阻气膜、阻气膜的转印方法、波长转换膜、带阻气层的相位差膜及有机EL层叠体技术

本发明专利技术提供一种薄且能够转印，并且在转印之后也具有高阻气性的阻气膜及阻气膜的转印方法，并提供使用了该阻气膜的波长转换膜、带阻气层的相位差膜及有机EL层叠体。阻气膜具有：基板；阻气层，设置于基板的一个表面，并具有一组以上的无机层和成为该无机层的形成面的有机层的组合；及剥离树脂层，设置于基板与阻气层之间，与有机层密合，并且用于与基板剥离。

Transfer method, wavelength conversion film, phase difference film with gas barrier and organic EL stack

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】阻气膜、阻气膜的转印方法、波长转换膜、带阻气层的相位差膜及有机EL层叠体
本专利技术涉及一种阻气膜及阻气膜的转印方法、以及使用了该阻气膜的波长转换膜、带阻气层的相位差膜及有机EL层叠体。
技术介绍
近年来，在有机EL器件(有机电致发光器件)、太阳能电池、量子点薄膜等器件或显示器材料、及容装会因水分或氧变质的药剂的输液袋等包装材料中要求高阻气性。因此，为了赋予必要的阻气性而对该些部件贴附阻气膜，或通过阻气膜进行密封。为了将阻气膜应用于要求高阻气性的领域，在专利文献1中，作为提高阻气性的方法记载有如下：使用无机层作为阻气层的结构；将阻气层多层化的结构；及在玻璃化转变温度Tg高的树脂薄膜中形成阻气层。具有高阻气性的阻气膜已应用于多种电子器件或功能性薄膜中，并能够对以往不易进行密封的材料进行密封。例如，在专利文献2中，作为用于LCD等的背光单元的量子点薄膜记载有利用两片阻气膜来夹持量子点层(QD荧光体材料薄膜层)，由此对量子点进行了保护的层叠型量子点薄膜。并且，专利文献3中记载有使用阻气膜密封有机EL元件的情况。如此，通过使用阻气性高的阻气膜，能够进行显示器等多种电子器件的薄型化、轻量化及柔性化。从而，若能够使阻气膜进一步薄型化，则能够进行电子器件的进一步的薄型化、轻量化等。如专利文献1等记载，此种阻气膜具有如下结构：将树脂薄膜作为基板，并在该基板上形成了阻气层。因此，在使阻气膜薄型化时可想到使基板薄型化。在此，具有高阻气性的阻气层为薄的无机层。因此，即使在微小的压曲或接触下阻气层也易破裂，若破裂则性能降低。因此，在薄型基板上层叠阻气层时，需要使输送稳定化，以能够防止基板被压曲。专利文献4中记载有如下：在基板的背面侧贴附保护材料，由此能够确保基板的自支撑性，在使用了薄的基板的情况下，也能够适当地形成阻气层而不会产生基板的压曲。若利用此种方法，则在10数μm左右的薄的基板上也能够形成阻气层。然而，若基板变得更薄，则一边输送薄的基板，一边在该基板上贴合加强用保护材料的作业本身变得困难。作为解决伴随此种阻气膜的薄型化的问题的方法，提出有仅将阻气层转印于密封对象物(被转印体)的转印方法。例如，专利文献5中记载有如下：在基板与阻气层之间形成脱模层，并使阻气层从基板剥离而转印于被转印体。以往技术文献专利文献专利文献1：美国专利5654084号公报专利文献2：日本特表2013-544018号公报专利文献3：日本特开2014-197537号公报专利文献4：日本特开2015-66812号公报专利文献5：日本特开2007-118564号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题如前述，为了实现高阻气性，有在阻气层使用无机层的结构。