无倒影全局光光源系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种无倒影全局光光源系统，涉及光学检测技术领域。本实用新型专利技术包括外箱和相机，外箱内部通过遮光板分为成像室和光源室，相机通过固定工装固定在成像室内，其特征在于，光源室底部开设有第一透光口，第一透光口上方罩设有漫射导光罩，光源室侧壁上设置有环绕漫射导光罩的若干光源板，外箱下方设置有对准第一透光口的镜面检测平台，遮光板上开设有第二透光口，第二透光口连通相机与镜面检测平台之间的光路。本实用新型专利技术能够提供全局光光源，通过设置漫射导光罩，并调整漫射导光罩、光源板和相机的位置关系及尺寸，降低光线反射率，避免光源外形及漫射导光罩出现在相机的有效检测区域内。

Global light source system without reflection

【技术实现步骤摘要】
无倒影全局光光源系统
本技术涉及光学检测
，特别是无倒影全局光光源系统。
技术介绍
自动光学检测(AutomatedOpticalInspectionI)，为高速高精度光学影像检测系统，运用机器视觉做为检测标准技术，作为改良传统上以人力使用光学仪器进行检测的缺点。自动光学检测是工业制程中常见的代表性手法，利用光学方式取得成品的表面状态，以影像处理来检出异物或图案异常等瑕疵，因为是非接触式检查，所以可在中间工程检查半成品。现有光学检测系统存在镜面检测平台反射光源外形的问题，这将严重影响相机的成像效果。因此，有必要设计一种无倒影全局光光源。
技术实现思路
本技术的专利技术目的在于：针对镜面检测平台反射光源外形的问题，本技术提供一种无倒影全局光光源系统，通过设置漫射导光罩降低光源光线反射率；同时通过设置漫射导光罩尺寸，以及漫射导光罩、光源和相机的结构关系，避免漫射导光罩及光源外形出现在镜面检测平台的反射区域内。本技术采用的技术方案如下：无倒影全局光光源系统，包括外箱和相机，外箱内部通过遮光板分为成像室和光源室，相机通过固定工装固定在成像室内，光源室底部开设有第一透光口，第一透光口上方罩设有漫射导光罩，光源室侧壁上设置有环绕漫射导光罩的若干光源板，外箱下方设置有对准第一透光口的镜面检测平台，遮光板上开设有第二透光口，第二透光口连通相机与镜面检测平台之间的光路。由于上述结构的设置，外箱屏蔽外部干扰光源，环绕漫射导光罩的若干光源板为相机提供无影全局光，而第一透光口上方罩设的漫射导光罩避免光源板直射镜面检测平台，避免相机在镜面检测平台上的有效检测区域内出现光源外形，对相机成像造成干扰。进一步地，漫射导光罩为中空的正四棱台形，具有上下连通的第一导光口和第二导光口，第一导光口宽度e小于第二导光口宽度d；其中，漫射导光罩轴线与相机光轴重合。相机与镜面检测平台之间垂直距离为H，漫射导光罩顶部与镜面检测平台之间垂直距离为h，相机在镜面检测平台上的有效检测区域宽度为D，第一导光口宽度e≥D*(H+h)/H，且d>D。由于上述结构的设置，漫射导光罩的第一导光口和第二导光口呈正方形，其内壁倾斜，在上的第一导光口宽度e小于第二导光口宽度d(d>D)，因此，漫射导光罩除了能够降低光线反射率，还具有聚光的效果。另一方面，限定第一导光口宽度使得漫射导光罩位于相机在镜面检测平台上的有效监测区域之外。进一步地，为使得漫射导光罩在确保透光性的前提下，降低光源光线的反射率，提高光线漫反射，漫射导光罩采用透光性材料，漫射导光罩内壁采用磨砂工艺处理，优选地，透光性材料为聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚双烯丙基二甘醇碳酸酯、树脂或透明玻璃纤维增强塑料之一。进一步地，为降低装置整体重量，提高散热率，并避免外箱内壁反射光源光线，外箱由铝合金材料或导热系数大于铝合金的材料制成，优选地，外箱采用LY12铝合金材质，外箱表面经过阳极化处理。进一步地，光源板为LED光源板，光源室内沿漫射导光罩轴线旋转对称地设置有四个光源板，光源板粘合在光源室侧壁上；其中四个光源板分别对准漫射导光罩的四个侧壁。光源板旋转对称的设置方式能够最大程度地消除阴影，提高光源室光线亮度。综上所述，由于采用了上述技术方案，本技术的有益效果是：1、本技术的外箱屏蔽外部干扰光源，环绕漫射导光罩的若干光源板为相机提供无影全局光，而第一透光口上方罩设的漫射导光罩避免光源板直射镜面检测平台，避免相机在镜面检测平台上的有效检测区域内出现光源外形，对相机成像造成干扰；2、本技术的漫射导光罩除了能够降低光线反射率，还具有聚光的效果；在结构基础上，限定第一导光口宽度使得漫射导光罩位于相机在镜面检测平台上的有效监测区域之外；3、本技术的漫射导光罩采用经磨砂工艺处理的透光性材料制成，可以在确保透光性的前提下，降低光源光线的反射率，提高光线漫反射；4、本技术的外箱采用阳极化处理的LY12铝合金材料制成，质量轻且散热性能好，可以避免内壁反射光源光线；5、本技术光源板旋转对称的设置方式能够最大程度地消除阴影，提高光源室光线亮度。附图说明图1是本技术结构示意图；图2是本技术光路示意图；图中标记：10-外箱；20-相机；30-固定工装；40-光源板；50-漫射导光罩；60-镜面检测平台；11-成像室；12-光源室；13-第一透光口；14-第二透光口；51-第一导光口；52-第二导光口；e-第一导光口宽度；d-第二导光口宽度；H-相机与镜面检测平台之间的垂直距离；h-漫射导光罩顶部与镜面检测平台之间的垂直距离；D-相机在镜面检测平台上的有效检测区域宽度。具体实施方式下面结合附图，对本技术作详细的说明。为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。参照图1和图2说明根据本公开实施例的无倒影全局光光源系统，包括外箱10和相机20，外箱10内部通过遮光板分为成像室11和光源室12，相机20通过固定工装30固定在成像室11内，光源室12底部开设有第一透光口13，第一透光口13上方罩设有漫射导光罩50，光源室12侧壁上设置有环绕漫射导光罩50的若干光源板40，外箱10下方设置有对准第一透光口13的镜面检测平台60，遮光板上开设有第二透光口14，第二透光口14连通相机20与镜面检测平台60之间的光路。本实施例中，漫射导光罩50为中空的正四棱台形，具有上下连通的第一导光口51和第二导光口52，漫射导光罩50轴线与相机20光轴重合。在上的第一导光口51和在下的第二导光口52均呈正方形，且第一导光口51宽度e小于第二导光口52宽度d。如图2所示，相机20与镜面检测平台60之间垂直距离为H，漫射导光罩50顶部与镜面检测平台60之间垂直距离为h，相机20在镜面检测平台60上的有效检测区域宽度为D，第一导光口51宽度e≥D*(H+h)/H，且d>D，从而使反射位置距离有效检测区域最近的第一导光口51边缘位于有效检测区域以外。本实施例中，漫射导光罩50采用透光性材料，优选地，透光性材料为聚甲基丙烯酸甲酯。漫射导光罩50内壁采用磨砂工艺处理。本实施例中，外箱10采用LY12铝合金材质，外箱10内表面和外表面均经过阳极化处理。本实施例中，光源板40为LED光源板40，光源室12内沿漫射导光罩50轴线旋转对称地设置有四个光源板40，四个光源板40分别对准漫射导光罩50的四个侧壁。光源板40粘合在光源室12侧壁上。以上所述仅为本技术的较佳实施例而已，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.无倒影全局光光源系统，包括外箱(10)和相机(20)，所述外箱(10)内部通过遮光板分为成像室(11)和光源室(12)，所述相机(20)通过固定工装(30)固定在成像室(11)内，其特征在于，所述光源室(12)底部开设有第一透光口(13)，所述第一透光口(13)上方罩设有漫射导光罩(50)，所述光源室(12)侧壁上设置有环绕漫射导光罩(50)的若干光源板(40)，所述外箱(10)下方设置有对准所述第一透光口(13)的镜面检测平台(60)，所述遮光板上开设有第二透光口(14)，所述第二透光口(14)连通相机(20)与镜面检测平台(60)之间的光路。

