一种基材表面处理方法、壳体、摄像头模组及电子设备技术

本申请涉及电子设备技术领域，具体公开了一种壳体，包括：基材，包括一外表面，且基材上开设有贯穿外表面的通孔，通孔外围设有一目标区域，目标区域在Lab颜色模型中对应的L值为20‑30；减反射层，设置在基材上的目标区域内，其中，设置有减反射层的目标区域在Lab颜色模型中对应的L值为5‑15。通过上述方式，本申请壳体表面的目标区域在Lab颜色模型中对应的L值降低至5‑15，满足用户对电子设备的表面外观要求。

A Surface Treatment Method for Substrate, Shell, Camera Module and Electronic Equipment

【技术实现步骤摘要】
一种基材表面处理方法、壳体、摄像头模组及电子设备
本申请涉及电子设备
，特别是涉及一种基材表面处理方法、壳体、摄像头模组及电子设备。
技术介绍
随着移动终端技术的进步，手机、PDA(personaldigitalassistant，个人数字助理)、数码相框等电子设备得到越来越广泛地应用。随着人们对电子设备表面外观要求的日益提升，电子设备壳体的表面处理方法得到了广泛关注，但是喷涂工艺形成的色彩图案无法满足用户对电子设备的表面外观要求。
技术实现思路
本申请主要解决的技术问题是现有技术无法满足用户对电子设备的表面外观要求，为此，本申请提供一种基材表面处理方法、壳体、摄像头模组以及电子设备，本申请壳体表面的目标区域在Lab颜色模型中对应的L值降低至5-15，满足用户对电子设备的表面外观要求。为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种壳体，包括：基材，包括一外表面，且所述基材上开设有贯穿所述外表面的通孔，所述通孔外围设有一目标区域，所述目标区域在Lab颜色模型中对应的L值为20-30；减反射层，设置在所述基材上的目标区域内，其中，设置有所述减反射层的所述目标区域在Lab颜色模型中对应的L值为5-15。为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：提供一种壳体，基材表面处理方法包括：提供一基材，包括一外表面，且基材上开设有贯穿外表面的通孔，通孔外围设有一目标区域，目标区域在Lab颜色模型中对应的L值为20-30；在目标区域形成减反射层，以使设置有减反射层的目标区域在Lab颜色模型中对应的L值为5-15。为解决上述技术问题，本申请采用的又一个技术方案是：提供一种摄像头模组，包括摄像头支架、摄像头以及摄像头盖板，摄像头支架为如前述的壳体，摄像头支架固定在电子设备电路板上且与电路板之间形成收容空间，摄像头位于收容空间内且摄像头正对摄像头支架的通孔；摄像头盖板包括透光部以及承载透光部的摄像头盖板本体，摄像头盖板盖合在摄像头支架上，透光部正对通孔以透过进入摄像头的光线；其中，摄像头盖板本体在Lab颜色模型中对应的L值为5-15。为解决上述技术问题，本申请采用的再一个技术方案是：提供一种电子设备，包括如前述的摄像头模组。本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请的壳体包括基材，基材上开设有贯穿外表面的通孔，通孔外围设有一目标区域，其中，目标区域在Lab颜色模型中对应的L值为20-30。本申请通过对该目标区域进行减反射处理，以在基材上形成减反射层，利用减反射层的减反射特性，可以使入射光在目标区域上的反射率减少至0.5％，甚至完全消除反射光，以使目标区域在Lab颜色模型中对应的L值降低至5-15，即目标区域显得更黑，有效提升壳体的外观表现力，以满足用户对壳体的表面外观要求。附图说明为了更清楚地说明本申请实施方式中的技术方案，下面将对实施方式描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：图1是本申请基材表面处理方法第一实施方式的流程示意图；图2是本申请基材表面处理方法第二实施方式的流程示意图；图3是本申请基材表面处理方法第三实施方式的流程示意图；图4是本申请基材表面处理方法第四实施方式的流程示意图；图5是图4中步骤S30的流程示意图；图6是本申请基材表面处理方法第五实施方式的流程示意图；图7是本申请基材表面处理方法第六实施方式的流程示意图；图8是本申请壳体一实施方式的结构示意图；图9是图8中目标区域的第一结构示意图；图10是图8中目标区域的第二结构示意图；图11是图8中目标区域的第三结构示意图；图12是图8中减反射层的结构示意图；图13是本申请摄像头模组一实施方式的第一结构示意图；图14是本申请摄像头模组一实施方式的第二结构示意图；图15是本申请电子设备一实施方式的结构示意图。具体实施方式下面将结合本申请实施方式中的附图，对本申请实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式仅仅是本申请一部分实施方式，而不是全部实施方式。基于本申请中的实施方式，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本申请保护。参阅图1，图1是本申请基材表面处理方法第一实施方式的流程示意图。本申请提供一种基材表面处理方法，基材表面处理方法包括以下步骤：S11：提供一基材。该基材包括一外表面，且基材上开设有贯穿外表面的通孔，通孔外围设有一目标区域，目标区域在Lab颜色模型中对应的L值为20-30。具体的，基材可以用作摄像头支架，基材上开设的通孔正对摄像头，基材本体可以起到遮光的效果，由此，光线可以从通孔进入到摄像头内，以满足摄像头的拍摄光线需求。目标区域可以为基材外表面上围设于通孔边缘的预设区域，可以理解的是，目标区域可以为基材的整个外表面，也可以为位于通孔边缘的环形区域或矩形区域，在此不做限定。可以理解的是，Lab颜色模型中L值范围在0-100，L值越大则目标区域越亮，L值越小则目标区域越暗。目标区域在Lab颜色模型中对应的L值为20-30，例如，L值为20、25或30。其中，可以通过对目标区域进行预处理，以使目标区域的L值为20-30，例如，在基材的外表面上涂覆不透光涂料，或选择材质为不透光材料的基材，例如黑色塑料、黑色橡胶或阳极氧化后的铝合金等等。S12：在目标区域形成减反射层，以使设置有减反射层的目标区域在Lab颜色模型中对应的L值为5-15。具体的，可以采用溶胶-凝胶工艺、真空镀膜工艺、射频溅射工艺或者磁控溅射工艺对目标区域对目标区域进行减反射处理，以在目标区域上形成一减反射层。其中，如果膜层的光学厚度是某一波长的四分之一，相邻两束光的光程差恰好为π，即振动方向相反，叠加的结果使光学表面对该波长的反射光减少。适当选择膜层折射率，这时光学表面的反射光可以完全消除。一般情况下，采用单层增透膜很难达到理想的增透效果，为了在单波长实现零反射，或在较宽的光谱区达到好的增透效果，往往采用双层、三层甚至更多层数的减反射层。例如，减反射层的厚度可以为可见光的波长的四分之一，用于减少该厚度所对应波长的光波，其中，可见光的波长范围为400-700nm，则减反射层的厚度范围可以为100-175nm，以消除可见光的反射光。通过适当选择减反射层的折射率，可以完全消除目标区域表面的反射光。利用减反射层的减反射特性，可以使入射光在目标区域上的反射率减少至0.5％，甚至完全消除反射光，以使目标区域在Lab颜色模型中对应的L值降低至5-15，例如5、10或15。即目标区域显得更黑，有效提升基材的外观表现力，以满足用户对电子设备的表面外观要求。进一步地，在步骤S12之前，可以先对基材上的目标区域进行预处理，其中，预处理包括清洗、除尘以及风干，例如，依次以去污剂、去离子水、丙酮和酒精对基材进行超声清洗，并经氮气或氩气吹干，以增加后续制程的附着力。在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“轴向”、“径向”、本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种壳体，其特征在于，包括：基材，包括一外表面，且所述基材上开设有贯穿所述外表面的通孔，所述通孔外围设有一目标区域，所述目标区域在Lab颜色模型中对应的L值为20‑30；减反射层，设置在所述基材上的目标区域内，其中，设置有所述减反射层的所述目标区域在Lab颜色模型中对应的L值为5‑15。