在此，根据本专利技术人的研究可知，如专利文献5所记载的将阻气层从基板剥离而转印于被转印体的转印方式的阻气膜中存在如下情况：在使阻气层与基板剥离时，由于对阻气层施加剪切力而因该剪切力导致无机层破裂，转印后的阻气层无法显现充分的阻气性。本专利技术的目的在于解决此种现有技术的问题点，并提供一种薄且能够转印，并且转印之后也具有高阻气性的阻气膜及阻气膜的转印方法，并而且提供一种使用了该阻气膜的波长转换膜、带阻气层的相位差膜及有机EL层叠体。用于解决技术课题的手段本专利技术人为了实现上述课题而深入研究的结果发现，通过具有基板、设置于基板的一个表面侧，并具有一组以上的无机层和成为该无机层的形成面的有机层的组合的阻气层、及设置于基板与阻气层之间，与有机层密合，并且用于剥离基板和阻气层的剥离树脂层，能够解决上述课题，并完成了本专利技术。即，本专利技术提供以下结构的阻气膜和阻气膜的制造方法、以及使用了该阻气膜的波长转换膜、带阻气层的相位差膜及有机EL层叠体。(1)一种阻气膜，具有：基板；阻气层，设置于基板的一个表面侧，具有一组以上的无机层和作为该无机层的形成面的有机层的组合；及剥离树脂层，设置于基板与阻气层之间，与有机层密合，并且用于剥离基板和阻气层。(2)如(1)所述的阻气膜，其中，剥离树脂层比有机层厚。(3)如(1)或(2)所述的阻气膜，其中，剥离树脂层的形成材料是玻璃化转变温度Tg为100℃以上的环状烯烃树脂。(4)如(3)所述的阻气膜，其中，剥离树脂层的形成材料是环烯烃共聚物。(5)如(1)至(4)中任一项所述的阻气膜，其中，剥离树脂层的厚度为0.1～25μm。(6)如(1)至(5)中任一项所述的阻气膜，其中，无机层的形成材料是氮化硅、氧化硅、或它们的混合物。(7)如(1)至(6)中任一项所述的阻气膜，其中，有机层的形成材料是紫外线固化树脂或电子束固化树脂，固化后的玻璃化转变温度Tg为200℃以上。(8)如(7)所述的阻气膜，其中，有机层的形成材料包含5％以上且小于50％的1官能以上的丙烯酸酯，该1官能以上的丙烯酸酯具有金刚烷骨架。(9)如(7)所述的阻气膜，其中，有机层的形成材料包含5％以上且小于50％的2官能以上的丙烯酸酯，该2官能以上的丙烯酸酯具有芴骨架。(10)如(1)至(9)中任一项所述的阻气膜，其中，有机层的厚度为0.1～5μm。(11)如(1)至(10)中任一项所述的阻气膜，还具有设置在阻气层上的保护膜或有机保护层。(12)如(11)所述的阻气膜，其中，有机保护层为丙烯酸系粘结剂。(13)如(11)或(12)所述的阻气膜，其中，进一步具有设置在有机保护层上的保护膜。(14)如(11)至(13)中任一项所述的阻气膜，其中，有机保护层的厚度为0.1～50μm。(15)如(1)至(14)中任一项所述的阻气膜，其中，基板是赋予了脱模层的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。(16)如(1)至(15)中任一项所述的阻气膜，其中，去除基板的结构的水蒸气透过率小于0.01g/(m2·天)。(17)如(1)至(16)中任一项所述的阻气膜，其中去除基板的结构的可见光透射率为85％以上、延迟值为30nm以下。(18)一种阻气膜的转印方法，将具备阻气层及剥离树脂层的转印层转印于被转印体，其中，将(1)至(17)中任一项所述的阻气膜的与基板相反一侧的表面贴附于被转印体，并剥离基板。(19)如(18)所述的阻气膜的转印方法，其中，被转印体是波长转换材料、相位差膜、有机EL元件、及形成在有机EL元件上的钝化膜的任一个。(20)一种波长转换膜，具有：波长转换层；及转印层，层叠在波长转换层上，从(1)至(17)中任一项所述的阻气膜上去除基板后得到，且具备阻气层和剥离树脂层。