一种正畸X线头影测量相对线距分析法制造技术

本发明专利技术公开了一种正畸X线头影测量相对线距分析法，该分析方法包含以下步骤：步骤1：在X线头颅定位侧位照相所得影像上选取标志点及基准平面，并仅进行线距测量；步骤2：计算所得线距与身高或全颅底长的百分比，得到相对线距。本发明专利技术能够最大程度消除个体差异对X线头影测量长度指标的影响，使相关长度指标更准确地反映患者的临床情况，更准确地指导正畸及正颌诊治过程。

A Relative Line Distance Analysis Method for Cephalometry of Orthodontic X-ray

【技术实现步骤摘要】
一种正畸X线头影测量相对线距分析法
本专利技术涉及正畸X线头影测量
，具体涉及一种正畸X线头影测量相对线距分析法
技术介绍
X线投影测量分析是目前正畸诊治过程中必不可少的一个步骤，主要用于帮助正畸及正颌外科医生完成对患者牙列状况、面型、骨型及生长型的分析和预测，辅助诊断和矫治设计。根据不同的治疗理念和研究内容，头影测量的分析方法种类繁多。目前临床常用的有：Downs分析法：以眶耳平面为基准平面，测量了10项测量指标，包括骨骼间关系、牙牙合与骨骼间关系，以辅助诊断治疗；Tweed三角分析法：主要测量由眼耳平面、下颌平面、下中切牙长轴所组成的代表面部形态结构的颌面三角形的三角，用于评估矫治效果；Wylie分析法：是对牙颌面形态结构深度及高度的测量，是以线距计测为主的分析法；Coben分析法：一种适用于形态及生长分析的线距比例分析法，常用于形态诊断及生长分析：Wits分析法：一种线距测量分析法，用于评估上下颌骨的矢状向相互关系；神山分析法：主要用于鉴别是否存在功能性错牙合的一种分析法；Ricketts分析法：对上下牙间关系、颌骨间关系、牙与颌骨的关系、口唇位置、颌面关系及内部结构的相互关系进行综合性研究的分析法；McNamara分析法：采用鼻根点垂线作为参考线以分析上颌、下颌及上切牙前后位置。但是，上述现有的X线投影测量分析法无法消除个体差异对X线头影测量长度指标的影响，无法准确地了解患者牙颌、颅面的结构。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种正畸X线头影测量相对线距分析法，以最大程度消除个体差异对X线头影测量长度指标的影响，使相关长度指标更准确地反映患者的临床情况，更准确地指导正畸及正颌诊治过程。为达到上述目的，本专利技术提供了一种正畸X线头影测量相对线距分析法，其包含以下步骤：步骤1：在X线头颅定位侧位照相所得影像上选取标志点及基准平面，并仅进行线距测量；步骤2：计算所得线距相对于身高的百分比，得到相对线距。上述的正畸X线头影测量相对线距分析法，其中，步骤1中，所述标志点包括：颅底点、耳点、蝶鞍中心点、鼻根点、眶点、翼上颌裂点、前鼻棘点、后鼻棘点、上牙槽座点、颏前点、颏顶点、颏下点、下颌角点、髁顶点、上颌中切牙点、下颌中切牙点、上颌第一磨牙点及下颌第一磨牙点。上述的正畸X线头影测量相对线距分析法，其中，步骤1中，所述基准平面包括：由所述眶点和所述耳点连线构成的眶耳平面；由所述下颌角点和所述颏顶点连线构成的下颌平面；由所述前鼻棘点和所述后鼻棘点连线构成的腭平面。上述的正畸X线头影测量相对线距分析法，其中，步骤1中，测量以下线距：通过颅底点和鼻根点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到全颅底长；通过蝶鞍中心点和鼻根点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到前颅底长；通过颅底点和上牙槽座点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到中面部深度；通过颅底点和蝶鞍中心点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到颅底点-蝶鞍中心点；通过翼上颌裂点和蝶鞍中心点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到蝶鞍中心点-翼上颌裂点；通过翼上颌裂点和上牙槽座点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到翼上颌裂点-上牙槽座点；通过蝶鞍中心点和上牙槽座点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到蝶鞍中心点-上牙槽座点；通过翼上颌裂点和前鼻棘点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到上颌长度；通过髁顶点和上牙槽座点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到髁顶点-上牙槽座点；通过颅底点和颏前点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到下面部深度；通过测量下颌角点和颏下点间的距离得到下颌角点-颏下点；通过颏前点向下颌平面作垂线，测量垂足与下颌角点间的距离得到下颌角点-颏前点；通过髁顶点和颏顶点向下颌平面作垂线，测量两垂足间的距离得到髁顶点-颏顶点；通过颏顶点向下颌平面作垂线，测量垂足与下颌角点间的距离得到下颌角点-颏顶点；通过髁顶点和颏前点向下颌平面作垂线，测量两垂足间的距离得到下颌长度；通过鼻根点和颏下点作眶耳平面的平行线，测量两平行线间的距离得到全面高；通过鼻根点和前鼻棘点作眶耳平面的平行线，测量两平行线间的距离得到上面高；通过前鼻棘点和颏下点作眶耳平面的平行线，测量两平行线间的距离得到下面高；通过鼻根点和下颌角点作眶耳平面的平行线，测量两平行线之间的距离得到后面高；通过髁顶点和下颌角点作眶耳平面的平行线，测量两平行线之间的距离得到髁顶点-下颌角点；通过蝶鞍中心点和下颌角点作眶耳平面的平行线，测量两平行线之间的距离得到蝶鞍中心点-下颌角点；通过测量上颌中切牙点到腭平面的垂直距离得到上颌中切牙点-腭平面；通过测量下颌中切牙点到下颌平面的垂直距离得到下颌中切牙点-下颌平面；通过测量上颌第一磨牙点到腭平面的垂直距离得到上颌第一磨牙点-腭平面；通过测量下颌第一磨牙点到下颌平面的垂直距离得到下颌第一磨牙点-下颌平面。上述的正畸X线头影测量相对线距分析法，其中，步骤2中，依据身高长，计算如下相对线距：全颅底长/身高％；前颅底长/身高％；中面部深度/身高％；颅底点-蝶鞍中心点/身高％；蝶鞍中心点-翼上颌裂点/身高％；翼上颌裂点-上牙槽座点/身高％；蝶鞍中心点-上牙槽座点/身高％；上颌长度/身高％；髁顶点-上牙槽座点/身高％；下面部深度/身高％；下颌角点-颏下点/身高％；下颌角点-颏前点/身高％；髁顶点-颏顶点/身高％；下颌角点-颏顶点/身高％；下颌长度/身高％；全面高/身高％；上面高/身高％；下面高/身高％；后面高/身高％；髁顶点-下颌角点/身高％；蝶鞍中心点-下颌角点/身高％；切牙点-腭平面/身高％；下颌中切牙点-下颌平面/身高％；上颌第一磨牙点-腭平面/身高％；下颌第一磨牙点-下颌平面/身高％。本专利技术还提供了另一种正畸X线头影测量相对线距分析法，其包含以下步骤：步骤1：在X线头颅定位侧位照相所得影像上选取标志点及基准平面，并仅进行线距测量；步骤2：计算所得线距相对于全颅底长的百分比，得到相对线距。上述的正畸X线头影测量相对线距分析法，其中，步骤1中，所述标志点包括：颅底点、耳点、蝶鞍中心点、鼻根点、眶点、翼上颌裂点、前鼻棘点、后鼻棘点、上牙槽座点、颏前点、颏顶点、颏下点、下颌角点、髁顶点、上颌中切牙点、下颌中切牙点、上颌第一磨牙点及下颌第一磨牙点。上述的正畸X线头影测量相对线距分析法，其中，步骤1中，所述基准平面包括：由所述眶点和所述耳点连线构成的眶耳平面；由所述下颌角点和所述颏顶点连线构成的下颌平面；由所述前鼻棘点和所述后鼻棘点连线构成的腭平面。上述的正畸X线头影测量相对线距分析法，其中，步骤1中，测量以下线距：通过颅底点和鼻根点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到全颅底长；通过蝶鞍中心点和鼻根点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到前颅底长；通过颅底点和上牙槽座点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到中面部深度；通过颅底点和蝶鞍中心点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到颅底点-蝶鞍中心点；通过翼上颌裂点和蝶鞍中心点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到蝶鞍中心点-翼上颌裂点；通过翼上颌裂点和上牙槽座点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到翼上颌裂点-上牙槽座点；通过蝶鞍中心点和上牙槽座点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种正畸X线头影测量相对线距分析法，其特征在于，包含以下步骤：步骤1：在X线头颅定位侧位照相所得影像上选取标志点及基准平面，并仅进行线距测量；步骤2：计算所得线距相对于身高的百分比，得到相对线距。

【技术特征摘要】
