单元素多层红外高反膜及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种单元素多层红外高反膜及其制备方法，该膜结构由基底和石墨靶材镀制的多层DLC膜构成，膜系的基本结构为：S/(HL)

Element Multilayer Infrared High Reflection Film and Its Preparation Method

【技术实现步骤摘要】
单元素多层红外高反膜及其制备方法
本专利技术属于光学薄膜设计及制备
，特别涉及一种完全由单元素构成的多层红外高反射薄膜。技术背景为了获得良好的光学性能和成像质量，光学元件表面一般都需要镀制特定功能的薄膜。单层薄膜能够实现的功能非常有限，根据薄膜光学的基本理论，由两种高、低折射率材料交替组成的多层膜可获得优良的光学性能。因此常用的光学薄膜如宽带减反射薄膜，高反射薄膜，滤光膜，偏振膜等都是用两种（或多种）折射率不同的镀膜材料，交替镀制得到的多层膜结构。目前用于红外多层膜制备的高折射率材料主要有ZnS、ZnSe等，低折射率材料有MgF2、BaF2等，这些材料普遍质地柔软、易吸潮，化学稳定性较差，难以经受风沙、酸雨等恶劣环境的侵蚀。多层膜的不同材料层与层之间往往存在较大的应力，因此常常存在膜料不匹配，附着力差，膜层容易脱落的问题。另一方面，类金刚石（diamond-likecarbon，DLC）薄膜作为一种新型红外镀膜材料，不仅具有高的硬度，而且具有耐磨损、抗腐蚀，同时透明区较宽，光学带隙大的特点，可作为红外元件表面镀膜材料，因此自问世以来就得到了广泛的关注。比如脉冲真空电弧沉积制本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种单元素多层红外高反膜，其特征在于，由基底和石墨靶材镀制的多层DLC膜构成，膜系的基本结构为：S/(HL)

【技术特征摘要】
1.一种单元素多层红外高反膜，其特征在于，由基底和石墨靶材镀制的多层DLC膜构成，膜系的基本结构为：S/(HL)xH/A，其中S为Si基底，H为高折射率的DLC膜，L为低折射率的DLC膜，x为H和L重复镀制的周期数，A为空气。2.如权利要求1所述的单元素多层红外高反膜，其特征在于，所述膜系中，x=10~15，x为自然数，其数值越大，对应中心波长处的反射率越高。3.如权利要求2所述的单元素多层红外高反膜，其特征在于，所述膜系中，每层膜均是由碳元素组成的。4.如权利要求1所述的单元素多层红外高反膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）镀前预处理，采用离子束对基片进行清洗和活化处理，所述基片为Si基底材料；（2）膜层镀制，根据设计的膜层厚度，所述高折射率的DLC膜和低折射率的DLC膜分别采用脉冲电弧和非平衡磁控溅射进行薄膜制备；（3）后续处理，在真空状态，进行退火处理。5.如权利要求4...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐均琪，苏俊宏，吴慎将，惠迎雪，梁海锋，李阳，诗云云，
申请(专利权)人：西安工业大学，
类型：发明
国别省市：陕西,61