一种用于导流洞中层全断面开挖一次成型的方法技术

本发明专利技术公开了一种用于导流洞中层全断面开挖一次成型的方法，旨在提供一种开挖效率高的用于导流洞中层全断面开挖一次成型的方法。它该方法采用预裂爆破技术，两侧边墙为控制好超欠挖，采用预裂孔，孔深10m，孔间距为1.0m，孔向为垂直孔，70°倾角；为保证爆破效果以及爆破围岩的衔接，内部第一排采用缓冲孔，孔的间排距为1.5m×1.2m，孔深为10.0m，缓冲孔的倾角接近垂直，为83°；爆破孔的间排距为3m×2m，孔深10.0m，倾角为78°；预裂爆破技术采用孔内延时，孔外借力，毫秒微差控制起爆网络技术；爆破孔、缓冲孔孔内采用MS15双发非电毫秒雷管，孔间采用MS2、MS3段非电管，排间采用MS5段非电管。本发明专利技术可避免因工序复杂而造成的工期拖延的问题。

A One-time Forming Method for Full Section Excavation of Middle Flow Diversion Tunnel

【技术实现步骤摘要】
一种用于导流洞中层全断面开挖一次成型的方法
本专利技术涉及大断面洞室开挖施工
，尤其是涉及一种用于导流洞中层全断面开挖一次成型的方法。
技术介绍
分部开挖是一种传统的大断面洞室开挖的方法，其特点是工序复杂，钻孔较多，开挖完预留的另一侧易造成滑塌，安全风险较高，工序比较复杂，耗时、耗力。同时使用期爆破频率较高，耽误有效的施工时间，且后期不易及时支护，造成安全风险较高。
技术实现思路
本专利技术的目的旨在克服现有技术存在的不足，提供了一种工序简单方便、爆破频率低、安全系数高、省时省力的用于导流洞中层全断面开挖一次成型的方法。为了解决上述技术问题，本专利技术是通过以下技术方案实现的：一种用于导流洞中层全断面开挖一次成型的方法，该方法采用预裂爆破技术，两侧边墙为控制好超欠挖，采用预裂孔，孔深10m，孔间距为1.0m，孔向为垂直孔，70°倾角；为保证爆破效果以及爆破围岩的衔接，内部第一排采用缓冲孔，孔的间排距为1.5m×1.2m，孔深为10.0m，缓冲孔的倾角接近垂直，为83°；爆破孔的间排距为3m×2m，孔深10.0m，倾角为78°；预裂爆破技术采用孔内延时，孔外借力，毫秒微差控制起爆网络技术；爆破孔、缓冲孔孔内采用MS15双发非电毫秒雷管，孔间采用MS2、MS3段非电管，排间采用MS5段非电管。与现有技术相比，本专利技术具有如下优点：（1）本专利技术在安全方面，与现有的大断面洞室分部开挖的方法相比较，更加安全，有效的避免了现有分部开挖方法由于开挖段地质条件、围岩类型的变化而造成的滑塌、危岩的滑落等风险，一次开挖成型，支护可以紧跟，避免开挖断面由于支护滞后而造成的安全隐患。（2）本专利技术在工序上，相比较现有分部开挖技术而言，对于大断面洞室，将原有的分两部、分三部甚至分更多部开挖变成现在的一次开挖成型，爆破频率降低，极大的降低了循环的次数，避免了循环施工中由于工序不衔接而造成的人力、物力上的浪费。（3）本专利技术设置合理，在确保安全、质量的前提下可有效加快施工速度，保证其施工效率，缩短施工工期。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。图1为本专利技术开挖的布孔图。图2为本专利技术开挖的雷管联网图。图中：预裂孔1，缓冲孔2，爆破孔3。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在以下描述中，为了清楚展示本专利技术的结构及工作方式，将以附图为基准，借助诸多方向性词语进行描述，但是应当将“前”、“后”、“左”、“右”、“上”、“下”等词语理解为方便用语，而不应当理解为限定性词语。一种用于导流洞中层全断面开挖一次成型的方法，开挖方式如图1-2所示，采用预裂爆破技术，平均开挖断面尺寸为22.10m×10.0m（宽×高），包括两侧边墙的预裂孔、内层的缓冲孔、爆破孔。两侧边墙为控制好超欠挖，采用预裂孔，孔深10m，孔间距为1.0m，孔向为垂直孔，70°倾角；为保证爆破效果以及爆破围岩的衔接，内部第一排采用缓冲孔，孔的间排距为1.5m×1.2m，孔深为10.0m，缓冲孔的倾角接近垂直，为83°；爆破孔的间排距为3m×2m，孔深10.0m，倾角为78°；预裂爆破技术采用孔内延时，孔外借力，毫秒微差控制起爆网络技术；爆破孔、缓冲孔孔内采用MS15双发非电毫秒雷管，孔间采用MS2、MS3段非电管（非电导爆管），排间采用MS5段非电管（非电导爆管）。平均单耗控制在0.45~0.55，预裂孔线装药量为250g/m。其中，预裂孔从钻孔的孔深、孔径、孔向到预裂孔装药的控制，是一个关键，有效的控制上述几个要素，可以更好地控制全断面的超欠挖。使用时，在施工现场将框架、行走轮、塑料模板及调节螺杆进行组装，之后旋拧调节螺杆使框架上的塑料模板外移到达浇筑位置，并安装上斜撑杆即可浇筑。浇筑完成后，移除斜撑杆，调松调节螺杆即可移动模板台车进入下一浇筑工段。本专利技术有效的避免了传统分部开挖技术工序多、安全风险高的问题，进而有效避免因传统技术工序多而带来的费时费力，有效加快现场施工的进度。以上所述仅为本专利技术的较佳实施例而已，并不用以限制本专利技术，凡在本专利技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于导流洞中层全断面开挖一次成型的方法，其特征在于：该方法采用预裂爆破技术，两侧边墙为控制好超欠挖，采用预裂孔，孔深10m，孔间距为1.0m，孔向为垂直孔，70°倾角；为保证爆破效果以及爆破围岩的衔接，内部第一排采用缓冲孔，孔的间排距为1.5m×1.2m，孔深为10.0m，缓冲孔的倾角接近垂直，为83°；爆破孔的间排距为3m×2m，孔深10.0m，倾角为78°；预裂爆破技术采用孔内延时，孔外借力，毫秒微差控制起爆网络技术；爆破孔、缓冲孔孔内采用MS15双发非电毫秒雷管，孔间采用MS2、MS3段非电管，排间采用MS5段非电管。

【技术特征摘要】
1.一种用于导流洞中层全断面开挖一次成型的方法，其特征在于：该方法采用预裂爆破技术，两侧边墙为控制好超欠挖，采用预裂孔，孔深10m，孔间距为1.0m，孔向为垂直孔，70°倾角；为保证爆破效果以及爆破围岩的衔接，内部第一排采用缓冲孔，孔的间排距为1.5m×1.2m，孔深...

【专利技术属性】
技术研发人员：鲁满库，付开红，李玉才，郭磊强，高金录，应成泰，
申请(专利权)人：中国水利水电第四工程局有限公司，
类型：发明
国别省市：青海,63