一种射线源屏蔽装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种射线源屏蔽装置，包括屏蔽室上盖、屏蔽室主体、排风孔屏蔽、准直器铅屏蔽、排风管道屏蔽、出线孔屏蔽罩、风扇装配、加速器、阻隔板、增添屏蔽体和支撑底座，所述屏蔽室上盖设置在屏蔽室主体上方，所述屏蔽室主体设置在支撑底座上，所述排风孔屏蔽设置在屏蔽室主体内部，所述准直器铅屏蔽设置在屏蔽室主体底部，所述排风管道屏蔽设在屏蔽室主体后端，所述出线孔屏蔽罩设置在屏蔽室主体前端，所述风扇装配设置在排风管道屏蔽末端，所述加速器设置在屏蔽室主体内部中心，所述阻隔板设在准直器铅屏蔽内。本实用新型专利技术的有益效果是设置有阻隔板，所述阻隔板为钨合金阻隔板，阻隔板的设置可以将射线有效的约束在所需要照射的面上。

A Shielding Device for Radiation Source

【技术实现步骤摘要】
一种射线源屏蔽装置
本技术涉及射线检测领域，具体是一种射线源屏蔽装置。
技术介绍
在射线检测行业中，加速器是常用的射线源，由于射线计量较大，在射线源的防护上也困难重重，我方设计的射线源屏蔽装置，有效的将射线约束在所需要照射的面上，散射计量小，在其余不需照射的面上没有射线的泄漏，保障操作人员的人身安全。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种射线源屏蔽装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。本技术的技术方案是：一种射线源屏蔽装置，包括屏蔽室上盖、屏蔽室主体、排风孔屏蔽、准直器铅屏蔽、排风管道屏蔽、出线孔屏蔽罩、线缆、风扇装配、加速器、阻隔板、增添屏蔽体和支撑底座，所述屏蔽室上盖设置在屏蔽室主体上方，所述屏蔽室主体设置在支撑底座上，所述排风孔屏蔽设置在屏蔽室主体内部，所述准直器铅屏蔽设置在屏蔽室主体底部，所述排风管道屏蔽设在屏蔽室主体后端，所述出线孔屏蔽罩设置在屏蔽室主体前端，所述线缆设置在出线孔屏蔽罩内，所述风扇装配设置在排风管道屏蔽末端，所述加速器设置在屏蔽室主体内部中心，所述阻隔板设在准直器铅屏蔽内，所述增添屏蔽体设置在屏蔽室主体侧面。在本技术一较佳实施例中，所述屏蔽室上盖顶部厚度铅浇注一体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种射线源屏蔽装置，其特征在于：包括屏蔽室上盖(1)、屏蔽室主体(2)、排风孔屏蔽(3)、准直器铅屏蔽(4)、排风管道屏蔽(5)、出线孔屏蔽罩(6)、线缆(6a)、风扇装配(7)、加速器(8)、阻隔板(9)、增添屏蔽体(10)和支撑底座(11)，所述屏蔽室上盖(1)设置在屏蔽室主体(2)上方，所述屏蔽室主体(2)设置在支撑底座(11)上，所述排风孔屏蔽(3)设置在屏蔽室主体(2)内部，所述准直器铅屏蔽(4)设置在屏蔽室主体(2)底部，所述排风管道屏蔽(5)设在屏蔽室主体(2)后端，所述出线孔屏蔽罩(6)设置在屏蔽室主体(2)前端，所述线缆(6a)设置在出线孔屏蔽罩(6)内，所述风扇装配(7...

【技术特征摘要】
1.一种射线源屏蔽装置，其特征在于：包括屏蔽室上盖(1)、屏蔽室主体(2)、排风孔屏蔽(3)、准直器铅屏蔽(4)、排风管道屏蔽(5)、出线孔屏蔽罩(6)、线缆(6a)、风扇装配(7)、加速器(8)、阻隔板(9)、增添屏蔽体(10)和支撑底座(11)，所述屏蔽室上盖(1)设置在屏蔽室主体(2)上方，所述屏蔽室主体(2)设置在支撑底座(11)上，所述排风孔屏蔽(3)设置在屏蔽室主体(2)内部，所述准直器铅屏蔽(4)设置在屏蔽室主体(2)底部，所述排风管道屏蔽(5)设在屏蔽室主体(2)后端，所述出线孔屏蔽罩(6)设置在屏蔽室主体(2)前端，所述线缆(6a)设置在出线孔屏蔽罩(6)内，所述风扇装配(7)设置在排风管道屏蔽(5)末端，所述加速器(8)设置在...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈裕祖，
申请(专利权)人：无锡市赛盾辐射防护科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32