【技术特征摘要】
1.无倒影全局光光源系统，包括外箱(10)和相机(20)，所述外箱(10)内部通过遮光板分为成像室(11)和光源室(12)，所述相机(20)通过固定工装(30)固定在成像室(11)内，其特征在于，所述光源室(12)底部开设有第一透光口(13)，所述第一透光口(13)上方罩设有漫射导光罩(50)，所述光源室(12)侧壁上设置有环绕漫射导光罩(50)的若干光源板(40)，所述外箱(10)下方设置有对准所述第一透光口(13)的镜面检测平台(60)，所述遮光板上开设有第二透光口(14)，所述第二透光口(14)连通相机(20)与镜面检测平台(60)之间的光路。2.如权利要求1所述的无倒影全局光光源系统，其特征在于，所述漫射导光罩(50)为中空的正四棱台形，具有上下连通的第一导光口(51)和第二导光口(52)，第一导光口(51)宽度e小于第二导光口(52)宽度d。3.如权利要求2所述的无倒影全局光光源系统，其特征在于，相机(20)与镜面检测平台(60)之间垂直距离为H，漫射导光罩(50)顶部与镜面...

【专利技术属性】
技术研发人员：程序贤，徐景恒，庄孟雨，黄巧，
申请(专利权)人：万瞳智能科技成都有限公司，
类型：新型
国别省市：四川,51