显影剂容器、显影装置、处理盒、成像装置和制造方法制造方法及图纸

一种显影剂容器、显影装置、处理盒、成像装置和制造方法。该显影剂容器，包括：容纳部分，具有第一框架和第二框架，并且被配置为容纳显影剂；以及导电片。第二框架具有用于将第二框架接合到导电片的接合表面，第一框架和第二框架共用不均匀配合部分，在该不均匀配合部分中第一框架和第二框架在与接合表面相交的方向上彼此配合，不均匀配合部分具有第一框架和第二框架彼此接触的接触面，由第一框架、第二框架和导电片形成间隙，并且接触面是面向间隙并设置在沿着接合表面的方向上的面。

Developer container, developing device, processing box, imaging device and manufacturing method

【技术实现步骤摘要】
显影剂容器、显影装置、处理盒、成像装置和制造方法
本专利技术涉及：一种显影剂容器，其容纳显影剂以在记录介质上形成图像；以及一种显影装置，其对在感光鼓上形成的静电潜像进行显影。本专利技术还涉及：一种处理盒，其在感光鼓上形成显影剂图像，并且可从图像形成装置的主体拆卸；以及一种图像形成装置，其使用显影剂在记录介质上形成图像。
技术介绍
在使用电子照相技术的图像形成装置中，当在记录材料上形成图像时，通过充电辊对感光鼓进行均匀充电。然后通过曝光装置选择性地曝光带电的感光鼓，从而在感光鼓上形成静电潜像。通过显影装置使用调色剂对形成在感光鼓上的静电潜像进行显影，由此形成调色剂图像。将形成在感光鼓上的调色剂图像转印到诸如记录纸和塑料片材之类的记录材料上，并且转印到记录材料上的调色剂图像被定影装置加热和加压，以便定影到记录材料上。因此，在记录材料上形成图像。在将调色剂图像转印到记录材料上之后，通过清洁刮板去除残留在感光鼓上的调色剂。传统上，已知一种将一对电极设置在显影剂容器内部的技术，以便测量容纳在显影装置的显影剂容器中的调色剂的剩余量。根据该技术，通过测量设置在显影剂容器内部的电极之间的静电电容来测量显影剂容器中的调色剂的剩余量。根据日本专利申请公开第2016-142790号中公开的技术，用于测量显影剂容器中的调色剂的剩余量的电极与构成显影装置的显影剂容器的框架集成在一起。具体而言，根据日本专利申请公开第2016-142790号中公开的技术，用于测量调色剂的剩余量的电极是片型电极，并且片型电极的一部分嵌入在框架的壁表面中，使得电极分别部分地暴露于框架的内部和外部。由此，简化了用于电连接电极以测量显影剂容器中的调色剂剩余量的导电路径，以及测量调色剂的剩余量的装置的构造。根据日本专利申请公开第2015-087747号中公开的技术，用于测量显影剂容器中的调色剂的剩余量的电极与构成显影装置的显影剂容器的框架集成在一起。在日本专利申请公开第2015-087747号中公开的技术的情况下，用于测量调色剂的剩余量的电极由导电树脂制成。此外，正如日本专利申请公开第2016-142790号中公开的技术，电极的一部分嵌入框架的壁表面中，使得电极分别部分地暴露于框架的内部和外部。具体而言，通过将导电树脂注入到框架内形成的空间中，电极与框架集成在一起。这里将考虑组合日本专利申请公开第2016-142790号中公开的技术和日本专利申请公开第2015-087747号中公开的技术的技术。具体而言，根据该组合技术，通过将导电片粘附到由树脂制成的框架上来集成导电片和框架，并且将导电树脂注入到与导电片集成的框架和模具之间的空间中。假设导电片和导电树脂电连接。用于测量调色剂的剩余量的电极是导电片和导电树脂。这可以简化用于电连接电极以测量显影剂容器中的调色剂剩余量的导电路径，以及测量调色剂的剩余量的装置的构造。另外，电极和导电路径的设计变得更加灵活。具体地，在该组合技术中，构成显影剂容器的框架包括由第一树脂制成的第一树脂部分和由具有导电性的第二树脂制成的第二树脂部分。框架中的容纳显影剂的容纳部分的内壁面由第一树脂部分和第二树脂部分构成，并且导电片的一个表面沿着容纳部分的内壁表面接触第一树脂部分和第二树脂部分。此外，第一树脂部分中粘附有导电片的区域和粘附有导电片构件的第二树脂部分彼此相邻。此外，设置用于测量(显影剂容器内部)调色剂的剩余量的电极和测量(显影剂容器外部)调色剂的剩余量的装置，使得电连接更容易。因此，将导电片和导电树脂电连接的导电部分设置在导电片的边缘附近。接下来将描述根据该组合技术制造显影剂容器的方法。为了根据该技术制造显影剂容器，通过在使片材与模具接触的状态下将熔融树脂注入模具中，将导电片粘附到第一树脂部分。然后，通过将第二树脂注入由导电片、第一树脂部分和模具产生的空间中，一体地模制导电片、第一树脂部分和第二树脂部分。