1.一种正畸X线头影测量相对线距分析法，其特征在于，包含以下步骤：步骤1：在X线头颅定位侧位照相所得影像上选取标志点及基准平面，并仅进行线距测量；步骤2：计算所得线距相对于身高的百分比，得到相对线距。2.如权利要求1所述的正畸X线头影测量相对线距分析法，其特征在于，步骤1中，所述标志点包括：颅底点、耳点、蝶鞍中心点、鼻根点、眶点、翼上颌裂点、前鼻棘点、后鼻棘点、上牙槽座点、颏前点、颏顶点、颏下点、下颌角点、髁顶点、上颌中切牙点、下颌中切牙点、上颌第一磨牙点及下颌第一磨牙点。3.如权利要求2所述的正畸X线头影测量相对线距分析法，其特征在于，步骤1中，所述基准平面包括：由所述眶点和所述耳点连线构成的眶耳平面；由所述下颌角点和所述颏顶点连线构成的下颌平面；由所述前鼻棘点和所述后鼻棘点连线构成的腭平面。4.如权利要求3所述的正畸X线头影测量相对线距分析法，其特征在于，步骤1中，测量以下线距：通过颅底点和鼻根点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到全颅底长；通过蝶鞍中心点和鼻根点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到前颅底长；通过颅底点和上牙槽座点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到中面部深度；通过颅底点和蝶鞍中心点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到颅底点-蝶鞍中心点；通过翼上颌裂点和蝶鞍中心点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到蝶鞍中心点-翼上颌裂点；通过翼上颌裂点和上牙槽座点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到翼上颌裂点-上牙槽座点；通过蝶鞍中心点和上牙槽座点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到蝶鞍中心点-上牙槽座点；通过翼上颌裂点和前鼻棘点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到上颌长度；通过髁顶点和上牙槽座点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到髁顶点-上牙槽座点；通过颅底点和颏前点向眶耳平面作垂线，测量两垂足间的距离得到下面部深度；通过测量下颌角点和颏下点间的距离得到下颌角点-颏下点；通过颏前点向下颌平面作垂线，测量垂足与下颌角点间的距离得到下颌角点-颏前点；通过髁顶点和颏顶点向下颌平面作垂线，测量两垂足间的距离得到髁顶点-颏顶点；通过颏顶点向下颌平面作垂线，测量垂足与下颌角点间的距离得到下颌角点-颏顶点；通过髁顶点和颏前点向下颌平面作垂线，测量两垂足间的距离得到下颌长度；通过鼻根点和颏下点作眶耳平面的平行线，测量两平行线间的距离得到全面高；通过鼻根点和前鼻棘点作眶耳平面的平行线，测量两平行线间的距离得到上面高；通过前鼻棘点和颏下点作眶耳平面的平行线，测量两平行线间的距离得到下面高；通过鼻根点和下颌角点作眶耳平面的平行线，测量两平行线之间的距离得到后面高；通过髁顶点和下颌角点作眶耳平面的平行线，测量两平行线之间的距离得到髁顶点-下颌角点；通过蝶鞍中心点和下颌角点作眶耳平面的平行线，测量两平行线之间的距离得到蝶鞍中心点-下颌角点；通过测量上颌中切牙点到腭平面的垂直距离得到上颌中切牙点-腭平面；通过测量下颌中切牙点到下颌平面的垂直距离得到下颌中切牙点-下颌平面；通过测量上颌第一磨牙点到腭平面的垂直距离得到上颌第一磨牙点-腭平面；通过测量下颌第一磨牙点到下颌平面的垂直距离得到下颌第一磨牙点-下颌平面。5.如权利要求4所述的正畸X线头影测量相对线距分析法，其特征在于，步骤2中，依据身高，计算如下相对线距：全颅底长/身高％；前颅底长/身高％；中面部深度/身高％；颅底点-蝶鞍中心点/身高％；蝶鞍中心点-翼上颌裂点/身高％；翼上颌裂点-上牙槽座点/身高％；蝶鞍中心点-上牙槽座点/身高％；上颌长度/身高％；髁顶点-上牙槽座点/身高％；下面部深度/身高％；下颌角点-颏下点/身高％；下颌角点-颏前点/身高％；髁顶点-颏顶点/身高％；下颌角点-颏顶点/身高％；下颌长度/身高％；全面高/身高％；上面高/身高％；下面高/身高％；后面高/身高％；髁顶点-下颌角点/身高％；蝶鞍中心点-下颌角点/身高％；切牙点-腭平面/身高％；下颌中切牙点-下颌平面/身高％；上颌第一磨牙点-腭平面/身高％；下颌第一磨牙点-下颌平面/身高％。6.一种正畸X线头影测量相对线距分析法，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈昱，刘加强，孙仪庭，王天鸽，林怡君，周志捷，
申请(专利权)人：上海交通大学医学院附属第九人民医院，
类型：发明
国别省市：上海,31