清洁设备制造技术

本实用新型专利技术涉及用于清洁敏感的表面的清洁设备，包括第一输送装置，所述第一输送装置用于输送在1.5巴至14巴的压力范围中的作为运载气体的压缩空气，其中，第一输送装置通到喷射喷嘴中，所述喷射喷嘴具有会聚成狭窄部位的区段以及连接在其上的发散的区段，所述设备以及包括用于清洁溶液的第二输送装置，所述清洁溶液包括至少一个下列成分：液体的去污剂，酶，细菌，其中，第二输送装置同样通到喷射喷嘴中，并且所述设备包括压缩单元，所述压缩单元用于将清洁溶液的压力提高到高于压缩空气压力的压力水平。由此实现本实用新型专利技术的有益的技术效果：高的清洁作用。

Cleaning equipment

【技术实现步骤摘要】
清洁设备
本技术涉及一种用于清洁设备。
技术介绍
已经已知的是：在超高压射流仪器(从800巴的压力起)中附加地使用压缩空气。在此，较大的水量被相对小的空气量加载，以便实现较高的清洁作用。因为在这里以高压力射出的水量占优势，所以可观的力量施加到需清洁的部件上，这会导致损坏。尤其是在清洁由石墨制成的管或板时，在制造商方面只允许小的水压，所述水压大多不足以产生清洁力。例如40巴以上的水压或即使软型的喷射剂的添加物在次已经会导致部件的毁坏或表面的不希望的粗糙。同样已知：将相对少量的水定量供给到压缩空气射流中，以用于清洁表面。在这里放弃清洁溶液或者喷射剂的输入。
技术实现思路
本技术的目的是：能够以小的射流压力轻柔但有效地清洁敏感的部件。所述目的按照本技术通过用于清洁敏感的表面的清洁设备得以实现，其包括第一输送装置，所述第一输送装置用于输送在1.5巴至14巴的压力范围中的作为运载气体的压缩空气，其中，第一输送装置通到喷射喷嘴中，所述喷射喷嘴具有会聚成狭窄部位的区段以及连接在其上的发散的区段，以及所述清洁设备包括用于清洁溶液的第二输送装置，所述清洁溶液包括至少一个下列成分：液体的、例如碱性的或酸性的去污剂，酶，细菌，其特征在于，第二输送装置同样通到喷射喷嘴中，并且所述清洁设备包括压缩单元，所述压缩单元用于将清洁溶液的压力提高到高于压缩空气压力的压力水平。尤其是将运载气体、即压缩空气输送给喷射喷嘴，所述喷射喷嘴具有会聚成狭窄部位的区段和连接在其上的发散的区段，并且在任何情况下包括下列成分：即液体的、例如碱性的或酸性的去污剂、酶、细菌之一的清洁溶液优选在喷射喷嘴之前、必要时在喷射喷嘴中供给到运载气流中并且因此处于高速、至少接近音速或超音速。在试验中已示出：在压缩空气的例如6巴的相对小的压力和由此相对低的射流压紧力的情况下，已经实现与高压清洁器类似的或部分甚至超越的高的清洁作用，其也可以使固定的或粘的污物层松脱，而不侵蚀处于其下面的软的例如石墨制的表面。清洁作用在此非常快速地作用。尤其是附着需清洁的表面上的细菌和/或酶残留物破裂，从而结果是污染物松脱，并且液体的去污剂改变需清洁的表面的表面张力。由此实现本技术的有益的技术效果：高的清洁作用。优选规定：设置有调节单元，所述第一输送装置和第二输送装置被引导至所述调节单元，并且在所述调节单元中可调节在清洁溶液与压缩空气之间的压差和/或量差。按照本技术的一种优选的实施形式设置有混合单元，利用所述混合单元可以将水添加给清洁溶液。通过添加水，可以附加地有利于清洁效果或者减少清洁溶液的量。可选地在这里可能的是：在任何情况下暂时放弃清洁溶液的添加并且将纯净的水输送给压缩空气。就此而言可能的是：在用必要时含水的清洁溶液预清洁敏感的表面之后在第二清洁阶段中用压缩空气和水不用清洁溶液地实施(最终)清洁。因此，液体的、例如碱性的或酸性的去污剂的、酶的或细菌的残余物可以被去除并且可以以唯一的设备最后实施清洁。清洁过程由此总体上得到简化。根据本技术优选规定：喷射喷嘴构造为拉伐尔喷嘴和/或构造为喷射枪的组成部分；作为调节单元的组成部分设置有阀，所述阀用于减少压缩空气的压力和/或用于减少输入管路中可选地掺有水的清洁溶液的压力和/或用于封锁第一和第二输送装置中的至少一个输送装置；所述混合单元构造用于经由第二输送装置提供无清洁溶液的水。附图说明：图1示出本技术的一种实施例。具体实施方式本技术的一种实施例在图中示出。在这里规定：设置有压缩空气源1，并且由压缩空气源1提供的压缩空气经由第一输送装置2被引导至喷射枪3。同样设置有第二输送装置4，清洁溶液经由所述第二输送装置同样被输送给喷射枪3，所述清洁溶液包括至少一个下列成分：液体的、例如碱性的或酸性的去污剂、酶、细菌。喷射枪3具有按照拉伐尔喷嘴型式构成的喷射喷嘴5。按照本技术的本实施形式，为两个输送装置2、4设置共同的调节单元6。所述共同的调节单元6构造成用于针对压差或者量差对所述两个输送装置2、4中的流体共同进行调节。可选地，调节单元6此外可以具有阀，以便减少流体的压力或者单独或共同封锁输送装置2、4。同样设置有压缩单元7，所述压缩单元配置给第二输送装置4。压缩单元7构造成用于提高在第二输送装置4中的清洁溶液的压力。第二输送装置4此外配置有混合单元8。利用混合单元8可以将水添加给清洁溶液。可选地此外可以设置：所述混合单元构造成用于封锁附加清洁溶液的添加并且因此经由例如再清洁级的第二输送装置4借助按照本技术的设备将纯净的水输送给喷射枪3中的压缩空气。就此而言，可以采用按照本技术的清洁设备首先实施利用压缩空气和清洁溶液的预清洁，并且最后使用掺杂水的压缩空气以用于清洁敏感的表面。附图标记列表1压缩空气源2第一输送装置3喷射枪4第二输送装置5喷射喷嘴6调节单元7压缩单元8混合单元本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.清洁设备，其用于清洁敏感的表面，所述清洁设备包括第一输送装置(2)，所述第一输送装置用于输送在1.5巴至14巴的压力范围中的作为运载气体的压缩空气，其中，第一输送装置(2)通到喷射喷嘴(5)中，所述喷射喷嘴具有会聚成狭窄部位的区段以及连接在该区段上的发散的区段，以及所述清洁设备包括用于输送清洁溶液的第二输送装置(4)，其特征在于，第二输送装置(4)同样通到喷射喷嘴(5)中，并且所述清洁设备包括压缩单元(7)，所述压缩单元用于将清洁溶液的压力提高到高于压缩空气压力的压力水平。

【技术特征摘要】
2017.07.12 DE 202017104149.21.清洁设备，其用于清洁敏感的表面，所述清洁设备包括第一输送装置(2)，所述第一输送装置用于输送在1.5巴至14巴的压力范围中的作为运载气体的压缩空气，其中，第一输送装置(2)通到喷射喷嘴(5)中，所述喷射喷嘴具有会聚成狭窄部位的区段以及连接在该区段上的发散的区段，以及所述清洁设备包括用于输送清洁溶液的第二输送装置(4)，其特征在于，第二输送装置(4)同样通到喷射喷嘴(5)中，并且所述清洁设备包括压缩单元(7)，所述压缩单元用于将清洁溶液的压力提高到高于压缩空气压力的压力水平。2.按照权利要求1所述的清洁设备，其特征在于，设置有调节单元(6)，所述第一输送装置(2)和第二输送装置(4)被引...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·W·基普，
申请(专利权)人：J·W·基普，
类型：新型
国别省市：德国,DE