晶核投加清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术晶核投加清洗装置包括：料仓、输送机、清洗装置、澄清水池和循环水泵，清洗装置包括：清洗仓和溢流槽，溢流槽装在清洗仓进料端，溢流槽的底端开有溢流槽出水口，清洗仓由圆柱形的上部和圆锥形的下部组成，漏斗位于在圆柱形上端，在圆锥形下端开有晶核出口，在圆锥形侧壁上开有循环水进水口和清洗水进水口；澄清水池为长方形水池，它由至少二块堰板将其隔成的至少三个清洗仓组成，在澄清水池的一端开有澄清水池进水口，在靠近澄清水池进水口的二个清洗仓的底部装有排渣管，澄清水池的另一端开有澄清水池出水口；澄清水池出水口通过循环水泵和水管与循环水进口相连，溢流槽出水口通过水管与澄清水池进水口相连，本装置结构简单操作方便。

Nucleus Adding Cleaning Device

【技术实现步骤摘要】
晶核投加清洗装置
本技术涉及污水处理领域的固体颗粒物质的清洗装置，尤其涉及一种对固体颗粒物周期性进行投加和清洗的晶核投加清洗装置。
技术介绍
目前污水处理领域有活性炭自动投加和清洗装置，尚无其他颗粒载体的自动投加和清洗装置。而在现有晶核的清洗设备中，清洗后水一般都被排掉，这样会浪费大量的水资源，不利于节能环保的要求。
技术实现思路
本技术的专利技术目的在于针对现有技术中的不足，提供一种晶核投加清洗装置，它解决了固体颗粒连续投加和清洗的问题，主要解决MAC—CAR工艺浓水处理段活性固体颗粒载体的自动清洗和投加问题。为实现上述目的，本技术采用以下技术方案：本技术的一种晶核投加清洗装置，它包括：料仓、输送机、清洗装置、澄清水池和循环水泵，其中：料仓下端的料仓出口位于输送机的一端，输送机的另一端通过漏斗将晶核送入清洗装置，清洗装置包括：清洗仓和溢流槽，溢流槽装在清洗仓进料端，溢流槽的底端开有溢流槽出水口，清洗仓由圆柱形的上部和圆锥形的下部组成，漏斗位于在清洗仓圆柱形的上端，在圆锥形的下端开有晶核出口，在圆锥形的侧壁上开有循环水进水口和清洗水进水口，清洗水进水口与自来水管道相连；澄清水池为长方形水池，它由至少二块堰板将其隔成的至少三个清洗仓组成，在澄清水池的一端开有澄清水池进水口，在靠近澄清水池进水口的二个清洗仓的底部装有排渣管，澄清水池的另一端开有澄清水池出水口；澄清水池出水口通过循环水泵和水管与循环水进口相连，溢流槽出水口通过水管与澄清水池进水口相连；本技术的一种晶核投加清洗装置，其中：所述堰板为3块，各个堰板的高度相同，它们将澄清水池隔成四个清洗仓；本技术的一种晶核投加清洗装置，其中：所述的输送机由螺旋输送辊和电机组成，位于料仓出口下端的螺旋输送辊一端装有电机，电机带动螺旋输送辊旋转，将晶核送到螺旋输送辊的另一端的漏斗中，螺旋输送辊与水平面的倾角为15°至45°，输送机由输送机支架支撑；本技术的一种晶核投加清洗装置，其中：所述清洗仓由清洗仓支架支撑；本技术的一种晶核投加清洗装置，其中：所述澄清水池由澄清水池支架支撑；本技术的一种晶核投加清洗装置，其中：所述料仓由圆柱形的上部和圆锥形的下部组成，在圆锥形的下端开有料仓出口，圆柱形的上端开有料仓进口，料仓由料仓支架支撑；本技术的一种晶核投加清洗装置，其中：所述的晶核为金刚砂或砂粒。与现有技术相比，本技术的有益效果是：结构简单，操作维护方便，降低了晶核投加和清洗的人工成本，无需使用额外的动力源，运行费用较低。本技术的晶核投加清洗装置对晶核进行自动清洗，清洗水通过澄清水池进行处理后循环利用；清洗后的晶核作为载体与石灰一起用于MAC-CAR工艺中纳滤浓水处理单元；清洗后的晶核以水为载体，经过水泵输送到下一个处理单元。附图说明图1为本技术的晶核投加清洗装置的示意图。在图1中：标号1为料仓进口；标号2为料仓；标号3为料仓出口；标号4为螺旋输送辊；标号5为清洗仓；标号6为循环水进水口；标号7为晶核出口；标号8为溢流槽；标号9为电机；标号10为清洗仓；标号11为堰板；标号12为澄清水池；标号13为漏斗；标号14为循环水泵；标号15为排渣管；标号16为料仓支架；标号17为输送机支架；标号18为溢流槽出水口；标号19为澄清水池进水口；标号20为清洗水进水口；标号21为澄清水池出水口；标号22为澄清水池支架；标号23为清洗仓支架。具体实施方式如图1所示，本技术的晶核投加清洗装置包括：料仓2、输送机、清洗装置、澄清水池12和循环水泵14，料仓2下端的料仓出口3位于输送机的一端，输送机由螺旋输送辊4和电机9组成，位于料仓出口3的螺旋输送辊4一端装有电机9，电机9带动螺旋输送辊4旋转，将晶核送到螺旋输送辊4的另一端的漏斗13中，螺旋输送辊4与水平面的倾角为15°至45°，输送机由输送机支架17支撑，螺旋输送辊4的另一端通过漏斗13将晶核送入清洗装置。清洗装置包括：清洗仓5和溢流槽8，溢流槽8装在清洗仓5进料端，溢流槽8的底端开有溢流槽出水口18，清洗仓5由圆柱形的上部和圆锥形的下部组成，漏斗13位于在清洗仓5圆柱形的上端，在圆锥形的下端开有晶核出口7，在圆锥形的侧壁上开有循环水进水口6和清洗水进水口20，清洗水进水口20与自来水管道相连，清洗仓5由清洗仓支架23支撑。澄清水池12为长方形水池，它由三块高度相同的堰板11将其隔成的四个清洗仓10组成，在澄清水池12的一端开有澄清水池进水口19，在靠近澄清水池进水口19的二个清洗仓10的底部装有排渣管15，澄清水池12的另一端开有澄清水池出水口21；澄清水池出水口21通过循环水泵14和水管与循环水进口6相连，溢流槽出水口18通过水管与澄清水池进水口19相连，澄清水池12由澄清水池支架支撑。料仓2由圆柱形的上部和圆锥形的下部组成，在圆锥形的下端开有料仓出口3，圆柱形的上端开有料仓进口1，料仓2由料仓支架16支撑。待投加的晶核固体颗粒例如：金刚砂或砂粒从料仓进口1装填到料仓2中，料仓2中的晶核通过重力从料仓出口3流出，然后通过螺旋输送辊4、电机9和漏斗13将晶核输送到清洗仓5中，同时，清洗水通过清洗进水口20和循环水进水口6进入清洗仓5，晶核通过清洗仓5清洗干净后，从晶核出口7送出，晶核清洗水通过清洗仓5上端的溢流槽8收集后，由溢流槽出水口18排出，排出的清洗水经过澄清水池进水口19进入澄清水池12中，澄清水池12设置4个清洗仓10，清洗水依次通过澄清水池12的4个清洗仓10进行逐级沉淀，然后经澄清水池出水口21、循环水泵14和管道，将水送入清洗仓5的循环水进水口6中，水在清洗仓5被重复利用，沉淀后的污染物通过靠近澄清水池进水口19的二个清洗仓10底部的排渣管15排出。以上描述是对本技术的解释，不是对技术的限定，本技术所限定的范围参见权利要求，在不违背本技术的精神的情况下，本技术可以作任何形式的修改。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶核投加清洗装置，它包括：料仓（2）、输送机、清洗装置、澄清水池（12）和循环水泵（14），其特征在于：料仓（2）下端的料仓出口（3）位于输送机的一端，输送机的另一端通过漏斗（13）将晶核送入清洗装置，清洗装置包括：清洗仓（5）和溢流槽（8），溢流槽（8）装在清洗仓（5）进料端，溢流槽（8）的底端开有溢流槽出水口（18），清洗仓（5）由圆柱形的上部和圆锥形的下部组成，漏斗（13）位于在清洗仓（5）圆柱形的上端，在圆锥形的下端开有晶核出口（7），在圆锥形的侧壁上开有循环水进水口（6）和清洗水进水口（20），清洗水进水口（20）与自来水管道相连；澄清水池（12）为长方形水池，它由至少二块堰板（11）将其隔成的至少三个沉淀池（10）组成，在澄清水池（12）的一端开有澄清水池进水口（19），在靠近澄清水池进水口（19）的二个沉淀池（10）的底部装有排渣管（15），澄清水池（12）的另一端开有澄清水池出水口（21）；澄清水池出水口（21）通过循环水泵（14）和水管与循环水进水口（6）相连，溢流槽出水口（18）通过水管与澄清水池进水口（19）相连。