【技术特征摘要】
1.一种壳体，其特征在于，包括：基材，包括一外表面，且所述基材上开设有贯穿所述外表面的通孔，所述通孔外围设有一目标区域，所述目标区域在Lab颜色模型中对应的L值为20-30；减反射层，设置在所述基材上的目标区域内，其中，设置有所述减反射层的所述目标区域在Lab颜色模型中对应的L值为5-15。2.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述减反射层的厚度为300-400nm，所述减反射层包括交替层叠设置且光学膜厚不同的第一折射率材料层和第二折射率材料层；所述第一折射率材料层的材料选自氧化钛(TiO2)或氧化硅(SiO2)中的至少一种，所述第一折射率材料层的厚度为10-200nm；所述第二折射率材料层的材料选自氧化钛(TiO2)、氧化镧(La2O3)、或钛酸镧(LaTiO3)中的至少一种，所述第二折射率材料层的厚度为10-30nm。3.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，在所述在基材的材料选自铝及其合金时，所述壳体进一步包括：阳极氧化层，形成在所述基材的外表面上；或者在所述基材的材料选自不锈钢、塑胶件、玻璃或陶瓷中的至少一种时，所述壳体进一步包括：不透光哑光漆层，形成在所述基材的外表面上，其中，所述不透光哑光漆层的厚度为30-40μm。4.一种基材表面处理方法，其特征在于，所述基材表面处理方法包括：提供一基材，包括一外表面，且所述基材上开设有贯穿所述外表面的通孔，所述通孔外围设有一目标区域，所述目标区域在Lab颜色模型中对应的L值为20-30；在所述目标区域形成减反射层，以使设置有所述减反射层的所述目标区域在Lab颜色模型中对应的L值为5-15。5.根据权利要求4所述的基材表面处理方法，其特征在于，所述在所述目标区域形成减反射层的步骤包括：开启离子源，并在所述目标区域上交替层叠设置光学膜厚不同的第一折射率材料层和第二折射率材料层，以在所述目标区域形成所述减反射层。6.根据权利要求5所述的基材表面处理方法，其特征在于，所述减反...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋正南，杨光明，
申请(专利权)人：OPPO广东移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44