一种省空间可翻转式曝光框架制造技术

本实用新型专利技术公开一种省空间可翻转式曝光框架，包括两个对称的浮动机构和上框，两个浮动机构的同一端均设有能够带动上框一同翻转一定角度的移框翻转机构，移框翻转机构带动上框转动至曝光室位置时、移框翻转机构与浮动机构平行。本实用新型专利技术采用翻转式结构，带动上框能够实现不同角度方位的清洁，该实用新型专利技术设计新颖、结构简单，可有效地预防底片清洁存在的死角，同时还可用放大镜检查清洁后质量以及异常处理，既方便又实用，还不占用正常过道空间，提高了PCB产品合格率及降低返工成本。

A Space-saving Flip Exposure Frame

【技术实现步骤摘要】
一种省空间可翻转式曝光框架
本技术涉及曝光机
，特别涉及一种省空间可翻转式曝光框架。
技术介绍
在全自动曝光机领域，因上框与下框空间有限，手伸进清洁底片时经常出现清洁不到位，而且也无法检查清洁质量，故而导致PCB经常出现批量性固定缺陷导致报废或返工，现今也有些框架可拉出清洁，但拉出时所占空间高达1000mm，若两条设备对称摆放时另一条设备不便操作，为了能同时拉出框架清洁只能增加过道空间来克服此问题，这些对于PCB产品及车间场所都是困扰。
技术实现思路
本技术的目的是针对现有技术的上述缺陷，提供一种省空间可翻转式曝光框架。为解决现有技术的上述缺陷，本技术提供的技术方案是：一种省空间可翻转式曝光框架，包括两个对称的浮动机构和上框，两个所述浮动机构的同一端均设有能够带动所述上框一同翻转一定角度的移框翻转机构，所述移框翻转机构带动所述上框转动至曝光室位置时、所述移框翻转机构与所述浮动机构平行，所述移框翻转机构与所述浮动机构平行时，所述上框能够水平滑动。作为本技术省空间可翻转式曝光框架的一种改进，所述移框翻转机构包括翻转臂和翻转支撑臂，所述翻转支撑臂的端部通过翻框转轴固定有一轴承，所述翻框转轴的一端与所述翻转臂连接。作为本技术省空间可翻转式曝光框架的一种改进，所述翻转支撑臂的端部还设有一弧形缺口，所述翻转臂的一端设有翻转回位限位销，所述翻转臂翻转的过程中、所述翻转回位限位销沿所述弧形缺口滑动。作为本技术省空间可翻转式曝光框架的一种改进，所述翻转支撑臂的端部还设有自锁锲，所述翻转臂回位旋转至一定位置时，所述翻转回位限位销自动卡入自锁锲内限位。作为本技术省空间可翻转式曝光框架的一种改进，翻转臂的一侧面设有用于连接所述上框的滑动连接组件。作为本技术省空间可翻转式曝光框架的一种改进，所述滑动连接组件包括滑槽，所述滑槽的两侧分别间隔设有多个第一凸轮辊轴，所述滑槽的底部间隔设有若干个第二凸轮辊轴；所述翻转臂的一侧边缘对应所述第二凸轮辊轴的位置设有缺口。作为本技术省空间可翻转式曝光框架的一种改进，所述翻转臂的一侧边缘还设有柱塞固定座，所述柱塞固定座上安装有用于限制所述上框水平拉出距离的柱塞。作为本技术省空间可翻转式曝光框架的一种改进，所述上框的两侧分别设有导轨，两条所述导轨上分别设有上框定位锲，所述导轨卡入至所述滑槽，当所述上框跟随所述翻转臂翻转至水平状态时、能够推动所述上框滑动至所述浮动机构上，所述上框从曝光室拉出至外部清洁时、所述上框定位锲会经过所述柱塞位置，所述柱塞卡入所述上框定位锲。作为本技术省空间可翻转式曝光框架的一种改进，两个所述浮动机构均包括有浮动臂，两个所述浮动臂的对应侧均设有凹陷滑台，所述凹陷滑台的两侧壁上均间隔设有若干个第三凸轮辊轴；所述上框的导轨沿所述凹陷滑台滑动。作为本技术省空间可翻转式曝光框架的一种改进，所述翻转支撑臂与所述浮动臂的连接处设有直线导轨，所述翻转臂翻转至水平状态时，所述滑槽与所述凹陷滑台对齐。作为本技术省空间可翻转式曝光框架的一种改进，所述上框的一端设有把手，所述自锁锲包括锲座和锲钩，锲钩通过转轴连接在所述锲座上，所述锲钩能够以转轴为中心旋转。与现有技术相比，本技术的优点是：本技术采用翻转式结构，带动上框能够实现不同角度方位的清洁，该技术设计新颖、结构简单，可有效地预防底片清洁存在的死角，同时还可用放大镜检查清洁后质量以及异常处理，既方便又实用，还不占用正常过道空间，提高了PCB产品合格率及降低返工成本。附图说明下面就根据附图和具体实施方式对本技术及其有益的技术效果作进一步详细的描述，其中：图1是本技术移框翻转机构翻转至水平状态的立体结构示意图。图2是本技术移框翻转机构翻转另一角度的立体结构示意图。图3是本技术单侧浮动机构和单个移框翻转机构的连接结构示意图。图4是本技术单个移框翻转机构的结构示意图。图5是单个移框翻转机构翻转至水平状态结构示意图。附图标记名称：1、浮动机构；11、浮动臂12、凹陷滑台13、第三凸轮辊轴；2、上框；21、导轨22、上框定位锲；3、移框翻转机构31、翻转臂32、翻转支撑臂33、翻框转轴34、弧形缺口35、翻转回位限位销36、自锁锲37、滑槽38、第一凸轮辊轴39、第二凸轮辊轴30、缺口301、柱塞固定座302、柱塞303、轴承361、锲座362、锲钩；4、直线导轨；5、把手；6、滑动连接组件。具体实施方式下面就根据附图和具体实施例对本技术作进一步描述，但本技术的实施方式不局限于此。如图1～图5所示，一种省空间可翻转式曝光框架，包括两个对称的浮动机构1和上框2，两个浮动机构1的同一端均设有能够带动上框2一同翻转一定角度的移框翻转机构3，移框翻转机构3带动上框2转动至曝光室位置时、移框翻转机构3与浮动机构1平行。移框翻转机构3的翻转方向可以根据实际的需要顺时针翻转或逆时针翻转。上框2翻转至水平状态后，上框2能够水平推入浮动机构1上，移框翻转机构3与浮动机构1平行时，上框2能够水平滑动。优选的，移框翻转机构3包括翻转臂31和翻转支撑臂32，翻转支撑臂32的端部通过翻框转轴33固定有一轴承303，翻框转轴33的一端与翻转臂31连接。优选的，翻转支撑臂32的端部还设有一弧形缺口34，翻转臂31的一端设有翻转回位限位销35，翻转臂31翻转的过程中、翻转回位限位销35沿弧形缺口34滑动。优选的，翻转支撑臂32的端部还设有自锁锲36，翻转臂31回位旋转至一定位置时，翻转回位限位销35自动卡入自锁锲36内限位。优选的，翻转臂31的一侧面设有用于连接上框2的滑动连接组件6，滑动连接组件6包括滑槽37，滑槽37的两侧分别间隔设有多个第一凸轮辊轴38，滑槽37位于两排第一凸轮辊轴38之间，滑槽37的底部间隔设有若干个第二凸轮辊轴39，翻转臂31的一侧边缘对应第二凸轮辊轴39的位置设有缺口30。翻转臂31翻转至水平状态时，缺口30刚好对应翻转支撑臂32上的一个定位柱304。上框2的两侧分别插入滑槽37内，第二凸轮辊轴39和第一凸轮辊轴38能够提供上框2滑动导向的作用。优选的，翻转臂31的一侧边缘还设有柱塞固定座301，柱塞固定座301上安装有用于限制上框2水平拉出距离的柱塞302。优选的，上框2的两侧分别设有导轨21，两条导轨21上分别设有上框定位锲22，导轨21卡入至滑槽37，当上框2跟随翻转臂31翻转至水平状态时、能够推动上框2滑动至浮动机构1上，上框2从曝光室拉出至外部清洁时、上框定位锲22会经过柱塞302位置，柱塞302卡入上框定位锲22。优选的，两个浮动机构1均包括有浮动臂11，两个浮动臂11的对应侧均设有凹陷滑台12，凹陷滑台12的两侧壁上均间隔设有若干个第三凸轮辊轴13；上框2的导轨21沿凹陷滑台12滑动。优选的，翻转支撑臂32与浮动臂11的连接处设有直线导轨4，翻转臂31翻转至水平状态时，滑槽37与凹陷滑台12对齐。优选的，上框2的一端设有把手5，自锁锲36包括锲座361和锲钩362，锲钩362通过转轴连接在锲座361上，锲钩362能够以转轴为中心旋转。锲钩362端部设有一斜边，翻转臂31翻转回位至一定位置时，翻转回位限位销35从斜边滑入至锲钩362内限位。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种省空间可翻转式曝光框架，包括两个对称的浮动机构和上框，其特征在于，两个所述浮动机构的同一端均设有能够带动所述上框一同翻转一定角度的移框翻转机构，所述移框翻转机构带动所述上框转动至曝光室位置时、所述移框翻转机构与所述浮动机构平行，所述移框翻转机构与所述浮动机构平行时，所述上框能够水平滑动。

