一种填充虚拟图案的方法技术

本发明专利技术提供一种填充虚拟图案的方法，包括以下步骤：提供一待填充虚拟图案的版图；将所述待填充虚拟图案的版图虚拟划分为多个单元格待填充区；以及根据GDS文件对所述单元格待填充区填充虚拟图案。本发明专利技术通过将待填充虚拟图案的版图虚拟划分为多个单元格待填充区，使得将所述单元格待填充区需要填充的虚拟图案针对性的填充到其中，从而在填充虚拟图案之后，产生的GDS文件所占的存储空间较小。另外，在每个所述GDS文件中，具有与其对应的所述单元格待填充区需要填充的所有虚拟图案，使得每个GDS文件可以对至少一个单元格待填充区填充所有的虚拟图案。

A Method of Filling Virtual Patterns

【技术实现步骤摘要】
一种填充虚拟图案的方法
本专利技术涉及集成电路工艺，特别是涉及一种填充虚拟图案的方法。
技术介绍
在集成电路工艺中，因晶片中图案密度的不同，会发生图案效应(patterneffect)，即为众所周知的微负荷效应(micro-loadingeffect)。微负荷效应是有关同时于较高密度图案与较低密度图案上进行曝光、蚀刻、和/或抛光时所发生的现象。由于薄膜上不同位置间在曝光/蚀刻/抛光速率上的差异，由曝光/蚀刻/抛光所产生的反应量会变得局部密集或稀疏，并且在曝光后造成蚀刻/抛光速率或图案尺寸上的不均匀。有效图案的密度差异过大可能造成显著且不良的效应，例如图案尺寸误差及厚度变异等。为了抵消此效应，发展了一种称为虚拟填充(dummyinsertion)的布局设计，在虚拟填充期间，调整电路布局并将虚拟图案填充到具有低图案密度的位置。虚拟图案的填充有助于在晶片上达到均匀的有效图案密度(effectpatterndensity)，因而避免了图案效应问题的发生。通常，在完成集成电路的设计后，会发生图形数据系统文件(graphicdatasystem，GDS)，其为包括集成电路布局的二进制文件(bin本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种填充虚拟图案的方法，其特征在于，包括以下步骤：提供一待填充虚拟图案的版图；将所述待填充虚拟图案的版图虚拟划分为多个单元格待填充区；以及根据GDS文件对所述单元格待填充区填充虚拟图案。

【技术特征摘要】
1.一种填充虚拟图案的方法，其特征在于，包括以下步骤：提供一待填充虚拟图案的版图；将所述待填充虚拟图案的版图虚拟划分为多个单元格待填充区；以及根据GDS文件对所述单元格待填充区填充虚拟图案。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在每个所述GDS文件中，具有与其对应的所述单元格待填充区需要填充的所有虚拟图案。3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述单元格待填充区需要填充的虚拟图案包括有源区虚拟图案、多晶虚拟图案、第一金属虚拟图案、第二金属虚拟图案，第n金属虚拟图案；其中，n≥1，且n为正整数。4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，根据GDS文件对所述单元格待填充区填充虚拟图案包括：建立GDS文件数据库，所述GDS文件包括虚拟图案的组合数为2n+2-1种；根据每个所述单元格待填充区需要填充虚拟图案，从所述GDS文件数据库中将包括需要填充...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹云，
申请(专利权)人：上海华虹宏力半导体制造有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31