水质调整水制造装置制造方法及图纸

一种在超纯水中添加pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂来制造水质调整水的装置，具备：贮存包含pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂的药液的药液槽(1)、将该药液槽(1)内的药液注药至超纯水的注药配管(3)、以及对注药至该超纯水的药液进行脱气处理的脱气机构(6)。在将pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂添加至超纯水中，制造作为半导体晶片的洗涤水等有用的水质调整水时，能够解决来自药液的DO的混入、因药液的发泡所致的注药不良、流量计的测定不良的问题，能够稳定地制造DO浓度低的高水质的水质调整水。

Water Quality Adjustment Water Manufacturing Device

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】水质调整水制造装置
本专利技术涉及在超纯水中添加pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂，从而制造作为半导体晶片的洗涤水等有用的水质调整水的装置。本专利技术涉及消除由pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂的药液中的溶解氧(DO)的带入、发泡所导致的问题，从而稳定地制造低DO浓度的水质调整水的装置。
技术介绍
在露出金属的半导体晶片的洗涤、清洗水工序中，有时出于抑制晶片的带电、金属腐蚀、溶解、微粒附着的目的，使酸或碱的pH调整剂、氧化剂或还原剂那样的氧化还原电位调整剂以必要最低限度的极低浓度溶解于超纯水而得到的水质调整水作为洗涤水(包含清洗水)使用(例如专利文献1)。作为该洗涤水的制造方法，从操作简便这一点出发，多采用将使pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂溶解于水而得到的药液进行注药的方法。作为药液的注药方法，有使用泵的方法、使用基于密闭容器与N2等非活性气体的加压的方法，全都在实用化中。图4是表示以往的水质调整水制造装置的系统图。药液槽1内的药液，利用注药泵2并经由注药配管3而注药至超纯水的输水配管4。符号5为流量计。对于以规定流量输水的超纯水，根据流量计5的测定值，控制注药量，由此，制造规定水质的水质调整水。如果在要注入药液的超纯水中含有DO，则在洗涤、清洗时会引起晶片材料的氧化等问题。因此，用于制造水质调整水的超纯水经充分的脱气处理，其DO浓度通常小于10μg/L。如果在超纯水中添加pH调整剂、氧化还原电位调整剂的药液，则药液所含的DO会混入到超纯水，得到的水质调整水的DO浓度比超纯水的DO浓度更为上升。根据药液有时也具有发泡性，有时会产生因发泡而使注药泵引起空气闭锁从而不能注药，或者用于控制注药量的流量计无法正确表示等问题。现有技术文献专利文献：专利文献1：日本特开2016-139766号专利公报。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种水质调整水制造装置，其解决因注药至超纯水的药液所致的DO的混入、因药液的发泡所致的注药不良、流量计的测定不良的问题。本专利技术人发现，在注药至超纯水之前，通过用脱气机构对药液进行脱气处理，能够解决上述课题。本专利技术的要旨如下。[1]：一种水质调整水制造装置，其是在超纯水中添加pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂来制造水质调整水的装置，该装置具备：贮存包含pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂的药液的药液槽、将该药液槽内的药液注药至超纯水的注药配管、以及对注药至该超纯水的药液进行脱气处理的脱气机构。[2]：在[1]的水质调整水制造装置中，前述脱气机构设置于前述注药配管，在该脱气机构的下游侧的注药配管具有注药泵和流量计。[3]：在[1]或[2]的水质调整水制造装置中，具有将利用前述脱气机构进行了脱气处理的前述药液的一部分送回至前述药液槽的送回配管。[4]：在[1]至[3]的任一个水质调整水制造装置中，前述药液作为前述pH调整剂，包含有：盐酸、醋酸、硝酸、磷酸、硫酸、氢氟酸、氨、氢氧化钠、氢氧化钾、四甲基氢氧化铵、或碳酸铵。[5]：在[1]至[4]的任一个水质调整水制造装置中，前述药液作为前述氧化还原电位调整剂，包含有：过氧化氢或硝酸。[6]：在[1]至[5]的任一个水质调整水制造装置中，前述水质调整水为半导体晶片的洗涤水或清洗水。[7]：在[1]至[6]的任一个水质调整水制造装置中，具有将前述超纯水输送至使用场所的输水配管，前述注药配管连接至该输水配管。专利技术效果根据本专利技术，在将pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂添加至超纯水，从而制造作为半导体晶片的洗涤水等有用的水质调整水时，能解决来自药液的DO的混入、因药液的发泡所致的注药不良、流量计的测定不良的问题，从而能稳定地制造DO浓度低的高水质的水质调整水。附图说明图1表示本专利技术的水质调整水制造装置的实施方式的一例的系统图。