转印方法和转印装置制造方法及图纸

一种转印方法以及转印装置。转印方法包括：将原始衬底(110)上形成的多个器件(101)转移至转移基板(210)；获取转移基板(210)上的多个器件(101)所在位置的第一位置信息(201)；获取目标基板(300)上待转移器件(101)对应位置的第二位置信息(301)；比较第一位置信息(201)与第二位置信息(301)以得到记载第一转印位置的第一目标位置信息；以及将转移基板(210)与目标基板(300)对位，并根据第一目标位置信息(302)对转移基板(210)上的与第一转印位置对应的至少部分器件(101)同时进行定点激光照射以将至少部分器件(101)从转移基板(210)转移到目标基板(300)。该转印方法可以将微纳器件大量快速的转移到目标基板上，不仅可以降低制作成本，还可以根据需求准确的放置微纳器件在目标基板上的指定位置，从而加快显示面板的产业化进程。

Transfer method and device

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】转印方法和转印装置
本公开至少一个实施例涉及一种转印方法和转印装置。
技术介绍
随着物联网技术的发展，显示器件与微纳器件的集成是未来的发展趋势。在小尺寸的微纳器件与显示器件的集成过程中，需要将大量的微纳器件精确的转移到显示器件的指定位置。
技术实现思路
本公开的至少一实施例提供一种转印方法和转印装置。本公开的至少一实施例提供一种转印方法，包括：将原始衬底上形成的多个器件转移至转移基板；获取所述转移基板上的所述多个器件所在位置的第一位置信息；获取目标基板上待转移器件对应位置的第二位置信息；比较所述第一位置信息与所述第二位置信息以得到记载第一转印位置的第一目标位置信息；以及将所述转移基板与所述目标基板对位，并根据所述第一目标位置信息对所述转移基板上的与所述第一转印位置对应的至少部分器件同时进行定点激光照射以将所述至少部分器件从所述转移基板转移到所述目标基板上。例如，进行定点激光照射包括：将所述第一目标位置信息输入具有空间光调制部件的激光印刷器中，以使所述空间光调制部件调制所述激光印刷器对所述转移基板上的与所述第一转印位置对应的至少部分器件同时进行激光照射。例如，比较所述第一位置信息与所述第二位置信息以得到所述第一目标位置信息包括：如果所述第一位置信息包括所述第二位置信息中记载的全部位置，则所述第一目标位置信息为所述第二位置信息。例如，所述第一位置信息包括多个所述第二位置信息记载的全部位置，多个所述第一目标位置信息为多个所述第二位置信息，所述转移基板被配置为与多个所述目标基板分别进行对位，然后根据多个所述第一目标位置信息将所述转移基板上的器件分别向多个所述目标基板转移。例如，所述第一位置信息包括多个子位置信息，比较所述第一位置信息与所述第二位置信息以得到所述第一目标位置信息还包括：如果所述多个子位置信息中的第一子位置信息仅包括所述第二位置信息中记载的部分位置，将所述第二位置信息划分为第一子位置信息涵盖的第一信息区和包括被第一子位置信息遗漏的位置信息的第二信息区，所述第一目标位置信息为所述第一信息区的位置信息。例如，转印方法还包括：比较所述多个子位置信息中的第二子位置信息与所述第二信息区中的位置信息以得到记载第二转印位置的第二目标位置信息，其中，如果所述第二子位置信息包括所述第二信息区中记载的全部位置，则所述第二信息区中的位置信息为所述第二目标位置信息；根据所述第二目标位置信息，对所述转移基板上的与所述第二转印位置对应的至少部分器件同时进行定点激光照射。例如，获取所述第一位置信息包括：对所述转移基板进行光学扫描以获得所述多个器件在所述转移基板上的位置信息。例如，所述激光印刷器的激光脉冲开启时间处于所述空间光调制部件的开启时间内。例如，所述转移基板包括层叠设置的透明材料层以及粘附层，所述器件位于所述粘附层远离所述透明材料层的一侧。例如，所述目标基板用于放置所述器件的一侧设置有缓冲层，所述缓冲层在所述目标基板上的正投影与所述器件在所述目标基板上的正投影没有交叠。例如，形成所述器件之前包括：在所述原始衬底上形成牺牲层，且对所述牺牲层图案化以形成多个彼此分隔的牺牲层块；形成所述器件包括：在所述牺牲层块远离所述原始衬底的一侧形成用于形成所述器件的材料层，所述材料层包括位于所述牺牲层块上的部分以及相邻所述牺牲层块之间的间隔的部分；对所述材料层图案化以形成位于所述牺牲层块上的所述器件以及连接相邻的两个器件的连接部，所述连接部包括位于所述牺牲层块上的部分以及相邻所述牺牲层块之间的间隔的部分；去除所述牺牲层。例如，形成所述器件包括：在所述原始衬底上形成牺牲层；在所述牺牲层远离所述原始衬底的一侧形成所述器件，形成所述器件以后包括：图案化所述牺牲层以使所述牺牲层在所述原始衬底上的正投影完全位于所述器件在所述原始衬底上的正投影内。例如，所述器件为微发光二极管，所述微发光二极管在平行于所述原始衬底的方向的最大尺寸为5-20μm。本公开至少一实施例提供一种转印装置，包括：转移基板，被配置为将在原始衬底上形成的多个器件转移至目标基板；激光印刷器，包括空间光调制部件，被配置为根据所述转移基板上的所述多个器件的第一位置信息与所述目标基板上接受待转移器件的第二位置信息的比对结果，对所述激光印刷器进行调制以使所述激光印刷器对所述转移基板上的至少部分器件同时进行定点激光照射。例如，转印装置还包括：数据处理器，与所述空间光调制部件电连接，被配置为将所述第一位置信息与所述第二位置信息进行对比以得到传输至所述空间光调制部件的目标位置信息，所述空间光调制部件根据所述目标位置信息调制所述激光印刷器对所述转移基板上位于转印位置的所述至少部分器件同时进行定点激光照射。