(21)一种带阻气层的相位差膜，具有：相位差膜；及转印层，层叠在相位差膜上，从(1)至(17)中任一项所述的阻气膜上去除基板后得到，且具备阻气层和剥离树脂层。(22)一种有机EL层叠体，具有：有机EL元件；及转印层，层叠在有机EL元件上，从(1)至(17)中任一项所述的阻气膜上去除基板后得到，且具备阻气层和剥离树脂层。(23)如(22)所述的有机EL层叠体，其中，在有机EL元件与转印层之间具有钝化膜。(24)如(22)或(23)所述的有机EL层叠体，还具有支撑有机EL元件的元件基板，该元件基板包括从(1)至(17)中任一项所述的阻气膜去除基板后得到并具备阻气层和剥离树脂层的转印层。专利技术效果根据本专利技术，能够提供一种薄且能够转印，并且在转印之后也具有高阻气性的阻气膜及阻气膜的转印方法，并提供使用了本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阻气膜，其特征在于，具有：基板；阻气层，该阻气层设置于所述基板的一个表面侧，具有一组以上的无机层和有机层的组合，该有机层是所述无机层的形成面；及剥离树脂层，设置于所述基板与所述阻气层之间，与所述有机层密合，并且用于剥离所述基板和所述阻气层，所述有机层比所述剥离树脂层薄，所述有机层的玻璃化转变温度高于所述剥离树脂层的玻璃化转变温度，所述剥离树脂层的形成材料是环烯烃共聚物，所述有机层的形成材料是紫外线固化树脂或电子束固化树脂，固化后的玻璃化转变温度Tg为200℃以上，所述有机层的形成材料包含5％以上且小于50％的1官能以上的丙烯酸酯，所述1官能以上的丙烯酸酯具有金刚烷骨架，或者所述有机层的形成材料包含5％以上且小于50％的2官能以上的丙烯酸酯，所述2官能以上的丙烯酸酯具有芴骨架。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.08.28 JP 2015-1691841.一种阻气膜，其特征在于，具有：基板；阻气层，该阻气层设置于所述基板的一个表面侧，具有一组以上的无机层和有机层的组合，该有机层是所述无机层的形成面；及剥离树脂层，设置于所述基板与所述阻气层之间，与所述有机层密合，并且用于剥离所述基板和所述阻气层，所述有机层比所述剥离树脂层薄，所述有机层的玻璃化转变温度高于所述剥离树脂层的玻璃化转变温度，所述剥离树脂层的形成材料是环烯烃共聚物，所述有机层的形成材料是紫外线固化树脂或电子束固化树脂，固化后的玻璃化转变温度Tg为200℃以上，所述有机层的形成材料包含5％以上且小于50％的1官能以上的丙烯酸酯，所述1官能以上的丙烯酸酯具有金刚烷骨架，或者所述有机层的形成材料包含5％以上且小于50％的2官能以上的丙烯酸酯，所述2官能以上的丙烯酸酯具有芴骨架。2.根据权利要求1所述的阻气膜，其中，所述剥离树脂层的形成材料是玻璃化转变温度Tg为100℃以上的环烯烃共聚物。3.根据权利要求1所述的阻气膜，其中，所述剥离树脂层的厚度为0.1～25μm。4.根据权利要求1所述的阻气膜，其中，所述无机层的形成材料是氮化硅、氧化硅或它们的混合物。5.根据权利要求1所述的阻气膜，其中，所述有机层的厚度为0.1～5μm。6.根据权利要求1所述的阻气膜，还具有设置在所述阻气层上的保护膜或有机保护层。7.根据权利要求6所述的阻气膜，其中，所述有机保护层为丙烯酸系粘结剂。8.根据权利要求6所述的阻气膜，还具有设置在所述有机保护层上的保护膜。9.根据权利要求6项所述的阻气膜，其中，所述有机保护层的厚度为0.1～50μm。10.根据权利要求1所述的阻气膜，其中，...

【专利技术属性】
技术研发人员：岩濑英二郎，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP