用于集成电路的气体污染物取样装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种气体污染物取样装置，其包括取样容器，所述取样容器包括：容置腔，所述容置腔内能够放置取样液体；进样管，插入所述容置腔，且所述进样管的出气口能够位于所述取样液体的液面之下；出气管，插入所述容置腔，且所述出气管的进气口能够位于所述取样液体的液面之上；多孔芯，设置在所述进样管的出气口端，待取样气体能够经所述多孔芯进入所述取样液体内。本发明专利技术的优点在于，增大进入所述取样液体内的气体的表面积，增大待取样气体与所述取样液体的接触面积，提高取样液体固定待取样气体中的污染物能力和效率，且待取样气体洗脱更充分，测试数据更具有代表性，也更加安全。

Gas pollutant sampling device for integrated circuit

【技术实现步骤摘要】
用于集成电路的气体污染物取样装置
本专利技术涉及污染物分析领域，尤其涉及一种用于集成电路的气体污染物取样装置。
技术介绍
集成电路工业，自1958年世界上第一块硅(Si)集成电路诞生以来经过48年的发展，现今已进入巨大规模集成电路(ULSI)发展时期。半导体工业制作的集成电路组件尺寸(CD)越来越小，2005年还是大批量的生产90nm，但到2006年至2007年65nm以及45nm的也开始投产(表1)，随着12英寸硅片技术的成熟，在一块小小的芯片上，就可以整合更多的器件，而且随着技术越来越快的发展，不仅对设备的要求就要越来越精密、可靠，而且对工艺制造环境的要求也是越来越严格。而洁净室就是一个为环境敏感物质与产品打造的工艺制造环境，主要用于提高成品率与产量。而经过几十年的发展，洁净室中最早被认识并加以控制的空气颗粒过滤技术已是一门“成熟”的科学技术，并能够灵活的被应用在每个微小环境中。而一些微小的化学挥发性气体往往会被忽略，但实际它们对很多加工处理过程有害，特别是在集成电路工业，同时它们亦可能造成一定的人体健康危害。因此为了能够提供一个“更洁净”的生产环境，近年来空气传播分子污染物AMC(AirborneMolecularContaminant)也逐渐被认识并加以重视。空气传播分子污染物AMC也简称“分子污染”，它包括了洁净室空气中出现的一系列污染物。监测空气传播分子污染物成为集成电路制作工艺中至关重要的一环。同时，集成电路制作过程中产生的金属杂质也需要被监测。通常，需要对空气传播分子污染物及金属杂质进行取样，取样后再利用分析仪器进行分析。目前的用于对空气传播分子污染物及金属杂质进行取样的装置，其取样效率低，不能满足需求。同时，取样时对于待取样气体的洗脱不够充分，导致可能会有未被洗脱的气体挥发到空气中，影响洁净室的洁净度并危害人体安全。因此，如何提高待取样气体的洗脱效率是急需改进的重点。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是，提供一种用于集成电路的气体污染物取样装置，其能够提高取样液体固定待取样气体中的污染物能力和效率，使得在同等量取样液体的情况下，能使待取样气体洗脱更充分，测试数据更具有代表性，也更加安全。为了解决上述问题，本专利技术提供了一种用于集成电路的气体污染物取样装置，其包括取样容器，所述取样容器包括：容置腔，所述容置腔内能够放置取样液体；进样管，插入所述容置腔，且所述进样管的出气口能够位于所述取样液体的液面之下；出气管，插入所述容置腔，且所述出气管的进气口能够位于所述取样液体的液面之上；多孔芯，设置在所述进样管的出气口端，待取样气体能够经所述多孔芯进入所述取样液体内。进一步，所述容置腔的底部为圆弧形。进一步，所述容置腔至少包括两个区段，两个区段的内径不相等。进一步，所述容置腔包括自底部依次设置的第一区段及第二区段，所述第二区段的内径小于所述第一区段的内径。进一步，所述第一区段的形状为球形，所述第二区段的形状为柱形。进一步，所述第二区段的内径为所述第一区段的内径的0.5～0.8倍。进一步，所述容置腔具有开口，所述进样管及所述出气管经所述开口插入所述容置腔，在所述开口处设置有单向逆止阀门，所述单向逆止阀门的通行方向为朝向所述容置腔内。进一步，所述进样管设置在所述容置腔的中间。进一步，在所述进样管的进气口端设置有滤芯，待取样气体经所述滤芯进入所述进样管，所述滤芯用于过滤待取样气体中的颗粒物。进一步，在所述出气管内设置有浮子，以监测在所述出气管内是否有气体流动。进一步，在所述出气管对应所述浮子的区域，所述出气管壁上设置有标记，以指示气体流量。进一步，所述多孔芯位于所述进样管内，或者所述多孔芯位于所述进样管的所述出气口的外部。进一步，所述取样装置还包括：抽气装置，与所述取样容器的出气管连通，用于抽取所述出气管内的气体。进一步，在所述抽气装置与所述取样容器之间还设置有：缓冲装置，与所述出气管连通，所述出气管的气体排出至所述缓冲装置；干燥装置，分别与所述缓冲装置及所述抽气装置连通。本专利技术的优点在于，在进气管的出气口端设置多孔芯，其能够将所述进样管内的气体细化，使排入至所述取样液体内的气体形成多个小内径的气泡，从而增大进入所述取样液体内的气体的表面积，增大待取样气体与所述取样液体的接触面积，提高取样液体固定待取样气体中的污染物能力和效率，且待取样气体洗脱更充分，测试数据更具有代表性，也更加安全。附图说明图1是本专利技术气体污染物取样装置的第一具体实施方式的结构示意图；图2是本专利技术气体污染物取样装置的第一具体实施方式中多孔芯的结构示意图；图3是本专利技术气体污染物取样装置的第二具体实施方式的结构示意图；图4是本专利技术气体污染物取样装置的第三具体实施方式的结构示意图。具体实施方式下面结合附图对本专利技术提供的气体污染物取样装置的具体实施方式做详细说明。图1是本专利技术气体污染物取样装置的第一具体实施方式的结构示意图。请参阅图1，所述气体污染物取样装置包括取样容器1。可选地，在本具体实施方式中，所述气体污染物取样装置还包括与所述取样容器1依次连通的缓冲装置2、干燥装置3及抽气装置4。所述取样容器1用于洗脱待取样气体中的污染物；所述缓冲装置2用于防止管线接错溢水；所述干燥装置3用于吸收多余水汽，防止水汽损坏所述抽气装置4；所述抽气装置4作为动力源，对所述取样容器1进行抽气，以使得待取样气体能够流动。所述待取样气体包括但不限于集成电路制程中收集的空气，其含有集成电路制备过程中产生的空气传播分子污染物AMC或金属杂质。所述取样容器1包括容置腔10、进样管11、多孔芯12及出气管13。所述容置腔10内能够放置取样液体5。所述取样液体5能够洗脱待取样气体内的污染物，形成富含污染物的待测液体。取样完毕后可将该含有污染物的待测液体在分析仪器上进行测试及分析。所述进样管11插入所述容置腔10。进一步，在本具体实施方式中，所述容置腔10具有开口10A，所述进样管11自所述开口10A插入所述容置腔10内。所述进样管11的出气口11A需要位于所述取样液体5的液面之下，使得待取样气体经所述进样管11进入所述容置腔10后，直接进入所述取样液体5内。优选地，所述进样管11的出气口11A位于所述容置腔10的底部，以增大待取样气体在所述取样液体5内的行程。优选地，所述进样管11设置在所述容置腔10的中间，例如，所述进样管11设置在所述容置腔10的中心线上。在使用所述气体污染物取样装置进行取样时，由于所述进样管11设置在所述容置腔10的中间，使用者能够更易于分辨进样管11与出气管13，从而避免错接而导致取样液体反溢，进而避免取样液体及待取样气体被浪费。所述进样管11包括但不限于PFA(全氟烷氧基树脂)管。优选地，在所述进样管11的进气口11B端设置有滤芯110。所述滤芯110用于过滤待取样气体中的颗粒物。待取样气体经所述滤芯110后，其内的颗粒物被过滤，减少了进入所述取样液体5内的颗粒物，从而在后续测试分析阶段避免取样液体5中的颗粒物过多而堵塞分析仪器色谱及进样系统，极大的提高了设备运行的可靠性和降低备件的损耗。其中，所述滤芯110包括但不限于过滤精度为0.45μm～1μm的玻璃纤维滤芯。进一步，所述滤芯110可通过一卡套固定在所述进样管11的进气口11B端本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于集成电路的气体污染物取样装置，其特征在于，包括取样容器，所述取样容器包括：容置腔，所述容置腔内能够放置取样液体；进样管，插入所述容置腔，且所述进样管的出气口能够位于所述取样液体的液面之下；出气管，插入所述容置腔，且所述出气管的进气口能够位于所述取样液体的液面之上；多孔芯，设置在所述进样管的出气口端，待取样气体能够经所述多孔芯进入所述取样液体内。

【技术特征摘要】
1.一种用于集成电路的气体污染物取样装置，其特征在于，包括取样容器，所述取样容器包括：容置腔，所述容置腔内能够放置取样液体；进样管，插入所述容置腔，且所述进样管的出气口能够位于所述取样液体的液面之下；出气管，插入所述容置腔，且所述出气管的进气口能够位于所述取样液体的液面之上；多孔芯，设置在所述进样管的出气口端，待取样气体能够经所述多孔芯进入所述取样液体内。2.根据权利要求2所述的气体污染物取样装置，其特征在于，所述容置腔的底部为圆弧形。3.根据权利要求1所述的气体污染物取样装置，其特征在于，所述容置腔至少包括两个区段，所述区段的内径不相等。4.根据权利要求1所述的气体污染物取样装置，其特征在于，所述容置腔包括自底部依次设置的第一区段及第二区段，所述第二区段的内径小于所述第一区段的内径。5.根据权利要求4所述的气体污染物取样装置，其特征在于，所述第一区段的形状为球形，所述第二区段的形状为柱形。6.根据权利要求4所述的气体污染物取样装置，其特征在于，所述第二区段的内径为所述第一区段的内径的0.5～0.8倍。7.根据权利要求1所述的气体污染物取样装置，其特征在于，所述容置腔具有开口，所述进样管及所述出气管经所述开口插入所述容置腔，在所述开口处设置有...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐小明，聂艳群，
申请(专利权)人：长江存储科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42