测清洁装置，其特征在于：所述组件中转机构包括组件移动轴，所述组件移动轴上...

【专利技术属性】
技术研发人员：周寿红，
申请(专利权)人：惠州市品川智能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44