一种在陶瓷表面高效渗镍的方法技术

技术编号:21595039 阅读:37 留言:0更新日期:2019-07-13 15:08
一种在陶瓷表面高效渗镍的方法,包括如下步骤:步骤1:将镀镍后的陶瓷片置于链式炉中;步骤2:将陶瓷片在一定气氛、一定温度和一定时间下进行渗镍热处理操作;步骤3:将经过渗镍热处理操作的陶瓷片在一定条件下冷却。本发明专利技术采用上述渗镍艺的热处理温度更低且热处理时间更短,即更节能;同时,产品外观不存在镀镍层不均匀的情况,即产品的可靠性更好。

A Method of High Efficiency Nickelizing on Ceramic Surface

【技术实现步骤摘要】
一种在陶瓷表面高效渗镍的方法
本专利技术涉及高功率光纤激光器用陶瓷封接领域。
技术介绍
按照传统的光纤激光器用陶瓷与无氧铜封接的做法,一般的方法是首先对陶瓷进行金属化,然后镀镍,接着将镀镍层与无氧铜进行钎焊,但是由于镀镍层太薄且与基体结合不佳,因此需要对镀镍层进行渗镍处理,确保镀镍层与金属化层结合致密。传统的镀镍层进行渗镍操作的方法是,在链式炉中进行,保护气氛为氮气,热处理温度为900℃-1000℃,保温时间约为30-50分钟。采用该工艺存在的最大问题是,由于渗镍热处理温度过高,导致镀镍层流淌严重,直接影响了产品外观和均匀性,同时渗镍处理时间过长,影响了生产效率。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题在于:克服现有技术的缺陷,提出一种在陶瓷表面高效渗镍的方法。为了解决上述技术问题,本专利技术提出下列技术方案:一种在陶瓷表面高效渗镍的方法,其包括如下步骤:步骤1:将镀镍后的陶瓷片置于链式炉中;步骤2:将陶瓷片在一定气氛、一定温度和一定时间下进行渗镍热处理操作;步骤3:将经过渗镍热处理操作的陶瓷片在一定条件下冷却。上述技术方案的进一步限定在于,步骤2中,气氛为氩气+5%氢气。上述技术方案的进一步限定在于,步骤2中,温度为800-900℃。上述技术方案的进一步限定在于,步骤2中,热处理时间为15-20分钟。上述技术方案的进一步限定在于,步骤3中,冷却速率为20℃/min。与现有技术相比,本专利技术具有下列有益效果:本专利技术采用上述渗镍艺的热处理温度更低且热处理时间更短,即更节能;同时,产品外观不存在镀镍层不均匀的情况,即产品的可靠性更好。具体实施方式一种在陶瓷表面高效渗镍的方法,其包括如下步骤:步骤1:将镀镍后的陶瓷片置于链式炉中;步骤2:将陶瓷片在一定气氛、一定温度和一定时间下进行渗镍热处理操作;步骤3:将经过渗镍热处理操作的陶瓷片在一定条件下冷却。步骤2中,气氛为氩气+5%氢气。步骤2中,温度为800-900℃。步骤2中,热处理时间为15-20分钟。步骤3中,冷却速率为20℃/min。下表中是各实施例的技术效果。序号热处理气氛热处理温度热处理时间渗镍效果实施例1氩气+5%氢气80015好实施例2氩气+5%氢气80020好实施例3氩气+5%氢气85020好实施例4氩气+5%氢气85015好实施例5氩气+5%氢气90015好本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种在陶瓷表面高效渗镍的方法,其特征在于,其包括如下步骤:步骤1:将镀镍后的陶瓷片置于链式炉中;步骤2:将陶瓷片在一定气氛、一定温度和一定时间下进行渗镍热处理操作;步骤3:将经过渗镍热处理操作的陶瓷片在一定条件下冷却。

【技术特征摘要】
1.一种在陶瓷表面高效渗镍的方法,其特征在于,其包括如下步骤:步骤1:将镀镍后的陶瓷片置于链式炉中;步骤2:将陶瓷片在一定气氛、一定温度和一定时间下进行渗镍热处理操作;步骤3:将经过渗镍热处理操作的陶瓷片在一定条件下冷却。2.根据权利要求1所述的在陶瓷表面高效渗镍的方法,其特征在于,步骤2中,气氛为氩气...

【专利技术属性】
技术研发人员:许乐
申请(专利权)人:深圳市宏钢机械设备有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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