【技术特征摘要】
1.一种省空间可翻转式曝光框架，包括两个对称的浮动机构和上框，其特征在于，两个所述浮动机构的同一端均设有能够带动所述上框一同翻转一定角度的移框翻转机构，所述移框翻转机构带动所述上框转动至曝光室位置时、所述移框翻转机构与所述浮动机构平行，所述移框翻转机构与所述浮动机构平行时，所述上框能够水平滑动。2.根据权利要求1所述的省空间可翻转式曝光框架，其特征在于，所述移框翻转机构包括翻转臂和翻转支撑臂，所述翻转支撑臂的端部通过翻框转轴固定有一轴承，所述翻框转轴的一端与所述翻转臂连接。3.根据权利要求2所述的省空间可翻转式曝光框架，其特征在于，所述翻转支撑臂的端部还设有一弧形缺口，所述翻转臂的一端设有翻转回位限位销，所述翻转臂翻转的过程中、所述翻转回位限位销沿所述弧形缺口滑动。4.根据权利要求3所述的省空间可翻转式曝光框架，其特征在于，所述翻转支撑臂的端部还设有自锁锲，所述翻转臂回位旋转至一定位置时，所述翻转回位限位销自动卡入自锁锲内限位。5.根据权利要求4所述的省空间可翻转式曝光框架，其特征在于，所述翻转臂的一侧面设有用于连接所述上框的滑动连接组件。6.根据权利要求5所述的省空间可翻转式曝光框架，其特征在于，所述滑动连接组件包括滑槽，所述滑槽...

【专利技术属性】
技术研发人员：李诚，邱田生，陈振才，
申请(专利权)人：东莞市多普技术研发有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44