【技术特征摘要】
1.一种晶核投加清洗装置，它包括：料仓（2）、输送机、清洗装置、澄清水池（12）和循环水泵（14），其特征在于：料仓（2）下端的料仓出口（3）位于输送机的一端，输送机的另一端通过漏斗（13）将晶核送入清洗装置，清洗装置包括：清洗仓（5）和溢流槽（8），溢流槽（8）装在清洗仓（5）进料端，溢流槽（8）的底端开有溢流槽出水口（18），清洗仓（5）由圆柱形的上部和圆锥形的下部组成，漏斗（13）位于在清洗仓（5）圆柱形的上端，在圆锥形的下端开有晶核出口（7），在圆锥形的侧壁上开有循环水进水口（6）和清洗水进水口（20），清洗水进水口（20）与自来水管道相连；澄清水池（12）为长方形水池，它由至少二块堰板（11）将其隔成的至少三个沉淀池（10）组成，在澄清水池（12）的一端开有澄清水池进水口（19），在靠近澄清水池进水口（19）的二个沉淀池（10）的底部装有排渣管（15），澄清水池（12）的另一端开有澄清水池出水口（21）；澄清水池出水口（21）通过循环水泵（14）和水管与循环水进水口（6）相连，溢流槽出水口（18）通过水管与澄清水池进水口（19）相连。2...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁国文，
申请(专利权)人：北京源海汇通科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11