图2表示本专利技术的水质调整水制造装置的实施方式的其他例子的系统图。图3表示本专利技术的水质调整水制造装置的实施方式的另一例子的系统图。图4表示以往的水质调整水制造装置的系统图。图5表示由实施例1及比较例1得到的水质调整水的NH4OH浓度随时间变化的图表。具体实施方式以下参照图来详述说明本专利技术。图1～3是表示本专利技术的水质调整水制造装置的实施方式的一例的系统图。图1～3中，对与图4表示的部件发挥相同功能的部件赋予相同组件符号。本专利技术的水质调整水制造装置，是一种将pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂添加至超纯水中来制造水质调整水的装置，具备：贮存包含pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂的药液的药液槽1、将药液槽1内的药液注药至超纯水的注药配管3、以及对注药至超纯水的药液进行脱气处理的脱气机构6。通常，对于以规定流量输水的超纯水的输水配管4，利用注药泵2及流量计5对来自药液槽1的药液进行流量调整来注药。在图1～3的水质调整水制造装置，在注药配管3的注药泵2的上游侧设有脱气机构6。药液槽1内的药液在用脱气机构6进行脱气处理后，经由注药泵2、流量计5而注药至超纯水的输水配管4。设置脱气机构6以使注药泵2及流量计5位于脱气机构6的下游侧的注药配管3，由此能够去除药液中的DO，并且防止因药液的发泡所致的注药泵2的空气闭锁、流量计5的误动作。在图1～3中，作为脱气机构6，设有膜脱气装置，其用气体透过膜隔开液相侧与气相侧，用喷射器(ejector)、真空泵6A对气相侧抽真空从而对流通于液相侧的药液中的溶解气体进行脱气处理。脱气机构并不限于何种膜脱气装置。基于脱气机构进行的脱气的程度只要是能够得到能满足水质调整水所要求的DO浓度的低DO浓度的药液的程度即可。图2表示设有将利用脱气机构6进行了脱气处理的药液的一部分送回到药液槽1的送回配管7的例子。通过将脱气处理液的一部分送回到药液槽1，能够使药液槽1内的药液的DO浓度下降，而且，能够抑制药液槽1内的药液的气泡的产生。对利用送回配管7送回至药液槽1的脱气处理液的量没有特别限制，从不会使处理效率大幅下降，而得到基于送回的上述效果的方面，优选设为通常脱气处理液的30～50％左右。在将脱气处理液的一部分送回到药液槽1的情况下，为了去除药液中的杂质，也可以在送回配管7设置过滤器8。图3的装置中，在超纯水的输水配管4的注药点4A的下游侧，设置脱气机构9。通过在注药点4A的下游侧设置脱气机构9，在供给至输水配管4的超纯水的DO浓度高的情况下，即使是例如DO为10μg/L以上的超纯水，也能够制造低DO浓度的水质调整水。对脱气机构9而言，通过与脱气机构6共用抽真空机构，从而能够削减部件数目。在注药点4A的下游侧设置脱气机构9的情况下，就需要大型的脱气机构，因此，在超纯水的DO浓度低的情况下，优选不设置脱气机构9。在本专利技术中，注药至超纯水的药液，是使pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂溶解于超纯水而制备的药液。作为pH调整剂，举例有盐酸、醋酸、硝酸、磷酸、硫酸、氢氟酸、氨、氢氧化钠、氢氧化钾、四甲基氢氧化铵、或碳酸铵等。作为氧化还原电位调整剂，举例有过氧化氢或硝酸等。本专利技术所使用的药液，通常是以20～48重量％左右的浓度包含上述药剂的药液。将这样的药液注药至超纯水，通常可制造药剂浓度为0.1～100mg/L左右的水质调整水。作为要添加药液的超纯水，优选DO浓度低的超纯水，通常，使用DO浓度小于10μg/L、优选为小于1μg/L本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种水质调整水制造装置，其是在超纯水中添加pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂来制造水质调整水的装置，所述水质调整水制造装置的特征在于，具备：贮存包含pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂的药液的药液槽、将该药液槽内的药液注药至超纯水的注药配管、以及对注药至该超纯水的药液进行脱气处理的脱气机构。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.03.30 JP 2017-0680921.一种水质调整水制造装置，其是在超纯水中添加pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂来制造水质调整水的装置，所述水质调整水制造装置的特征在于，具备：贮存包含pH调整剂和/或氧化还原电位调整剂的药液的药液槽、将该药液槽内的药液注药至超纯水的注药配管、以及对注药至该超纯水的药液进行脱气处理的脱气机构。2.如权利要求1所述的水质调整水制造装置，其中，所述脱气机构设置于所述注药配管，在该脱气机构的下游侧的注药配管具有注药泵和流量计。3.如权利要求1或2所述的水质调整水制造装置，其中，具有将利用所述脱气机构...

【专利技术属性】
技术研发人员：正冈融，
申请(专利权)人：栗田工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP