【技术实现步骤摘要】
一种用于测量单眼瞳高的眼镜框架
本技术涉及一种眼镜框架，具体涉及一种用于测量单眼瞳高的眼镜框架。
技术介绍
眼镜在加工前需要根据佩戴者的眼睛实际眼部尺寸及需求，测量佩戴者的瞳高，目前常用测量方式包括角膜映光点瞳法以及瞳高测量仪测量法，两种测量方式都比较繁琐费时，且受检测者检测熟练程度的影响较大，从而易造成误差极大，致使眼镜佩戴者佩戴加工后的眼镜舒适度降低，严重影响功能型镜片验配成功率，增加佩戴者的佩戴风险以及重配镜成本，增加检测者的检测耗时及成本。
技术实现思路
针对现有技术中的缺点和不足，本技术提供了一种用于测量单眼瞳高的眼镜框架。为解决上述技术问题，本技术提供的技术方案为：一种用于测量单眼瞳高的眼镜框架，所述眼镜框架包括镜框和镜框两侧的镜架，所述镜框包括位于上方的上镜框、位于下方的下镜框、位于外侧的外镜框、以及位于内侧的内镜框，所述镜框内部设置有双眼撑片；其特征在于：位于左、右两片所述双眼撑片的横向中央位置分别设置有一组刻度线，所述刻度线的刻度基准线位于所述双眼撑片的纵向中间位置且所述刻度线沿着所述双眼撑片的纵向朝向所述镜框的上镜框延伸分布，所述刻度线的最小刻度为1m...
【技术保护点】
1.一种用于测量单眼瞳高的眼镜框架，所述眼镜框架包括镜框（1）和镜框（1）两侧的镜架（2），所述镜框（1）包括位于上方的上镜框（11）、位于下方的下镜框（12）、位于外侧的外镜框（13）、以及位于内侧的内镜框（14），所述镜框（1）内部设置有双眼撑片（3）；其特征在于：位于左、右两片所述双眼撑片（3）的横向中央位置分别设置有一组刻度线（4），所述刻度线（4）的刻度基准线位于所述双眼撑片（3）的纵向中间位置且所述刻度线（4）沿着所述双眼撑片（3）的纵向朝向所述镜框（1）的上镜框（11）延伸分布，所述刻度线（4）的最小刻度为1mm。
【技术特征摘要】
1.一种用于测量单眼瞳高的眼镜框架，所述眼镜框架包括镜框（1）和镜框（1）两侧的镜架（2），所述镜框（1）包括位于上方的上镜框（11）、位于下方的下镜框（12）、位于外侧的外镜框（13）、以及位于内侧的内镜框（14），所述镜框（1）内部设置有双眼撑片（3）；其特征在于：位于左、右两片所述双眼撑片（3）的横向中央位置分别设置有一组刻度线（4），所述刻度线（4）的刻度基准线位于所述双眼撑片（3）的纵向中间位置且所述刻度线（4）沿着所述双眼撑片（3）的纵向朝向所述镜框（1）的上镜框（11）延伸分布，所述刻度线（4）的最小刻度为1mm。2.根据权利要求1所述的一种用于测量单眼瞳高的眼镜框架，其特征在于：所述刻度线（4）的一侧标注有数字刻度。3.根据权利要求2所述的一种用于测量单眼瞳高的眼镜框架，其特征在于：所述刻度线（4）与所述数字刻度采用黑色或灰色颜料标记。4.根据权利要求2所述的一种用于测量单眼瞳高的眼镜框架，其特征在于：所述数字刻度的单位为cm。5.根据权利要求1所述的一种用于测量单眼瞳高的眼镜框架，其特征在于：所述上镜框（11）、下镜框（12）、外镜框（13...
【专利技术属性】
技术研发人员：张力，
申请(专利权)人：西安星火眼视光科技有限公司，
类型：新型
国别省市：陕西,61
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