【技术实现步骤摘要】
真空吸附治具
本技术涉及光学晶片加工辅助工具
，尤其是真空吸附治具。
技术介绍
光学晶片在加工时，需要在治具上固定，为保证在加工过程中不能有任何的移动，通常采用多排式真空吸附平台治具，通过吸盘的方式实现真空吸附。请参考图1所示，多排式真空吸附平台治具是在平面的支撑台101上开设有多排吸附孔102，由于多排式真空吸附平台治具在吸附光学晶片时需要吸孔102全部覆盖在光学晶片上，因此光学晶片与支撑台101的接触面积较大。当加工的光学晶片厚度较薄时，加工过程中一旦有掉下的碎屑或有其他异物掉落在支撑台101上，光学晶片与支撑台101表面接触时存在不平整的情况，在真空压力的吸附下光学晶片从异物处开始惊裂，导致报废。
技术实现思路
本技术针对上述问题，提出了一种真空吸附治具，吸附可靠，支撑台与光学晶片的接触面积小，能够有效保护光学晶片，减少光学晶片发生惊裂。本技术采取的技术方案如下：本技术提供一种真空吸附治具，用于固定光学晶片，包括支撑台，包括支撑台，所述支撑台的上端面设有凹槽和数个吸附孔，数个吸附孔贯通支撑台，数个吸附孔围绕凹槽设置，用于吸附光学晶片。于本技术一实施例中，还包括...
【技术保护点】
1.一种真空吸附治具，用于固定光学晶片，其特征在于，包括支撑台，所述支撑台的上端面设有凹槽和数个吸附孔，数个吸附孔贯通支撑台，数个吸附孔围绕凹槽设置，用于吸附光学晶片。
【技术特征摘要】
1.一种真空吸附治具，用于固定光学晶片，其特征在于，包括支撑台，所述支撑台的上端面设有凹槽和数个吸附孔，数个吸附孔贯通支撑台，数个吸附孔围绕凹槽设置，用于吸附光学晶片。2.如权利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述支撑台的下端面设有吸气槽，数个吸附孔均与所述吸气槽连通。3.如权利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述凹槽与所述支撑...
【专利技术属性】
技术研发人员：罗远昭，
申请(专利权)人：浙江台佳电子信息科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33
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