技术实现思路
然而，在基于上述组合技术的显影剂容器及其制造方法的情况下，可能发生以下问题：在第一步骤中注入第一树脂并在第二步骤中注入第二树脂。因此，在第一步骤中树脂开始收缩的第一树脂部分与第二步骤中树脂开始收缩的第二树脂部分之间的边界处，树脂在每个树脂部分中开始收缩的定时可能会偏离，并且在该边界处可能会产生间隙。并且，如果在第一树脂部分和第二树脂部分之间的边界处产生间隙，则例如当显影剂容器在运输期间受到冲击时，导电片的边缘可能会从第一树脂部分剥离。在这种情况下，显影剂容器的内部和外部可以经由间隙和导电片的剥离部分接触。这可能会导致显影剂从显影剂容器中泄漏。如果显影剂泄漏，则不仅显影剂容器的外部，而且处理盒的外部和图像形成装置的内部可能会被显影剂污染。然后，当用户附接/拆卸显影剂容器或处理盒时，用户的手可能会被从显影剂容器泄漏的显影剂弄脏，从而产生用户操作的问题。鉴于前述内容，本专利技术的目的是提供一种应用于显影剂容器的技术，该技术可以检测显影剂容器内部的调色剂的剩余量，以降低显影剂泄漏到显影剂容器外部的可能性。为了实现上述目的，根据本专利技术的显影剂容器包括：容纳部分，其包括由第一树脂形成的第一框架和由具有导电性的第二树脂形成的第二框架，并且被配置为容纳显影剂；以及具有导电性的导电片，其中，导电片设置在容纳部分的内壁面上，第二框架具有用于将第二框架接合到导电片的接合表面，第一框架和第二框架共用不均匀配合部分，在该不均匀配合部分中第一框架和第二框架在与接合表面相交的方向上彼此配合，不均匀配合部分具有第一框架和第二框架彼此接触的接触面，由第一框架、第二框架和导电片形成间隙，并且接触面是面向间隙并设置在沿着接合表面的方向上的面。为了实现上述目的，根据本专利技术的显影装置包括：上述的显影剂容器，其中，使用容纳在容纳部分中的显影剂对形成在图像承载构件上的静电潜像进行显影。为了实现上述目的，根据本专利技术的处理盒包括：上述的显影剂容器；以及图像承载构件，在其上要形成显影剂图像，其中，使用容纳在容纳部分中的显影剂在图像承载构件上形成显影剂图像。为了实现上述目的，根据本专利技术的图像形成装置包括：上述的显影剂容器；以及图像承载构件，在其上要形成显影剂图像，其中，使用容纳在容纳部分中的显影剂在图像承载构件上形成显影剂图像，并且使用形成在图像承载构件上的显影剂图像在记录介质上形成图像。为了实现上述目的，一种显影剂容器的制造方法，该显影剂容器包括容纳部分和具有导电性的导电片，该容纳部分包括由第一树脂形成的第一框架和由具有导电性的第二树脂形成的第二框架，并且被配置为容纳显影剂，所述制造方法包括：通过将第一树脂注入其中固定有导电片的模具中，与导电片一体地形成第一框架；以及通过将第二树脂注入到其中固定有导电片和第一框架的模具中，与导电片和第一框架一体地形成第二框架，其中，第二框架具有用于将第二框架接合到导电片的接合表面，第一框架和第二框架共用不均匀配合部分，在该不均匀配合部分中第一框架和第二框架在与接合表面相交的方向上彼此配合，不均匀配合部分具有第一框架和第二框架彼此接触的接触面，由第一框架、第二框架和导电片形成间隙，接触面是面向间隙的面，该面设置在沿着接合表面的方向上，并且在形成第二框架时，将第二树脂注入到不均匀配合部分中，并且注入的第二树脂朝向接触面收缩。根据下面参照附本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显影剂容器，包括：容纳部分，该容纳部分包括由第一树脂形成的第一框架和由具有导电性的第二树脂形成的第二框架，并且被配置为容纳显影剂；以及具有导电性的导电片，其中，导电片设置在容纳部分的内壁面上，第二框架具有用于将第二框架接合到导电片的接合表面，第一框架和第二框架共用不均匀配合部分，在该不均匀配合部分中第一框架和第二框架在与接合表面相交的方向上彼此配合，不均匀配合部分具有接触面，在接触面处第一框架和第二框架彼此接触，由第一框架、第二框架和导电片形成间隙，并且接触面是面向间隙并设置在沿着接合表面的方向上的面。

【技术特征摘要】
2018.04.03 JP 2018-0717581.一种显影剂容器，包括：容纳部分，该容纳部分包括由第一树脂形成的第一框架和由具有导电性的第二树脂形成的第二框架，并且被配置为容纳显影剂；以及具有导电性的导电片，其中，导电片设置在容纳部分的内壁面上，第二框架具有用于将第二框架接合到导电片的接合表面，第一框架和第二框架共用不均匀配合部分，在该不均匀配合部分中第一框架和第二框架在与接合表面相交的方向上彼此配合，不均匀配合部分具有接触面，在接触面处第一框架和第二框架彼此接触，由第一框架、第二框架和导电片形成间隙，并且接触面是面向间隙并设置在沿着接合表面的方向上的面。2.根据权利要求1所述的显影剂容器，其中，不均匀配合部分由第一框架和第二框架之间的边界部分形成，并且接触面是第一框架和第二框架分别在边界部分处具有的面。3.根据权利要求1或2所述的显影剂容器，其中，当沿着接合表面的法线方向观察时，接合表面设置在导电片的内侧，并且不均匀配合部分沿着导电片的较短边设置在沿导电片的纵向方向设置有接合表面的一侧。4.根据权利要求1或2所述的显影剂容器，其中，当沿着接合表面的法线方向观察时，不均匀配合部分包括：被配置为在沿着接合表面的方向上的一侧与接合表面配合的部分，以及被配置为在另一侧与接合表面配合的部分，所述另一侧在所述一侧的相反侧上。5.根据权利要求1或2所述的显影剂容器，其中，接触面是不均匀配合部分的面向间隙的两个表面当中的、在间隙和所述两个表面被设置的方向上距间隙更远的面。6.根据权利要求1或2所述的显影剂容器，其中，当沿着接合表面的法线方向观察时，第二树脂的注入量大于到不均匀配合部分的第二树脂的注入量的区域被设置在如下位置处：在该位置，第一框架的接触面夹在该区域和不均匀配合部分之间。7.根据权利要求1或2所述的显影剂容器，其中，当沿着接合表面的法线方向观察时，不均匀配合部分被形成为包围接合表面的整个圆周。8.根据权利要求1或2所述的显影剂容器，其中，当沿着接合表面的法线方向观...

【专利技术属性】
技术研发人员：吉田正福，阿部宰，天药和宏，阿部和彥，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP