【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】多维成像传感器和包含多维成像传感器的成像系统的基于状态的操作
实施例涉及使用传感器捕获图像的系统和方法。
技术介绍
X射线成像系统通常包含用于检测已经穿过感兴趣对象或结构的X射线辐射的传感器。例如,在牙科应用中,口腔内传感器可以定位在患者的口腔中。X射线辐射指向感兴趣对象且朝向传感器。处理来自口腔内传感器的数据输出以生成感兴趣对象的X射线图像,例如一个或多个牙齿或其它牙齿结构。
技术实现思路
在一些情况下,多维传感器并入到口腔内X射线传感器(有时被称为“成像传感器”)中。所述多维传感器可以包含例如三维加速计、三维陀螺仪传感器和三维磁力计,以提供对于成像传感器的九维位置和移动信息。在一些情况下,还可以将额外或替代传感器并入到成像传感器中,包含例如温度传感器、电流/电压传感器或监测电路,以及气压传感器。除其它之外,配备有多维传感器的成像传感器可以用于确定成像传感器何时与X射线源和待成像的牙齿结构正确对准。另外,由多维传感器提供的信息可以由成像系统使用来确定何时装备成像传感器,以确定成像传感器的“健康状况”,并且在一些实现方式中,何时将成像传感器置于“低功率”模式。在一个实施例中,本专利技术提供一种用于操作成像传感器的方法,所述成像传感器包含多维传感器。电子处理器接收来自所述多维传感器的输出,并且响应于所述电子处理器基于来自所述多维传感器的所述输出确定满足第一状态转变标准而将所述成像传感器从第一操作状态转变为第二操作状态。在另一实施例中,本专利技术提供一种用于操作成像传感器的方法,所述成像传感器包含多维传感器。电子处理器以低功率状态操作所述成像传感器。当以所述低功率 ...
【技术保护点】
1.一种用于操作成像传感器的方法,所述成像传感器包含多维传感器,所述方法包括:由电子处理器接收来自所述成像传感器的所述多维传感器的输出;以及由所述电子处理器响应于所述电子处理器基于来自所述多维传感器的所述输出确定满足第一状态转变标准而将所述成像传感器从第一操作状态转变为第二操作状态。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.09.14 US 15/265,7531.一种用于操作成像传感器的方法,所述成像传感器包含多维传感器,所述方法包括:由电子处理器接收来自所述成像传感器的所述多维传感器的输出;以及由所述电子处理器响应于所述电子处理器基于来自所述多维传感器的所述输出确定满足第一状态转变标准而将所述成像传感器从第一操作状态转变为第二操作状态。2.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括由所述电子处理器响应于所述电子处理器基于来自所述多维传感器的所述输出确定满足第二状态转变标准而将所述成像传感器从所述第二操作状态转变为第三操作状态。3.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括由所述电子处理器以低功率状态操作所述成像传感器,其中当以所述低功率状态操作时所述成像传感器不捕获图像数据,并且其中将所述成像传感器从所述第一操作状态转变为所述第二操作状态包含将所述成像传感器从所述低功率状态转变为就绪状态。4.根据权利要求3所述的方法,其进一步包括:由所述电子处理器响应于所述电子处理器基于来自所述多维传感器的所述输出确定满足第二状态转变标准而将所述成像传感器从所述就绪状态转变为已装备状态;以及仅当所述成像传感器以所述已装备状态操作时才捕获图像数据。5.根据权利要求4所述的方法,其中,所述电子处理器不能基于来自所述多维传感器的所述输出直接从所述低功率状态转变为所述已装备状态。6.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括在以所述就绪状态或所述已装备状态操作时基于来自所述多维传感器的输出监测所述成像传感器的移动和定向,来自所述多维传感器的所述输出包含来自所述多维传感器的加速计的指示所述成像传感器的三维加速度的输出来自所述多维传感器的陀螺仪传感器的指示所述成像传感器的三维定向的输出,以及来自所述多维传感器的磁力计的指示所述成像传感器的三维磁场的输出。7.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括由所述电子处理器执行一个或多个错误条件检查例程以基于从所述多维传感器接收的所述输出来确定是否存在错误条件。8.根据权利要求7所述的方法,其进一步包括由用户界面输出指示所述电子处理器检测到的所述错误条件的通知,其中,所述通知包含用于缓解检测到的错误条件的指令。9.根据权利要求8所述的方法,其中,由所述用户界面输出所述通知包含在图形用户界面上显示基于文本的通知。10.根据权利要求7所述的方法,其中,由所述电子处理器执行所述一个或多个错误条件检查例程包含:基于来自所述多维传感器的电压监测电路的输出检测提供给所述成像传感器的电功率的电压,以及当检测到的电压超过第一电压阈值或低于第二电压阈值时,确定存在错误条件,所述第二电压阈值低于所述第一电压阈值。11.根据权利要求7所述的方法,其中,由所述电子处理器执行所述一个或多个错误条件检查例程包含:基于来自所述多维传感器的电流监测电路的输出检测提供给所述成像传感器的所述电功率的电流,以及当所述电流超过第一电流阈值或低于第二电流阈值时,确定存在错误条件,所述第二电流阈值低于所述第一电流阈值。12.根据权利要求7所述的方法,其中,由所述电子处理器执行所述一个或多个错误条件检查例程包含:基于来自所述多维传感器的温度传感器的输出检测所述成像传感器的温度,以及当检测到的温度超过温度阈值时或当所述检测到的温度的变化率超过温度变化率阈值时确定存在错误条件。13.根据权利要求7所述的方法,其中,由所述电子处理器执行一个或多个错误条件检查例程包含:基于来自所述多维传感器的电压/电流监测电路的输出确定是否存在电压错误条件;基于来自所述多维传感器的所述电压/电流监测电路的输出确定是否存在电流错误条件;以及基于来自所述多维传感器的温度传感器的输出确定是否存在温度错误条件。14.根据权利要求13所述的方法,其中,由所述电子处理器执行所述一个或多个错误条件检查例程进一步包含依序执行以下动作:确定是否存在所述电压错误条件、确定是否存在所述电流错误条件,以及确定是否存在所述温度错误条件,其中,所述电子处理器仅在确定不存在所述电压错误条件之后执行确定是否存在所述电流错误条件的动作,并且其中,所述电子处理器仅在确定所述电压错误条件和所述电流错误条件均不存在之后执行确定是否存在所述温度错误条件的动作。15.根据权利要求7所述的方法,其进一步包括将所述成像传感器选择性地联接到成像系统控制器计算机,所述成像系统控制器计算机包含所述电子处理器,并且其中,由所述电子处理器执行所述一个或多个错误条件检查例程包含:响应于将所述成像传感器选择性地联接到所述成像系统控制器计算机,执行所述一个或多个错误条件检查例程。16.根据权利要求7所述的方法,其中,由所述电子处理器执行所述一个或多个错误条件检查例程包含:响应于由所述成像传感器捕获所定义数目个图像,执行所述一个或多个错误条件检查例程。17.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括:由所述电子处理器通过以下操作检测可能的损坏影响基于来自所述多维传感器的加速计的输出确定加速度的量值,以及当所述加速度的所述量值超过加速度阈值时,确定所述可能的损坏影响已发生;以及响应于确定已发生所述可能的损坏影响,在图形用户界面上输出潜在的损坏影响通知,从而指示用户视觉上检验所述成像传感器。18.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括:由所述电子处理器基于来自所述多维传感器的气压传感器的输出确定所述成像传感器的外壳内的气压;当检测到的气压超过气压阈值时,确定已发生由于所述成像传感器的所述外壳上的咬合压力引起的可能损坏;以及响应于确定已发生由于咬合压力引起的所述可能的损坏,在图形用户界面上输出可能的咬合数据通知,从而指示用户视觉上检验所述成像传感器。19.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括:将所述成像传感器收纳在成像传感器存储隔室中以进行存储,其中,永磁体位于所述成像传感器存储隔室近侧,在所述成像传感器存储隔室内生成具有已知量值和向量方向的磁场;以及通过以下操作确定所述成像传感器是否置于所述成像传感器存储隔室中基于来自所述多维传感器的磁力计的输出,检测所述成像传感器上的磁场,由所述电子处理器确定所述磁场的量值和向量方向,以及将检测到的磁场的所确定量值和所确定向量方向与所述成像传感器存储隔室内的所述永磁体生成的已知量值和向量方向进行比较,其中,响应于所述电子处理器基于来自所述多维传感器的所述输出确定满足所述第一状态转变标准而将所述成像传感器从所述第一操作状态转变为所述第二操作状态包含:响应于确定所述成像传感器已置于所述成像传感器存储隔室中,将所述成像传感器从就绪状态转变为低功率状态。20.根据权利要求19所述的方法,其进一步包括响应于所述电子处理器基于来自所述多维传感器的所述磁力计的所述输出确定已从所述成像传感器存储隔室移除所述成像传感器,将所述成像传感器从所述低功率状态转变为所述就绪状态。21.根据权利要求20所述的方法,其进一步包括在先前确定所述成像传感器已置于所述成像传感器存储隔室中之后,由所述电子处理器基于所述多维传感器的所述磁力计的所述输出确定所述检测到的磁场的所述所确定量值和所述所确定向量方向不再匹配所述成像传感器存储隔室内的所述永磁体生成的所述已知量值和向量方向。22.根...
【专利技术属性】
技术研发人员:斯科特·大卫·克拉维茨,列昂尼德·哈图茨基,詹姆斯·保罗·弗雷里奇斯,阿德里安·大卫·弗伦奇,凯尔·艾伦·皮克斯顿,海因·洛伊延斯,弗兰克·波尔德戴克,赫尔穆特·罗斯纳,
申请(专利权)人:登塔尔图像科技公司,泰拉丁达萨有限公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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