例如，所述空间光调制部件为数字微镜阵列。例如，所述数字微镜阵列包括多个微镜，每个所述微镜在平行于所述转移基板的平面的形状为正方形，且尺寸为5.6*5.6μm-12*12μm。例如，转印装置还包括：缩放镜头，位于所述空间光调制部件面向所述转移基板的一侧。附图说明为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。图1A为本公开一实施例提供的转印方法的示意性流程图；图1B为根据图1A所示的转印方法的转印流程示意图；图2A和图2B为本公开一实施例的一示例提供的在原始衬底上形成的器件的结构示意图；图3A-图3C为本公开一实施例的另一示例提供的在原始衬底上形成的器件的结构示意图；图4A为本公开一实施例中将器件从原始衬底转移至转移基板的示意图；图4B和图4C为本公开一实施例提供的转移基板的示意图；图5A-图5C分别为本公开一实施例的一示例提供的第一位置信息、第二位置信息以及第一目标位置信息的示意图；图6A为本公开一实施例提供的定点转移过程示意图；图6B为图6A所示的数字微镜阵列的局部结构示意图；图6C为图6B所示的数字微镜阵列沿II线所截的截面示意图；图6D为本公开一实施例提供的激光脉冲与数字微镜阵列的时序关系图；图7为本公开一实施例提供的器件的转移过程示意图；图8A-图8C分别为本公开一实施例的另一示例提供的第一位置信息、第二位置信息以及第一目标位置信息的示意图；图9A为本公开一实施例的一示例提供的转移基板上的另一部分的示意图；图9B为图9A所示的转移基板上的器件的第二子位置信息示意图；图10A-图10C分别为本公开一实施例的另一示例提供的第一位置信息和两个第二位置信息的示意图；图11为本公开一实施例的另一示例提供的第二位置信息示意图；以及图12为本公开另一实施例提供的转印装置的示意图。具体实施方式为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本公开保护的范围。除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种转印方法，包括：将原始衬底上形成的多个器件转移至转移基板；获取所述转移基板上的所述多个器件所在位置的第一位置信息；获取目标基板上待转移器件对应位置的第二位置信息；比较所述第一位置信息与所述第二位置信息以得到记载第一转印位置的第一目标位置信息；以及将所述转移基板与所述目标基板对位，并根据所述第一目标位置信息对所述转移基板上的与所述第一转印位置对应的至少部分器件同时进行定点激光照射以将所述至少部分器件从所述转移基板转移到所述目标基板上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种转印方法，包括：将原始衬底上形成的多个器件转移至转移基板；获取所述转移基板上的所述多个器件所在位置的第一位置信息；获取目标基板上待转移器件对应位置的第二位置信息；比较所述第一位置信息与所述第二位置信息以得到记载第一转印位置的第一目标位置信息；以及将所述转移基板与所述目标基板对位，并根据所述第一目标位置信息对所述转移基板上的与所述第一转印位置对应的至少部分器件同时进行定点激光照射以将所述至少部分器件从所述转移基板转移到所述目标基板上。2.根据权利要求1所述的转印方法，其中，进行定点激光照射包括：将所述第一目标位置信息输入具有空间光调制部件的激光印刷器中，以使所述空间光调制部件调制所述激光印刷器对所述转移基板上的与所述第一转印位置对应的至少部分器件同时进行激光照射。3.根据权利要求1或2所述的转印方法，其中，比较所述第一位置信息与所述第二位置信息以得到所述第一目标位置信息包括：如果所述第一位置信息包括所述第二位置信息中记载的全部位置，则所述第一目标位置信息为所述第二位置信息。4.根据权利要求3所述的转印方法，其中，所述第一位置信息包括多个所述第二位置信息记载的全部位置，多个所述第一目标位置信息为多个所述第二位置信息，所述转移基板被配置为与多个所述目标基板分别进行对位，然后根据多个所述第一目标位置信息将所述转移基板上的器件分别向多个所述目标基板转移。5.根据权利要求1或2所述的转印方法，其中，所述第一位置信息包括多个子位置信息，比较所述第一位置信息与所述第二位置信息以得到所述第一目标位置信息还包括：如果所述多个子位置信息中的第一子位置信息仅包括所述第二位置信息中记载的部分位置，将所述第二位置信息划分为第一子位置信息涵盖的第一信息区和包括被第一子位置信息遗漏的位置信息的第二信息区，所述第一目标位置信息为所述第一信息区的位置信息。6.根据权利要求5所述的转印方法，还包括：比较所述多个子位置信息中的第二子位置信息与所述第二信息区中的位置信息以得到记载第二转印位置的第二目标位置信息，其中，如果所述第二子位置信息包括所述第二信息区中记载的全部位置，则所述第二信息区中的位置信息为所述第二目标位置信息；根据所述第二目标位置信息，对所述转移基板上的与所述第二转印位置对应的至少部分器件同时进行定点激光照射。7.根据权利要求1-6任一项所述的转印方法，其中，获取所述第一位置信息包括：对所述转移基板进行光学扫描以获得所述多个器件在所述转移基板上的位置信息。8.根据权利要求2所述的转印方法，其中，所述激光印刷器的激光脉冲开启时间处于所述空间光调制部件的开启时间内。9.根据权利要求1-8任...

【专利技术属性】
技术研发人员：栾兴龙，冯京，李付强，王志冲，刘鹏，黎午升，刘春景，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11